Abstract:
본 발명에서는, 라디칼을 이용한 중합 반응에 있어서, 종래에는 없는 라디칼 중합 반응 증감능을 가지고, 또한 저비용으로 용이하게 이용할 수 있는 경화성 증감제, 상기 증감제를 이용한 광 경화 재료, 상기 광 경화 재료를 경화시킨 경화물, 상기 광 경화 재료를 이용한 와이어 하네스(wiring harness) 재료를 제공한다. 본 발명은, 분자 내에 수산기를 1개 이상, 산소 원자를 2개 이상 갖는 알코올의 수산기와 (메타)아크릴레이트 성분으로 에스테르 결합을 형성시킴으로써 합성된 알코올의 (메타)아크릴레이트이자, 광 경화 재료 중에 함유시켰을 때에 경화성을 향상시키는 것이 가능한 경화성 증감제로서, 상기 경화성 증감제와 광 개시제로 광 경화 재료를 구성하며, 상기 광 경화 재료를 이용하여 와이어 하네스 재료를 구성하는 것에 관한 것이다.
(1) (식중, R 11 은 2가의 방향족기를 나타내고, R 12 은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R 13 은 아릴기를 나타내고, R 14 은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, X 11 은 산소원자 또는 황원자를 나타낸다) 및 상기 화합물을 함유하는 치과용 재료. 본 발명의 일반식(1)로 표시되는 화합물을 함유하는 치과용 재료 및 치과용 조성물은 경화성이 우수하고, 치과용 재료에 요구되는 제물성(예를 들면, 굴곡강도 등)을 충족하면서, 투명성, X선 조영성 및 저중합 수축성을 겸비하고 있어, 유용하다. 또한, 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르 화합물을 함유하는 중합성 조성물은 광중합에 의해 단시간에 중합, 성형가공을 할 수 있고, 또한, 투명성, 광학 특성(굴절률, 아베수), 내열성, 기계적 특성 등이 양호한 수지경화물을 제공하는 중합성 조성물, 및 상기 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 광학부품을 제공할 수 있다. (메트)아크릴산에스테르 화합물, 광학부품, 치과용 재료
Abstract:
본 발명은 화학식 I의 화합물과 화학식 II의 화합물을 함유하는 혼합물의 유리 라디칼 공중합 반응에 의해 수득 가능한 매우 투명한 플라스틱의 제조방법에 관한 것이다. 화학식 I
화학식 II
위의 화학식 I 및 화학식 II에서, R 1 은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 라디칼이고, R 2 는 각각 독립적으로 직쇄 또는 측쇄 지방족 또는 지환족 라디칼 또는 치환되거나 치환되지 않은 방향족 또는 헤테로방향족 라디칼이며, m 및 n은 각각 독립적으로 0 이상의 정수이고, m과 n의 합은 0을 초과한다. 당해 플라스틱은, m과 n의 합이 2인 경우, 화학식 II의 화합물을, 화학식 I의 화합물과 화학식 II의 화합물의 총량을 기준으로 하여, 10mol%를 초과하는 양으로 함유하는 혼합물로부터 수득할 수 있음을 특징으로 한다. 본 발명은 또한, 화학식 I의 화합물과 화학식 II의 화합물의 혼합물, 당해 혼합물의 제조방법, 매우 투명한 플라스틱의 특정 용도에 관한 것이다. 매우 투명한 플라스틱, 광학 렌즈, 안과용 렌즈, 유리 라디칼, 공중합 반응, 보호 기체 대기, 브뢴스테드 염기
Abstract:
Oligomers from multifunctional acrylates and organonitro compounds are provided. Films obtained from crosslinked oligomers of the present invention are useful as protective or decorative coatings as well as components in adhesives and composites.
Abstract:
Acrylic esters represented by the general formula (I); polymerizable compositions containing the esters; and cured articles and optical elements, produced by polymerizing the compositions; wherein a is an integer of 0 to 4; R1 is a single bond, optionally substituted alkylene, aralkylene, arylene, or Y3-S-R4-S-Y4- (wherein R4 is alkylene, aralkylene, or arylene; and Y3 and Y4 are each independently alkylene); R2 and R3 are each independently H or alkyl; X1 and X2 are each O or S; and Y1 and Y2 are each alkylene which may contain O or S.
Abstract:
PURPOSE: A crosslinking monomer for photoresist, the polymer and photoresist composition are provided, which is comprised photoacid generator, matrix polymer. The crosslinking monomer improves polymerization yield of photoresist polymer and is not reduced etching-resistance, heat-resistance and sticking property. CONSTITUTION: A crosslinking monomer is represented by the following formular 1. The photoresist polymer is represented by the following formular 4, wherein, R' and R'' is independently hydrogen or methyl, m is one of 1-10, p is one of 0-5, a is 1-50 mol%, b is 10-50 mol%, c is 0.1-50 mol%, R1, R2, R3 and R4 is independently hydregen; alkyl, ester, keton, carboxylic acid and acetal substituted side chain or main chain of carbon number of 1-10; alkyl, ester, keton, carboxylic acid or acetal substituted that containing at least one of hydroxide group. The photoresist composition comprises the crosslinking monomer represented by the formular 1, photoresist polymer, organic solvent and optionally photoacid generate.