公开(公告)号：KR1020150064190A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：KR1020157011682

申请日：2013-10-07

申请人： 에프이아이 컴파니

发明人： 스톤스테이시 ,  이상훈 ,  블랙우드제프리 ,  슈미트마이클

IPC分类号： B23K15/00 ,  B23K15/08

CPC分类号： H01J37/3005 ,  G01N1/32 ,  G01N23/2255 ,  G01N2223/104 ,  G01N2223/611 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3053 ,  H01J37/3056 ,  H01J37/31 ,  H01J2237/063 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/2813 ,  H01J2237/31732 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749

摘要： 보기위해서집속이온빔에의해노출된표면에서아티팩트들을줄이기위해서, 관심영역옆의트렌치가밀링되며, 그리고그 트렌치는채워져서벌크헤드를생성한다. 상기이온빔은보기위해서상기관심영역의일부를노출시키기위해서상기벌크헤드를통해서방향이정해진다. 상기트렌치는, 예를들면, 하전입자빔-유도증착에의해서채워진다. 상기트렌치는위에서부터아래로밀링되고채워지는것이일반적이며, 그리고상기이온빔은상기샘플표면에대하여각도를이루어서상기관심영역을노출시킨다.

公开(公告)号：KR100695978B1

公开(公告)日：2007-03-15

申请号：KR1020037010975

申请日：2001-02-28

申请人： 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼

发明人： 다니구치요시후미 ,  이치하시미키오 ,  고구치마사나리

IPC分类号： H01L21/66 ,  B82Y35/00

CPC分类号： H01J37/28 ,  G01L1/241 ,  G01L5/0047 ,  G01N23/20 ,  G01N23/20058 ,  G01N23/2251 ,  H01J37/2955 ,  H01J2237/24585 ,  H01J2237/2544 ,  H01J2237/2813 ,  H01L22/12 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： 본 발명은 고분해능으로, 또한 고감도로, 계측위치 정합성이 높은 응력·왜곡의 2차원적인 분포의 실시간 계측을 가능하게 하는 미소영역 물성 계측방법 및 장치이다. 가늘게 조절된 전자선(22, 26)을 주사하면서 시료에 조사하여, 회절 스폿 (32, 33)의 위치의 변위를 2차원 위치 유감형 전자검출기(13)로 계측한다. 변위량은 전압값으로서 출력되기 때문에, 나노 디플렉션방식의 원리에 따라 응력·왜곡의 크기로 변환하여, 시료상의 위치신호와 동기하여 화상 표시한다.

公开(公告)号：KR1020110021822A

公开(公告)日：2011-03-04

申请号：KR1020107026657

申请日：2009-05-27

申请人： 램 리써치 코포레이션

发明人： 와가너에릭

IPC分类号： H01L21/66

CPC分类号： G01N23/2202 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/2813 ,  H01J2237/3174 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749 ,  H01L22/10

摘要： 개시된 방법은, 피처의 단면을 반복적으로 생성함으로써 하나 이상의 제작된 피처의 이미지를 생성한다. 이 방법은, 밀링된 표면이 피처가 위치하는 층에 실질적으로 평행한 하나 이상의 제작된 피처에 근접한 표면을 밀링하는 단계를 포함한다. 각각의 밀링 단계에서, 하나 이상의 제작된 피처의 톱-다운 이미징은 복수의 단면 이미지를 생성한다. 복수의 단면 이미지의 각각은 제작된 피처의 표현으로 재구성된다.

公开(公告)号：KR1020030078930A

公开(公告)日：2003-10-08

申请号：KR1020037010975

申请日：2001-02-28

申请人： 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼

发明人： 다니구치요시후미 ,  이치하시미키오 ,  고구치마사나리

IPC分类号： H01L21/66 ,  B82Y35/00

CPC分类号： H01J37/28 ,  G01L1/241 ,  G01L5/0047 ,  G01N23/20 ,  G01N23/20058 ,  G01N23/2251 ,  H01J37/2955 ,  H01J2237/24585 ,  H01J2237/2544 ,  H01J2237/2813 ,  H01L22/12 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： 본 발명은 고분해능으로, 또한 고감도로, 계측위치 정합성이 높은 응력·왜곡의 2차원적인 분포의 실시간 계측을 가능하게 하는 미소영역 물성 계측방법 및 장치이다. 가늘게 조절된 전자선(22, 26)을 주사하면서 시료에 조사하여, 회절 스폿 (32, 33)의 위치의 변위를 2차원 위치 유감형 전자검출기(13)로 계측한다. 변위량은 전압값으로서 출력되기 때문에, 나노 디플렉션방식의 원리에 따라 응력·왜곡의 크기로 변환하여, 시료상의 위치신호와 동기하여 화상 표시한다.

