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公开(公告)号:JP6879642B2
公开(公告)日:2021-06-02
申请号:JP2017201901
申请日:2017-10-18
申请人: 株式会社半導体エネルギー研究所
发明人: 山梶 正樹
IPC分类号: C01B32/182 , H01M10/0565 , H01M10/052 , H01G11/56 , H01G9/00 , H01G9/022 , H01G9/032 , H01G9/15 , C01B32/194 , C01B32/198 , H01B1/06
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公开(公告)号:JP2019140249A
公开(公告)日:2019-08-22
申请号:JP2018022361
申请日:2018-02-09
申请人: 信越ポリマー株式会社
发明人: 鈴木 健一
IPC分类号: H01G9/00 , C08G61/12 , C08G65/32 , C08K5/3445 , C08L25/18 , H01B1/20 , H01B1/12 , H01B1/06 , H01G9/032
摘要: 【課題】等価直列抵抗が従来よりも小さく、耐熱性に優れたキャパシタ及びその製造方法、並びにそのキャパシタの製造に適した導電性高分子分散液を提供する。 【解決手段】弁金属の多孔質体からなる陽極11と、前記弁金属の酸化物からなる誘電体層12と、前記誘電体層の、前記陽極と反対側に設けられた導電物質製の陰極13と、前記誘電体層及び前記陰極の間に形成された固体電解質層14とを具備し、前記固体電解質層が、π共役系導電性高分子及びポリアニオンを含む導電性複合体と、ビスフェノール化合物誘導体を含む、キャパシタ10。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP2019068007A
公开(公告)日:2019-04-25
申请号:JP2017194691
申请日:2017-10-04
申请人: 日本ケミコン株式会社
摘要: 【課題】陰極の導電性高分子層によるレドックス容量をできるだけ高く保ちつつコンデンサを長寿命へと導く電解液を備えた電解コンデンサを提供する。 【解決手段】導電性基体と該導電性基体の表面に設けられた導電性高分子層とを有する陰極と、弁金属からなる基体と基体の表面に設けられた弁金属の酸化物からなる誘電体層とを有し、誘電体層と陰極の導電性高分子層とが空間を開けて対向するように配置されている陽極と、空間に充填されているイオン伝導性電解質とを備え、陽極と陰極との間に電圧を印加することによりイオン伝導性電解質と接触している陰極の導電性高分子層がレドックス容量を発現する電解コンデンサであって、イオン伝導性電解質が水を含む電解液であり、該電解液の水含有量が電解液全体の1〜10質量%の範囲である。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP2019068004A
公开(公告)日:2019-04-25
申请号:JP2017194677
申请日:2017-10-04
申请人: 日本ケミコン株式会社
摘要: 【課題】陰極の導電性高分子層によるレドックス容量を信頼性良く発現させることが可能な電解コンデンサを提供する。 【解決手段】導電性基体と該導電性基体の表面に設けられた導電性高分子層とを有する陰極と、弁金属からなる基体と基体の表面に設けられた弁金属の酸化物からなる誘電体層とを有し、誘電体層と陰極の導電性高分子層とが空間を開けて対向するように配置されている陽極と、空間に充填されているイオン伝導性電解質と、を備え、陽極と陰極との間に電圧を印加することにより、イオン伝導性電解質と接触している陰極の導電性高分子層がレドックス容量を発現する電解コンデンサであって、陰極における導電性基体と導電性高分子層との接触抵抗が1Ωcm 2 以下である。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP2018074046A
公开(公告)日:2018-05-10
申请号:JP2016213668
申请日:2016-10-31
申请人: パナソニックIPマネジメント株式会社
CPC分类号: C25D11/12 , C25D11/06 , C25D11/08 , C25D11/16 , H01G9/0036 , H01G9/022 , H01G9/028 , H01G9/032 , H01G9/035 , H01G9/04 , H01G9/055 , H01G9/07 , H01G9/145 , H01G9/151
摘要: 【課題】漏れ電流が小さく、耐熱性に優れ、低ESRを維持できる電解コンデンサを提供する。 【解決手段】電解コンデンサは、誘電体層を有する陽極体と、陽極体の誘電体層に接触した固体電解質層と、電解液と、を備える。固体電解質層は、π共役系導電性高分子を含む。電解液は、溶媒および溶質を含み、溶媒は、グリコール化合物と、スルホン化合物とを含む。溶媒に含まれるグリコール化合物の割合が、10質量%以上である。溶媒に含まれるスルホン化合物の割合が、30質量%以上である。溶媒に含まれるグリコール化合物およびスルホン化合物を合計した割合が、70質量%以上である。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP2018065740A
公开(公告)日:2018-04-26
申请号:JP2017201901
申请日:2017-10-18
申请人: 株式会社半導体エネルギー研究所
发明人: 山梶 正樹
IPC分类号: H01M10/0565 , H01M10/052 , H01G11/56 , H01G9/032 , C01B32/194 , C01B32/198 , C01B32/182
CPC分类号: H01M10/0562 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/194 , C01B32/198 , C07D301/00 , C07D303/40 , C07F7/1804 , C07F7/188 , H01M10/0525 , H01M10/056 , H01M2300/0068 , H01M2300/0091 , Y10S977/734 , Y10S977/847 , Y10S977/948
摘要: 【課題】絶縁性及びリチウムイオンへの親和性を有するグラフェン化合物を提供する。 【解決手段】グラフェン化合物の有する置換基の分子量を増加させる。また、エーテル結合またはエステル結合を含む鎖状の基を有するグラフェン化合物を提供する。また、単数または複数の枝分かれを含む置換基を有するグラフェン化合物を提供する。また、エステル結合またはアミド結合の少なくともいずれか一方を含む置換基を有するグラフェン化合物を提供する。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP6184661B2
公开(公告)日:2017-08-23
申请号:JP2012048536
申请日:2012-02-16
申请人: エイヴィーエックス コーポレイション
发明人: マルティン ビラー , ヤン ペトルジレック , イヴァナ ゼドニコヴァ
CPC分类号: H01G9/10 , H01G13/003 , H01G4/228 , H01G9/0036 , H01G9/012 , H01G9/032 , H01G9/042 , H01G9/0525 , H01G9/06 , H01G9/15 , H01G2/065 , H01G2009/05 , H01G9/08 , Y10T29/417
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