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公开(公告)号：KR20180030445A
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：KR20170117110
申请日：2017-09-13
发明人： HARUMOTO MASAHIKO , KANEYAMA KOJI , TANAKA YUJI , ASAI MASAYA
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/20 , H01L21/306 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/02118 , H01L21/02348 , H01L21/31133 , H01L21/67225 , H01L21/68764
摘要： 제1 기간에, 기판이회전되면서저휘발액으로서의순수가기판상에공급된다. 저휘발액의토출이정지된후에는, DSA막상의광범위한영역에저휘발액이잔류한다. 저휘발액은 DSA막과반응하지않고 DSA막상에유지된다. 이어지는제2 기간에, 기판이회전되면서기판에유기용제가공급된다. 기판에공급되는유기용제는 DSA막상에잔류하는저휘발액과혼합된다. 이경우, DSA막상에서유기용제의휘발이억제된다.
摘要翻译： 在第一阶段期间，当基板旋转时，将用作低挥发性液体的纯水供应到基板上。 在低挥发性液体的排放停止后，低挥发性液体保留在DSA膜上的大区域中。 低挥发性液体保持在DSA膜上而不与DSA膜反应。 在接下来的第二阶段期间，当衬底旋转时向衬底供应有机溶剂。 提供给基材的有机溶剂与残留在DSA膜上的低挥发性液体混合。 在这种情况下，DSA膜上的有机溶剂的挥发被抑制。
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公开(公告)号：KR20200131757A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：KR20200056496
申请日：2020-05-12
发明人： TANAKA YUJI , ASAI MASAYA , HARUMOTO MASAHIKO , MORI CHISAYO , ARISAWA YOU , MOTONO TOMOHIRO , KANEYAMA KOJI
摘要： 현상처리부의현상유닛에있어서는, 스핀척에의해기판이수평자세로유지된다. 그기판의상면에는, 레지스트막이형성되어있다. 레지스트막은노광되어있다. 그기판에상온보다낮은온도까지냉각된린스액이공급되어, 기판의온도가상온보다낮은온도로조정된다. 다음으로, 린스액의공급이정지된다. 또한, 기판의상면에상온보다낮은온도까지냉각된현상액이공급되어, 레지스트막과현상액이반응한다. 그후, 냉각된현상액이기판의상면으로부터제거되어, 레지스트막과현상액의반응이정지한다.
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公开(公告)号：KR20180020907A
公开(公告)日：2018-02-28
申请号：KR20170104072
申请日：2017-08-17
发明人： HARUMOTO MASAHIKO , ASAI MASAYA , TANAKA YUJI , KANEYAMA KOJI
CPC分类号： B05D1/60 , B05D3/007 , H01L21/02118 , H01L21/02282 , H01L21/02318
摘要： 챔버내에가열플레이트가수용된다. 챔버내에용제함유기체가존재하는상태로, DSA막이형성된기판이가열플레이트의상방위치에서유지된다. 그로인해, 미크로상분리가발생하지않는온도로분위기의중성화가행해진다. 그후, 챔버내에용제함유기체가존재하는상태로, 기판이가열플레이트의상면상에서유지된다. 그로인해, 기판상의 DSA막에열처리가행해진다.
摘要翻译： 加热板储存在室内。 利用存在于腔室中的含有溶剂的溶剂，其上形成有DSA膜的基板保持在比加热板更上方的位置处。 因此，在不发生微相分离的温度下进行气氛的中和。 之后，利用存在于腔室内的含有溶剂的气体，将基板保持在加热板的上表面。 因此，在衬底上的DSA膜上进行热处理。
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