公开(公告)号：KR1020030063191A

公开(公告)日：2003-07-28

申请号：KR1020030003340

申请日：2003-01-17

申请人： 파브 솔루션 가부시키가이샤

发明人： 야마다게이조 ,  이타가키요스케 ,  우시키다케오

IPC分类号： G01B7/02

CPC分类号： G01B15/02 ,  H01J2237/2813

摘要： 박막의 두께를 측정하는 측정장치는, 제1 및 제2에너지를 갖는 전자빔들을 실리콘기판상에 형성된 측정대상인 박막에 조사하여, 제1에너지의 전자빔에 의해 조사된 기판에서 흐르는 전류의 제1기판전류값 및 제2에너지의 전자빔에 의해 조사된 기판에서 흐르는 전류의 제2기판전류값을 측정한다. 막두께측정장치는, 제1에너지를 갖는 제1전자빔이 표준시료에 조사되는 경우의 기판전류값과, 제2에너지를 갖는 제2전자빔이 표준시료에 되는 경우의 기판전류값을 변수로서 갖는 참조함수와 막두께 사이의 상관관계를 나타내는 참조데이터를 얻고, 이 참조데이터를 고려하여, 제1 및 제2기판전류값들을 기초로 측정대상인 박막의 두께를 계산한다.

公开(公告)号：KR1020170070229A

公开(公告)日：2017-06-21

申请号：KR1020177013564

申请日：2015-03-23

申请人： 제이에프이 스틸 가부시키가이샤

发明人： 다나카유지 ,  야마시타타카코 ,  나고시마사야스

IPC分类号： G01N23/207 ,  G01N23/225 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/252 ,  H01J37/28

CPC分类号： G01N23/2252 ,  G01N23/207 ,  H01J37/18 ,  H01J37/256 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/2067 ,  H01J2237/2807 ,  H01J2237/2813 ,  G01N23/225 ,  H01J37/20 ,  H01J37/252

摘要： 시료중의미량탄소를컨태미네이션의영향없이분석가능하게한다. 전자선마이크로애널라이저에있어서, 컨태미네이션의제어수단으로서, 액체질소트랩(6)과플라즈마또는산소라디칼발생장치를병용하고, 또한, 시료(7) 중의탄소의특성 X선(8)을검출하는탄소검출부(9, 10)를 2개이상형성한다.

摘要翻译： 允许分析样品中的痕量碳而不受限制的影响。 在电子束显微分析仪，作为对照在容器陈怡蓉国家装置，液氮阱（6）结合使用等离子体或氧自由基产生剂，另外，样品1-7个碳，用于检测的碳的特性X-8 形成两个或更多个检测部分9和10。

公开(公告)号：KR1020150095203A

公开(公告)日：2015-08-20

申请号：KR1020150019981

申请日：2015-02-10

申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스

发明人： 우에모토아츠시 ,  아사하타다츠야 ,  스즈키히데카즈 ,  야마모토요

IPC分类号： H01J37/02 ,  H01J37/20 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J27/02

CPC分类号： H01J37/20 ,  H01J37/023 ,  H01J37/18 ,  H01J37/222 ,  H01J37/265 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/063 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/182 ,  H01J2237/206 ,  H01J2237/208 ,  H01J2237/2448 ,  H01J2237/2806 ,  H01J2237/2813 ,  H01J2237/31749 ,  H01J27/02

摘要： (과제) 조작자가 하전 입자 빔에 의한 관찰 이미지를 시인하면서 니들을 이동시킬 때의 조작성을 향상시킨다.
(해결 수단)
하전 입자 빔 장치 (10) 는, 집속 이온 빔 경통 (14) 과, 전자 빔 경통 (15) 과, 니들 (18) 과, 니들 구동 기구 (19) 와, 표시 장치 (20) 와, 제어부 (21) 를 구비한다. 표시 장치 (20) 는, 하전 입자 빔의 조사에 의해 생성된 화상 데이터를 표시한다. 제어부 (21) 는 입력 디바이스 (22) 에 대한 조작자의 조작 입력에 따라 화상 데이터 상에 있어서의 니들 (18) 의 목표 위치를 설정한다. 제어부 (21) 는 입력 디바이스 (22) 에 의해 설정된 목표 위치에 따라 니들 구동 기구 (19) 에 의한 니들 (18) 의 구동을 제어하여, 목표 위치의 변화에 추종하여 니들 (18) 을 이동시킨다.

