경화성 증감제, 광 경화 재료, 경화물 및 와이어 하네스 재료
    4.
    发明公开
    경화성 증감제, 광 경화 재료, 경화물 및 와이어 하네스 재료 审中-实审
    可固化敏化剂,光电材料,固化产品和接线材料

    公开(公告)号:KR1020150018582A

    公开(公告)日:2015-02-23

    申请号:KR1020147035555

    申请日:2013-05-22

    Abstract: 본 발명에서는, 라디칼을 이용한 중합 반응에 있어서, 종래에는 없는 라디칼 중합 반응 증감능을 가지고, 또한 저비용으로 용이하게 이용할 수 있는 경화성 증감제, 상기 증감제를 이용한 광 경화 재료, 상기 광 경화 재료를 경화시킨 경화물, 상기 광 경화 재료를 이용한 와이어 하네스(wiring harness) 재료를 제공한다. 본 발명은, 분자 내에 수산기를 1개 이상, 산소 원자를 2개 이상 갖는 알코올의 수산기와 (메타)아크릴레이트 성분으로 에스테르 결합을 형성시킴으로써 합성된 알코올의 (메타)아크릴레이트이자, 광 경화 재료 중에 함유시켰을 때에 경화성을 향상시키는 것이 가능한 경화성 증감제로서, 상기 경화성 증감제와 광 개시제로 광 경화 재료를 구성하며, 상기 광 경화 재료를 이용하여 와이어 하네스 재료를 구성하는 것에 관한 것이다.

    Abstract translation: 使用常规的敏化剂在使用自由基的聚合反应中不具有自由基聚合敏化性的可固化敏化剂,并且易于以低成本获得含有敏化剂的光固化材料,光固化材料的固化产物和 含有光固化材料的线束的材料。 可固化敏化剂含有由分子中具有一个或多个羟基和两个或更多个氧原子的醇合成的醇(甲基)丙烯酸酯和选自(甲基)丙烯酸及其衍生物的(甲基)丙烯酸酯成分)。 在醇的一个羟基和(甲基)丙烯酸酯成分之间形成酯键。 敏化剂能够在材料中混合时提高可固化材料的固化性。 光固化材料含有可固化敏化剂和吸光剂。 线束的材料包含光固化材料。

    (메트)아크릴산에스테르 화합물 및 그 용도
    5.
    发明授权
    (메트)아크릴산에스테르 화합물 및 그 용도 有权
    甲基丙烯酸酯化合物及其用途

    公开(公告)号:KR100756325B1

    公开(公告)日:2007-09-06

    申请号:KR1020057022352

    申请日:2004-05-21

    Abstract: 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르 화합물,

    (1)
    (식중, R
    11 은 2가의 방향족기를 나타내고, R
    12 은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R
    13 은 아릴기를 나타내고, R
    14 은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, X
    11 은 산소원자 또는 황원자를 나타낸다)
    및 상기 화합물을 함유하는 치과용 재료.
    본 발명의 일반식(1)로 표시되는 화합물을 함유하는 치과용 재료 및 치과용 조성물은 경화성이 우수하고, 치과용 재료에 요구되는 제물성(예를 들면, 굴곡강도 등)을 충족하면서, 투명성, X선 조영성 및 저중합 수축성을 겸비하고 있어, 유용하다.
    또한, 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르 화합물을 함유하는 중합성 조성물은 광중합에 의해 단시간에 중합, 성형가공을 할 수 있고, 또한, 투명성, 광학 특성(굴절률, 아베수), 내열성, 기계적 특성 등이 양호한 수지경화물을 제공하는 중합성 조성물, 및 상기 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 광학부품을 제공할 수 있다.
    (메트)아크릴산에스테르 화합물, 광학부품, 치과용 재료

    광학 재료용의 매우 투명한 플라스틱의 제조방법 및 광학 렌즈
    6.
    发明授权
    광학 재료용의 매우 투명한 플라스틱의 제조방법 및 광학 렌즈 失效
    用于制造光学材料和光学透镜的高透明塑料的方法

    公开(公告)号:KR100657192B1

    公开(公告)日:2006-12-14

    申请号:KR1020057000567

    申请日:2003-06-13

    CPC classification number: C08F22/105

    Abstract: 본 발명은 화학식 I의 화합물과 화학식 II의 화합물을 함유하는 혼합물의 유리 라디칼 공중합 반응에 의해 수득 가능한 매우 투명한 플라스틱의 제조방법에 관한 것이다.
    화학식 I

