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    초소수성 시트 및 이의 제조 방법
    3.
    发明公开
    초소수성 시트 및 이의 제조 방법 有权
    超级片及其制造方法

    公开(公告)号：KR1020160080438A

    公开(公告)日：2016-07-08

    申请号：KR1020140192235

    申请日：2014-12-29

    申请人： 부산대학교 산학협력단

    发明人： 김종만 ,  김수형 ,  김태현

    IPC分类号： B81B1/00 ,  B81C1/00

    CPC分类号： B81B1/00 ,  B81B2203/0361 ,  B81C1/00111 ,  B81C2201/0156

    摘要： 초소수성시트및 이의제조방법에서, 초소수성시트는베이스시트상에폴리머로형성되고, 서로이격된다수의마이크로필라들을포함하는마이크로패턴과, 마이크로필라들상에형성되고, 양극산화알루미늄으로형성된미세구조를갖는나노패턴을포함한다.

    摘要翻译： 本发明涉及一种超疏水性片材及其制造方法。 超疏水性片材包括：由基片上的聚合物形成的微图案，具有彼此间隔开的多个微柱; 以及形成在微透镜上的纳米图案，具有由阳极氧化铝形成的精细结构。

    저반사성 초소수 또는 초발수 유리 및 그 제조방법
    4.
    发明授权
    저반사성 초소수 또는 초발수 유리 및 그 제조방법 有权
    低反射和超级玻璃及其制造方法

    公开(公告)号：KR101529528B1

    公开(公告)日：2015-06-18

    申请号：KR1020140001424

    申请日：2014-01-06

    申请人： 한국과학기술연구원

    发明人： 문명운 ,  이헌주 ,  이정심 ,  고태준 ,  오규환 ,  김도현 ,  유의선

    IPC分类号： C03C17/34 ,  C09K3/18 ,  C03C4/00

    CPC分类号： C03C17/42 ,  B81C1/00031 ,  B81C1/00111 ,  B81C2201/0132 ,  C03C15/00 ,  C03C2217/76 ,  C03C2218/153 ,  C03C2218/328 ,  C03C2218/33

    摘要： 본발명은유리표면에발수성혹은소수성을향상시키고동시에반사율을낮춘유리와이의제조방법을제공한다. 유리표면에규소, 규소산화물을포함하는박막을형성하고, 이후 CF등의반응성가스를이용한선택적식각방법으로나노구조를형성하며, 초소수성과저반사특성을부여하고나노구조상에표면에너지가낮은물질을코팅하는기술을포함한다. 본발명의저반사성초소수또는초발수유리의제조방법은초소수및 저반사특성을가진유리를증착과식각의공정을사용하고, 처리가어려웠던유리의표면에우수한초소수성과저반사특성을부여할수 있으며, 그과정에서유독한식각액등을사용하지않아서친환경적이다. 상기초소수저반사유리는첨단스마트기기, 자동차혹은가전제품등 다양한분야에적용할수 있다.

    摘要翻译： 本发明涉及具有改善的防水性或疏水性以及玻璃表面上的降低的反射率的玻璃及其制造方法。 该制造方法包括以下步骤：在玻璃表面上形成包括硅和氧化硅的薄膜; 通过使用诸如CF 4等的反应气体在选择性蚀刻方法中形成纳米结构; 并提供超疏水性和低反射率，并在纳米结构上涂覆具有低表面能的材料。 本发明能够使用具有超疏水性和低反射率的玻璃的沉积和蚀刻工艺，并且在难以处理的玻璃表面上提供优异的超疏水性和低反射率。 本发明通过在工艺中不使用有毒蚀刻溶液也是环保的。 超疏水和低反射玻璃能够应用于高科技智能设备，车辆，家用电器等各个领域。

    3차원 직립형 메타물질 구조물 및 그 제조방법
    5.
    发明公开
    3차원 직립형 메타물질 구조물 및 그 제조방법 有权
    三维标准型金属结构及其制造方法