摘要翻译： 带电粒子束装置提高操作者在通过带电粒子束捕获观察图像时移动针的可操作性。 带电粒子束装置（10）包括：聚焦离子束筒（14）; 电子束筒（15）; 针（18）; 针驱动装置（19）; 显示装置（20）; 和控制单元（21）。 显示装置（20）显示通过照射带电粒子束而产生的图像数据。 控制单元（21）根据操作者相对于输入装置（22）的操作输入，将针（18）的目标位置设定在图像数据上。 控制单元（21）通过针驱动装置（19）根据由输入装置（22）设定的目标位置来控制针（18）的驱动，以在目标位置改变之后移动针 。

公开(公告)号：KR100526669B1

公开(公告)日：2005-11-08

申请号：KR1020030003340

申请日：2003-01-17

申请人： 파브 솔루션 가부시키가이샤

发明人： 야마다게이조 ,  이타가키요스케 ,  우시키다케오

IPC分类号： G01B7/02

CPC分类号： G01B15/02 ,  H01J2237/2813

摘要： 박막의 두께를 측정하는 측정장치는, 제1 및 제2에너지를 갖는 전자빔들을 실리콘기판상에 형성된 측정대상인 박막에 조사하여, 제1에너지의 전자빔에 의해 조사된 기판에서 흐르는 전류의 제1기판전류값 및 제2에너지의 전자빔에 의해 조사된 기판에서 흐르는 전류의 제2기판전류값을 측정한다. 막두께측정장치는, 제1에너지를 갖는 제1전자빔이 표준시료에 조사되는 경우의 기판전류값과, 제2에너지를 갖는 제2전자빔이 표준시료에 되는 경우의 기판전류값을 변수로서 갖는 참조함수와 막두께 사이의 상관관계를 나타내는 참조데이터를 얻고, 이 참조데이터를 고려하여, 제1 및 제2기판전류값들을 기초로 측정대상인 박막의 두께를 계산한다.

公开(公告)号：KR101905091B1

公开(公告)日：2018-10-08

申请号：KR1020137018510

申请日：2011-12-05

申请人： 케이엘에이-텐코 코포레이션

发明人： 우션엑스 ,  바이브카난드키니

IPC分类号： G01N23/225 ,  H01J37/26 ,  H01L21/66

CPC分类号： H01J37/222 ,  H01J37/06 ,  H01J37/265 ,  H01J37/285 ,  H01J37/292 ,  H01J2237/10 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/2813 ,  H01J2237/2817 ,  H01L22/12

摘要： 일실시예는전자빔 장치를이용한, 기판상의산재된핫 스팟영역들의자동화된검사방법에관한것이다. 기판을지탱하는스테이지는이동하는시야(field of view)가기판상의타겟영역을커버하도록전자빔 장치의시야를이동시키위하여스와스경로(swath path)를따라이동한다. 이동하는시야내의핫 스팟영역들의축외(off-axis) 이미징(imaging)이수행된다. 이동하는시야내의핫 스팟영역들의개수가결정될수 있고, 스테이지이동의속력은이동하는시야내의핫 스팟영역들의개수에기초하여조정될수 있다. 다른실시예는제조된기판상의산재된영역들을검사하기위한전자빔 장치에관한것이다. 다른실시예들, 양태들및 특징들이또한개시된다.

公开(公告)号：KR1020170108804A

公开(公告)日：2017-09-27

申请号：KR1020170009732

申请日：2017-01-20

申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스

发明人： 오오니시츠요시 ,  하스다마사카츠

IPC分类号： G03F1/20 ,  G03F1/78 ,  G03F1/64 ,  G03F7/20

CPC分类号： H01J37/09 ,  H01J37/023 ,  H01J37/20 ,  H01J37/28 ,  H01J37/30 ,  H01J37/3005 ,  H01J37/3056 ,  H01J37/31 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/2809 ,  H01J2237/2813 ,  H01J2237/31745

摘要： (과제)집속이온빔 경통과전자빔 경통을모두구비한복합하전입자빔 장치에있어서, 전자빔 경통의오손을방지하여, 고정밀도로전자빔을조사가능한복합하전입자빔 장치를제공한다. (해결수단)시료를올려놓는시료대와, 상기시료에집속이온빔을조사하는집속이온빔 경통과, 상기시료에전자빔을조사하는전자빔 경통과, 상기시료대, 상기집속이온빔 경통, 및전자빔 경통을수용하는시료실과, 상기전자빔 경통의출사면과상기시료대의사이에삽입된삽입위치, 및상기출사면과상기시료대의사이로부터퇴출한개방위치의사이에서변위가능하게형성된방오판과, 상기방오판을상기삽입위치및 상기개방위치사이에서변위시키는조작수단을구비했다.

摘要翻译： （任务）在聚焦离子束柱和包含两种电子束柱的复合带电粒子束的装置，以防止电子束柱的结垢，并提供带电粒子束照射能够复杂且高度精确的电子束的装置。 [解决问题的手段]和以装载样品试样台，接收到该聚焦离子束柱用于照射聚焦离子束的样品和用于照射电子束到样品中，样品台，其中，所述聚焦离子束柱的电子束柱，和电子束柱 样品室，及电子束柱的出射面之间的插入位置和所述样品单元，并且形成出射表面，并从样品条带之间抽出的打开位置之间房间错误的决定进行位移，用于放电误判那 以及用于在插入位置和打开位置之间移位的操作装置。