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公开(公告)号：KR1020170017825A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：KR1020160100094
申请日：2016-08-05
发明人： 제임스더블유.새커리 , 케두 , 피터트레포나스3세 , 이드리스블레이키 , 앤드류키이스휘터커
IPC分类号： C08F220/18 , C08F2/48 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： C08F220/28 , B05D1/005 , C08F2220/281 , C08F2438/03 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/20 , C08F2220/286 , C08F2220/185 , C08F220/22 , C08F220/18 , C08F2/48 , G03F7/70033 , H01L21/0273
摘要： 코폴리머는자외선흡수모노머, 및염기-용해도-향상모노머를포함하는모노머들의중합에의해제조된다. 코폴리머는전자빔및 극자외선리소그래피(lithography)를위한톱코트층을형성시키기위해유용하다. 또한, 톱코트층을포함하는층상물품, 및전자소자를형성시키는관련된방법이기술된다.
摘要翻译： 通过包含紫外线吸收单体和碱溶性增强单体的单体的聚合制备共聚物。 该共聚物可用于形成用于电子束和极紫外光刻的顶涂层。 还描述了包括顶涂层的层状制品以及形成电子装置的相关方法。
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公开(公告)号：KR101830092B1
公开(公告)日：2018-02-20
申请号：KR1020160100041
申请日：2016-08-05
发明人： 제임스더블유.새커리 , 케두 , 피터트레포나스3세 , 이드리스블레이키 , 앤드류키이스휘터커
CPC分类号： C08F293/00 , C08F220/22 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C09D153/00 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2004 , G03F7/2059 , G03F7/322 , C08F2220/283 , C08F2220/1866 , C08F2220/382 , C08F2220/185
摘要： 전자빔 및극자외선포토리소그래피에서유용한블록코폴리머는염기-용해도-향상모노머및 대역외흡수모노머로부터유도된단위를갖는제1 블록, 및낮은표면에너지를갖는제2 블록을포함한다. 상기대역외흡수모노머로부터유도된반복단위는, 상기코폴리머가 150 내지 400 나노미터범위의파장에서유의미하게흡수하도록한다. 포토레지스트랜덤폴리머를갖는포토레지스트조성물에편입될때, 상기블록코폴리머는자가-분리되어대역외방사선을효과적으로차단하는최상층을형성한다.
摘要翻译： 用于电子束和紫外光刻的嵌段共聚物包括具有衍生自碱增溶性单体和带外吸收单体的单元的第一嵌段和具有低表面能的第二嵌段。 衍生自带外吸收单体的重复单元使共聚物在150至400纳米范围内的波长处显着吸收。 当掺入具有光致抗蚀剂无规聚合物的光致抗蚀剂组合物中时，嵌段共聚物自我分离以形成有效阻断带外辐射的顶层。
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公开(公告)号：KR101874485B1
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：KR1020160094574
申请日：2016-07-26
发明人： 제임스더블유.새커리 , 멜리아나샤오 , 피터트레포나스3세 , 이드리스블레이키 , 앤드류키이스휘터커
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/09 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0047 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/094 , G03F7/162 , G03F7/20 , G03F7/2037 , G03F7/325
摘要： 코어, 및코어를둘러싸는코팅물을포함하는나노입자; 및폴리머를포함하는블렌드인복합체로서, 상기나노입자의코팅물은리간드를포함하고, 상기리간드는치환된또는비치환된 C-C카복실산또는그것의염, 치환된또는비치환된 C-C아미노산또는그것의염, 치환된또는비치환된 C-C디알킬포스포네이트, 또는이들의조합이고; 상기폴리머는중합성기를포함하는광산발생제; 중합성기를포함하는광산발생제와는상이한, 적어도하나의불포화된모노머; 및하기식 (I)의사슬이동제의중합생성물이다:식중: Z는 y가 C유기기이고, x는 0 또는 1이고, R는치환된또는비치환된 C알킬, C사이클로알킬, C아릴, 또는 C아르알킬이다.
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公开(公告)号：KR101838189B1
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：KR1020160100094
申请日：2016-08-05
发明人： 제임스더블유.새커리 , 케두 , 피터트레포나스3세 , 이드리스블레이키 , 앤드류키이스휘터커
IPC分类号： C08F220/18 , C08F2/48 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G01N21/6428 , A24B1/04 , A24B13/00 , A24B15/10 , B05D1/005 , B07C5/3427 , B07C5/366 , B07C2501/0018 , B65G27/00 , C08F220/28 , C08F2220/281 , C08F2438/03 , C10L1/003 , C10N2240/56 , G01N21/359 , G01N21/55 , G01N21/6486 , G01N21/84 , G01N21/85 , G01N21/94 , G01N21/95 , G01N21/952 , G01N2021/6417 , G01N2021/6439 , G01N2021/646 , G01N2021/8411 , G01N2021/845 , G01N2021/8466 , G01N2021/8592 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/20 , C08F2220/286 , C08F2220/185 , C08F220/22
摘要： 코폴리머는자외선흡수모노머, 및염기-용해도-향상모노머를포함하는모노머들의중합에의해제조된다. 코폴리머는전자빔및 극자외선리소그래피(lithography)를위한톱코트층을형성시키기위해유용하다. 또한, 톱코트층을포함하는층상물품, 및전자소자를형성시키는관련된방법이기술된다.