    公开(公告)号：KR1020120048892A

    公开(公告)日：2012-05-16

    申请号：KR1020100110342

    申请日：2010-11-08

    申请人： 삼성전자주식회사

    发明人： 서환수 ,  백찬욱 ,  손형빈

    IPC分类号： H01P7/10 ,  H03H9/17 ,  H03H3/02 ,  G02B1/00 ,  B81C1/00 ,  H01Q15/00

    CPC分类号： G02B1/002 ,  B81C1/00111 ,  G02F2202/30 ,  H01Q15/0086 ,  Y10S977/834 ,  H01P7/10 ,  H03H3/02 ,  H03H9/17

    摘要： PURPOSE: A 3D standing type meta material structure and a manufacturing method thereof are provided to dynamically control transmission, reflection, and absorption properties by using MEMS(Micro-Electro-Mechanical System) and NIMS(Nano-Electro-Mechanical System) processes. CONSTITUTION: A fixing unit(29) is fixed to a substrate(10). A resonator(20) includes the fixing unit and a plurality of arms. The fixing unit and the plurality of arms include conductive layers. One pair of arms(21,22) form a first split-ring. The first split-ring is vertical to the substrate. Another pair of arms form a second split-ring. The resonator includes a dielectric layer formed on the conductive layer.

    摘要翻译： 目的：提供3D立体型超材料结构及其制造方法，以通过使用MEMS（微机电系统）和NIMS（Nano-Electro-Mechanical System）工艺来动态地控制透射，反射和吸收特性。 构成：固定单元（29）固定在基板（10）上。 谐振器（20）包括固定单元和多个臂。 固定单元和多个臂包括导电层。 一对臂（21,22）形成第一个分裂环。 第一个分裂环垂直于基底。 另一双手臂形成第二个分裂环。 谐振器包括形成在导电层上的电介质层。

    고종횡비 미세 구조물 및 그 제조방법과 고종횡비 미세구조물 어레이 및 그 제조방법
    6.
    发明授权
    고종횡비 미세 구조물 및 그 제조방법과 고종횡비 미세구조물 어레이 및 그 제조방법 有权
    高纵横比微结构和相同和高纵横比微结构阵列的制造方法及其制造方法

    公开(公告)号：KR101016007B1

    公开(公告)日：2011-02-23

    申请号：KR1020080062547

    申请日：2008-06-30

    申请人： 한국과학기술원

    发明人： 이승섭 ,  이석우 ,  이정아

    IPC分类号： B82B3/00 ,  G03F7/20 ,  B82Y40/00

    CPC分类号： G03F7/00 ,  B81B2203/0361 ,  B81B2207/056 ,  B81C1/00111 ,  B81C2201/0159 ,  G03F7/2014

    摘要： 본 발명에 의한 고종횡비 미세 구조물의 제조방법은, 투명 기판의 표면에 패턴 홈을 갖는 포토 마스크를 부착하는 포토 마스크 부착단계와, 포토 마스크의 표면에 네가티브 포토레지스트를 부착하는 포토레지스트 부착단계와, 투명 기판의 포토 마스크가 부착된 부분의 반대쪽에서 빛을 조사하여 패턴 홈을 통해 네가티브 포토레지스트로 조사되는 빛으로 네가티브 포토레지스트의 일부를 경화시키는 노광 단계와, 네가티브 포토레지스트의 노광되지 않은 부분을 제거하여 네가티브 포토레지스트가 경화되어 이루어진 미세 구조물을 드러내는 현상 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 포토리소그라피 공정을 이용하여 미세 구조물을 저렴하고 간편하게 제조할 수 있다.