    화학식 II

    위의 화학식 I 및 화학식 II에서,
    R
    1 은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 라디칼이고,
    R
    2 는 각각 독립적으로 직쇄 또는 측쇄 지방족 또는 지환족 라디칼 또는 치환되거나 치환되지 않은 방향족 또는 헤테로방향족 라디칼이며,
    m 및 n은 각각 독립적으로 0 이상의 정수이고, m과 n의 합은 0을 초과한다.
    당해 플라스틱은, m과 n의 합이 2인 경우, 화학식 II의 화합물을, 화학식 I의 화합물과 화학식 II의 화합물의 총량을 기준으로 하여, 10mol%를 초과하는 양으로 함유하는 혼합물로부터 수득할 수 있음을 특징으로 한다.
    본 발명은 또한, 화학식 I의 화합물과 화학식 II의 화합물의 혼합물, 당해 혼합물의 제조방법, 매우 투명한 플라스틱의 특정 용도에 관한 것이다.
    매우 투명한 플라스틱, 광학 렌즈, 안과용 렌즈, 유리 라디칼, 공중합 반응, 보호 기체 대기, 브뢴스테드 염기

    아크릴산에스테르 화합물 및 그 용도
    8.
    发明公开
    아크릴산에스테르 화합물 및 그 용도 有权
    丙烯酸酯及其用途

    公开(公告)号:KR1020050044910A

    公开(公告)日:2005-05-13

    申请号:KR1020057003942

    申请日:2002-05-15

    Abstract: Acrylic esters represented by the general formula (I); polymerizable compositions containing the esters; and cured articles and optical elements, produced by polymerizing the compositions; wherein a is an integer of 0 to 4; R1 is a single bond, optionally substituted alkylene, aralkylene, arylene, or Y3-S-R4-S-Y4- (wherein R4 is alkylene, aralkylene, or arylene; and Y3 and Y4 are each independently alkylene); R2 and R3 are each independently H or alkyl; X1 and X2 are each O or S; and Y1 and Y2 are each alkylene which may contain O or S.

    Abstract translation: 由通式(I)表示的丙烯酸酯; 含有酯的可聚合组合物; 以及通过聚合组合物制备的固化物品和光学元件; 其中a为0〜4的整数; R 1是单键,任选取代的亚烷基,亚芳基,亚芳基或Y 3 -S-R 4 -S-Y 4 - (其中R 4是亚烷基,亚芳基或亚芳基; Y 3和Y 4各自独立地是亚烷基)。 R2和R3各自独立地为H或烷基; X1和X2分别为O或S; Y1和Y2各自为可以含有O或S的亚烷基。

    신규의포토레지스트가교제,이를포함하는포토레지스트중합체및포토레지스트조성물
    9.
    发明公开
    신규의포토레지스트가교제,이를포함하는포토레지스트중합체및포토레지스트조성물 有权
    光催化剂交联单体,聚合物及其使用的光电组合物

    公开(公告)号:KR1020000047041A

    公开(公告)日:2000-07-25

    申请号:KR1019980063793

    申请日:1998-12-31

    CPC classification number: G03F7/039 C07C69/54 C08F22/105 G03F7/0045

    Abstract: PURPOSE: A crosslinking monomer for photoresist, the polymer and photoresist composition are provided, which is comprised photoacid generator, matrix polymer. The crosslinking monomer improves polymerization yield of photoresist polymer and is not reduced etching-resistance, heat-resistance and sticking property. CONSTITUTION: A crosslinking monomer is represented by the following formular 1. The photoresist polymer is represented by the following formular 4, wherein, R' and R'' is independently hydrogen or methyl, m is one of 1-10, p is one of 0-5, a is 1-50 mol%, b is 10-50 mol%, c is 0.1-50 mol%, R1, R2, R3 and R4 is independently hydregen; alkyl, ester, keton, carboxylic acid and acetal substituted side chain or main chain of carbon number of 1-10; alkyl, ester, keton, carboxylic acid or acetal substituted that containing at least one of hydroxide group. The photoresist composition comprises the crosslinking monomer represented by the formular 1, photoresist polymer, organic solvent and optionally photoacid generate.

    Abstract translation: 目的:提供光致抗蚀剂的交联单体,聚合物和光致抗蚀剂组合物,其包含光致酸发生剂,基质聚合物。 交联单体提高光致抗蚀剂聚合物的聚合产率,并且不降低耐腐蚀性,耐热性和粘附性。 构成:交联单体由以下公式1表示。光致抗蚀剂聚合物由以下式4表示,其中R'和R“独立地是氢或甲基,m是1-10中的一个,p是 0-5,a为1-50mol%,b为10-50mol%,c为0.1-50mol%,R1,R2,R3和R4独立为氢原子; 烷基,酯,酮,羧酸和缩醛取代的侧链或主链碳数为1-10; 烷基,酯,酮,羧酸或缩醛,其含有至少一个氢氧基。 光致抗蚀剂组合物包含由式1,光致抗蚀剂聚合物,有机溶剂和任选的光致酸产生的交联单体。

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