利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

137 条记录 (耗时 0.052 秒)

    감광성 수지 조성물 및 접착제 조성물
    3.
    发明公开
    감광성 수지 조성물 및 접착제 조성물 审中-实审
    光敏树脂组合物和粘合剂组合物

    公开(公告)号：KR1020170098221A

    公开(公告)日：2017-08-29

    申请号：KR1020177016317

    申请日：2015-12-14

    申请人： 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤

    发明人： 오하시,타쿠야 ,  사토,테츠오 ,  타무라,마모루 ,  에노모토,토모유키

    IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/031 ,  C09J175/16 ,  C08L75/16 ,  C08K5/103 ,  C08K5/09

    CPC分类号： C08K5/09 ,  C08G18/6208 ,  C08G18/672 ,  C08K5/103 ,  C08L75/16 ,  C09J4/06 ,  C09J175/16 ,  G03F7/027 ,  G03F7/031 ,  G03F7/035 ,  C08G18/62

    摘要： [과제] 신규한감광성수지조성물을제공한다. [해결수단] 하기식(1)로표시되는반복구조단위를갖고 (메트)아크릴로일기를양 말단에갖는중합체, 이관능(메트)아크릴레이트화합물, 다관능티올화합물, 광라디칼발생제, 및유기용제를포함하고, 상기중합체의함유량에대하여, 상기이관능(메트)아크릴레이트화합물을 5질량% 내지 50질량% 함유하고, 상기다관능티올화합물을 0.1질량% 내지 10질량% 함유하는, 감광성수지조성물. [화학식 1](식중, R및 R는각각독립적으로단결합, 메틸렌기또는에틸렌기를나타내고, Y는상기식(2)로표시되는알킬렌기를나타내거나또는이 식(2)로표시되는알킬렌기및 상기식(3)로표시되는알킬렌기의조합을나타내고, n은 1 내지 110의정수를나타내고, X는 2가의, 지방족탄화수소기, 지환식탄화수소기또는방향족탄화수소기를나타낸다.)

    摘要翻译： [问题]提供一种新型的光敏树脂组合物。 [解决问题的手段]下式（1），其具有由在两末端具有丙烯酰基，双官能（甲基）丙烯酸酯化合物，多官能硫醇化合物，生成光自由基剂（甲基）聚合物表示的重复结构单元，和 相对于含有有机溶剂中的聚合物的含量，而且，sanggiyi多官能（甲基）丙烯酸酯化合物和含有5质量％〜50质量％，则含有多官能硫醇化合物为0.1质量％〜10％（重量），感光性树脂 组成。 [化学式1]（其中，R和R各自独立地为单键，表示亚甲基，或亚乙基，Y表示下式表示的亚烷基（2）表示的亚烷基，或式（2）所代表 式（3）所示的亚烷基的组合，n表示1〜110的数，X表示2价的脂肪族烃基，脂环式烃基或芳香族烃基。

    네거티브형 감광성 수지 조성물, 수지막 및 전자 부품
    7.
    发明公开
    네거티브형 감광성 수지 조성물, 수지막 및 전자 부품 无效
    负型型感光树脂组合物，树脂膜和电子元件

    公开(公告)号：KR1020140043441A

    公开(公告)日：2014-04-09

    申请号：KR1020147001573

    申请日：2012-07-19

    申请人： 제온 코포레이션

    发明人： 다나베아키히로

    IPC分类号： G03F7/027 ,  C08G59/42 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075

    CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/027 ,  G03F7/035 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388

    摘要： 중량 평균 분자량이 1000 이상인 수지 화합물 (A) 와, (메트)아크릴로일 화합물 (B) 와, 실란 변성 수지 (C) 와, 라디칼 발생형 광 중합 개시제 (D) 와, 규소 원자를 함유하지 않는 에폭시기 함유 가교제 (E) 를 함유하고, 상기 수지 화합물 (A) 는, (메트)아크릴로일기를 1 분자 중에 2 개 이상을 갖으면서, 상기 에폭시기와 반응하는 카르복실기를 갖는 수지 화합물 (A1) 을 구비하고, 상기 (메트)아크릴로일 화합물 (B) 는 중량 평균 분자량이 1000 미만이고, 또한 (메트)아크릴로일기를 1 분자 중에 2 개 이상 갖는 네거티브형 감광성 수지 조성물을 제공한다.

    레지스트 보호막 재료 및 패턴 형성 방법
    10.
    发明公开
    레지스트 보호막 재료 및 패턴 형성 방법 有权
    耐腐蚀成膜组合物和方法

    公开(公告)号：KR1020130036715A

    公开(公告)日：2013-04-12

    申请号：KR1020120109603

    申请日：2012-10-02

    申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

    发明人： 수까,유끼 ,  하세가와,고지 ,  하라다,유지

    IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/11 ,  C08K5/04 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032 ,  G03F7/033 ,  G03F7/035 ,  G03F7/038 ,  G03F7/265 ,  H01L21/0273 ,  H05K3/287 ,  H05K3/3452 ,  C08L33/14

    摘要： PURPOSE: A resist protection film is provided to have excellent resist-patterning after developing, to reduce developing defects, and to have excellent waterproofness and generosity. CONSTITUTION: A polymer compound for a resist protection material contains a repeating unit represented by chemical formula 1 and has a weight average molecular weight of 1,000-500,000. In chemical formula 1, R1 is a hydrogen atom, C1-20 linear, branched, or cyclic monovalent hydrocarbon group and of which -CH2- can be substituted by -O- or -C(=O)-; R2 is hydrogen atom, fluorine atom, or trifluoromethyl group; Aa is C1-20 linear, branched, or cyclic (k1+1) hydrocarbon group or unsaturated hydrocarbon group; Ab is C1-6 linear, branched, or cyclic divalent hydrocarbon group; k1 is an integer from 1-3; and k2 is 0 or 1.

    摘要翻译： 目的：提供抗蚀剂保护膜，以在显影后具有优异的抗蚀剂图案化，减少显影缺陷，并且具有优异的防水性和慷慨性。 构成：抗蚀剂保护材料用高分子化合物含有由化学式1表示的重复单元，重均分子量为1,000〜500,000。 在化学式1中，R 1是氢原子，C 1-20直链，支链或环状单价烃基，其中-CH 2 - 可以被-O-或-C（= O） - 取代; R2是氢原子，氟原子或三氟甲基; Aa为C 1-20直链，支链或环状（k1 + 1）烃基或不饱和烃基; Ab是C 1-6直链，支链或环状的二价烃基; k1是1-3的整数; k2为0或1。