    미세구조물및그제조방법
    7.
    发明授权
    미세구조물및그제조방법 失效

    公开(公告)号：KR100537282B1

    公开(公告)日：2006-04-21

    申请号：KR1019980010419

    申请日：1998-03-26

    申请人： 지멘스 악티엔게젤샤프트

    发明人： 토벤,덕 ,  웨이간드,피터

    IPC分类号： H01L27/06

    CPC分类号： B81C1/00111 ,  B81C2201/0109 ,  B81C2201/0159 ,  H01L27/10852 ,  H01L28/87 ,  H01L28/88 ,  H01L28/91 ,  H01L28/92

    摘要： 미세 구조물 형성 방법은 제 1 구조물을 제공하도록 기판 표면의 일부에 수직하게 연장하는 기둥을 포토리소그래픽적으로 형성하는 단계를 포함한다. 유동가능한 희생 재료가 제 1 구조물의 표면상에 증착된다. 상기 유동가능한 희생 재료는 제 2 구조물을 제공하도록 기판의 표면의 인접한 부분 위에 있는 기둥의 상부 표면과 측벽부로부터 떨어져서 흐른다. 비희생 재료가 제 2 구조물 상에 증착된다. 비희생 재료는 제 2 구조물의 표면에 균일하게 증착된다. 비희생물은 희생 재료, 측벽부 및 기둥의 상부 상에 증착된다. 상기 증착된 희생 재료는 비희생 재료가 비희생 재료에 의해 제공된 수평 부재를 갖는 제 3 구조를 형성하도록 잔류시키면서 선택적으로 제거된다. 상기 수평 부재는 기둥의 하부에 의해 기판의 표면 상의 소정 거리에 지지된다. 상기 유동가능한 재료는 유동가능한 산화물, 예를 들어 하이드로겐실세스퀴옥산 글라스이고, 상기 기둥은 20㎛ 미만의 폭을 가진다. 단일 포토리소그래픽 단계로 형성된 얻어지는 구조물은 그 위에 증착된 커패시터를 지지하기 위해 사용된다. 상기 커패시터는 다음의 증착 단계: 지지 구조물의 표면 상에 제 1 도전층을 증착하는 단계, 상기 도전층 상에 유전체 층을 증착하는 단계, 및 상기 유전체 층상에 제 2 도전층을 증착하는 단계 순서로 형성된다.

    음압을 이용한 마이크로구조체의 제조방법 및 그로부터 제조된 마이크로구조체
    10.
    发明授权
    음압을 이용한 마이크로구조체의 제조방법 및 그로부터 제조된 마이크로구조체 有权
    通过负压和微结构制备微结构的方法

    公开(公告)号：KR101488397B1

    公开(公告)日：2015-02-03

    申请号：KR1020140019539

    申请日：2014-02-20

    申请人： 연세대학교 산학협력단

    发明人： 정형일 ,  양휘석

    IPC分类号： A61M37/00 ,  A61M5/158

    CPC分类号： A61M37/0015 ,  A61B5/685 ,  A61B17/205 ,  A61K9/0021 ,  A61M2037/0053 ,  A61M2207/00 ,  B81C1/00111

    摘要： 본 발명은 (a) 기판 상에 점성조성물을 위치시키는 단계; 및 (b) 상기 점성조성물에 음압(negative pressure)을 인가(apply)하여 상기 점성조성물의 인장(extension)을 유도하여 마이크로구조체를 제조하는 단계를 포함하는 마이크로구조체의 제조방법, 그리고 그로부터 제조된 마이크로구조체에 관한 것이다. 본 발명은, 열처리를 하지 않고도 음압의 인가에 의해 마이크로구조체를 제조할 수 있다. 이를 통하여 열에 민감하여 쉽게 파괴 또는 변성이 되는 다양한 물질들을 마이크로구조체에 탑재할 수 있다. 본 발명에 따르면, 종래기술에서 이용하였던 몰드나 필라와 같은 다른 구조체에 접촉하지 않고 비접촉식으로 마이크로구조체를 제작할 수 있다. 이는 마이크로구조체의 성형이 종료된 이후, 접촉했던 구조체와의 분리과정 또는 물리적 파괴를 통한 절단과정으로 인해 발생하던 손실 및 제작수율의 한계를 극복할 수 있도록 한다.