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公开(公告)号：KR101898007B1
公开(公告)日：2018-09-12
申请号：KR1020180026912
申请日：2018-03-07
发明人： 제임스더블유.새커리 , 케두 , 피터트레포나스3세 , 이드리스블레이키 , 앤드류키이스휘터커
IPC分类号： C08F220/18 , C08F2/48 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G01N21/6428 , A24B1/04 , A24B13/00 , A24B15/10 , B05D1/005 , B07C5/3427 , B07C5/366 , B07C2501/0018 , B65G27/00 , C08F220/28 , C08F2220/281 , C08F2438/03 , C10L1/003 , C10N2240/56 , G01N21/359 , G01N21/55 , G01N21/6486 , G01N21/84 , G01N21/85 , G01N21/94 , G01N21/95 , G01N21/952 , G01N2021/6417 , G01N2021/6439 , G01N2021/646 , G01N2021/8411 , G01N2021/845 , G01N2021/8466 , G01N2021/8592 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/20 , C08F2220/286 , C08F2220/185 , C08F220/22
摘要： 코폴리머는자외선흡수모노머, 및염기-용해도-향상모노머를포함하는모노머들의중합에의해제조된다. 코폴리머는전자빔및 극자외선리소그래피(lithography)를위한톱코트층을형성시키기위해유용하다. 또한, 톱코트층을포함하는층상물품, 및전자소자를형성시키는관련된방법이기술된다.
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公开(公告)号：KR1020170017824A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：KR1020160100041
申请日：2016-08-05
发明人： 제임스더블유.새커리 , 케두 , 피터트레포나스3세 , 이드리스블레이키 , 앤드류키이스휘터커
CPC分类号： C08F293/00 , C08F220/22 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C09D153/00 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2004 , G03F7/2059 , G03F7/322 , G03F7/004 , G03F7/0002 , G03F7/70033 , H01L21/0275
摘要： 전자빔 및극자외선포토리소그래피에서유용한블록코폴리머는염기-용해도-향상모노머및 대역외흡수모노머로부터유도된단위를갖는제1 블록, 및낮은표면에너지를갖는제2 블록을포함한다. 상기대역외흡수모노머로부터유도된반복단위는, 상기코폴리머가 150 내지 400 나노미터범위의파장에서유의미하게흡수하도록한다. 포토레지스트랜덤폴리머를갖는포토레지스트조성물에편입될때, 상기블록코폴리머는자가-분리되어대역외방사선을효과적으로차단하는최상층을형성한다.
摘要翻译： 可用于电子束和极紫外光刻的嵌段共聚物包括具有衍生自碱溶性增强单体和带外吸收单体的单元的第一嵌段和具有低表面能的第二嵌段。 来自禁止吸收单体的重复单元使共聚物在150至400纳米的波长范围内显着吸收。 当用光致抗蚀剂无规聚合物掺入光致抗蚀剂组合物时，嵌段共聚物自分离以形成有效屏蔽带外辐射的顶层。
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公开(公告)号：KR1020170015183A
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：KR1020160094574
申请日：2016-07-26
发明人： 제임스더블유.새커리 , 멜리아나샤오 , 피터트레포나스3세 , 이드리스블레이키 , 앤드류키이스휘터커
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/09 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0047 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/094 , G03F7/162 , G03F7/20 , G03F7/2037 , G03F7/325
摘要： 코어, 및코어를둘러싸는코팅물을포함하는나노입자; 및폴리머를포함하는블렌드인복합체로서, 상기나노입자의코팅물은리간드를포함하고, 상기리간드는치환된또는비치환된 C-C카복실산또는그것의염, 치환된또는비치환된 C-C아미노산또는그것의염, 치환된또는비치환된 C-C디알킬포스포네이트, 또는이들의조합이고; 상기폴리머는중합성기를포함하는광산발생제; 중합성기를포함하는광산발생제와는상이한, 적어도하나의불포화된모노머; 및하기식 (I)의사슬이동제의중합생성물이다:식중: Z는 y가 C유기기이고, x는 0 또는 1이고, R는치환된또는비치환된 C알킬, C사이클로알킬, C아릴, 또는 C아르알킬이다.
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