플라즈마 디스플레이 패널 격벽용 조성물 및 이를 포함하는플라즈마 디스플레이 패널
    4.
    发明公开
    플라즈마 디스플레이 패널 격벽용 조성물 및 이를 포함하는플라즈마 디스플레이 패널 无效
    等离子体显示面板分隔壁组合物和包括其的等离子体显示面板

    公开(公告)号:KR1020090081206A

    公开(公告)日:2009-07-28

    申请号:KR1020080007166

    申请日:2008-01-23

    发明人: 최웅

    CPC分类号: H01J11/36 H01J17/49

    摘要: A composition for a plasma display panel partition wall and a plasma display panel comprising the same are provided to prevent a second layered partition wall from being separated, thereby securing reliability. A composition for a plasma display panel partition wall is composed of a partition wall(112) consisting of a top layer(112a) and a bottom layer(112b). The top layer and the bottom layer are composed of a first composition and a second composition respectively. The first composition contains organic powder with a first filler and the second composition includes the organic powder with a second filler. The volume difference between the first filler occupying the first composition and the second filler occupying the second composition based on the volume of each inorganic powder is within ±3 vol%.

    摘要翻译: 提供了一种用于等离子体显示面板分隔壁的组合物和包括其的等离子体显示面板,以防止第二层状分隔壁分离,从而确保可靠性。 用于等离子体显示面板分隔壁的组合物由顶层(112a)和底层(112b)构成的分隔壁(112)构成。 顶层和底层分别由第一组合物和第二组合物组成。 第一组合物含有具有第一填料的有机粉末,第二组合物包含具有第二填料的有机粉末。 占据第一组合物的第一填料和占第二组合物的第二填料之间的体积差异基于每种无机粉末的体积在±3体积%以内。

    턴디쉬 노즐 보호용 내화벽돌의 주변 충진재
    5.
    发明授权
    턴디쉬 노즐 보호용 내화벽돌의 주변 충진재 失效
    用于中间包喷嘴保护的耐火砖周围

    公开(公告)号:KR100356366B1

    公开(公告)日:2002-11-18

    申请号:KR1019980060075

    申请日:1998-12-29

    发明人: 홍기곤 전진익

    IPC分类号: C04B35/03 C04B35/12

    摘要: 턴디쉬 노즐 보호용 내화 벽돌의 주변을 충진하여 용강의 유출을 방지하기 위하여 턴디쉬 노즐 보호용 내화 벽돌의 주변 충진용 내화물에 관한 것으로, 입자 크기를 5mm 이하로 분쇄된 폐마그네시아-크로미아질 내화 벽돌의 분쇄물에 마그네슘(Mg)의 금속염을 외삽으로 2 ~ 5 중량%를 함유하는 것을 특징으로 함으로써, 내용성, 해체성 및 보관성을 향상시킬 뿐만 아니라 환경 오염 방지의 측면에서 폐내화물을 재활용하는 우수한 특징을 가진 노즐 보호용 내화 벽돌의 주변 충진용 내화물을 제공한다.

    스퍼터링 타겟트용 산화크롬 분말 및 스퍼터링 타겟트
    10.
    发明公开
    스퍼터링 타겟트용 산화크롬 분말 및 스퍼터링 타겟트 有权
    用于粉末目标和散射目标的氧化铬粉末

    公开(公告)号:KR1020080017045A

    公开(公告)日:2008-02-25

    申请号:KR1020077029620

    申请日:2006-03-10

    摘要: A chromium oxide powder for a sputtering target, characterized in that it comprises chromium oxide having a sulfur content of 100 ppm by weight or less. A sputtering target which has a sulfur content of 100 ppm by weight and comprises 5 mol % or more of chromium oxide having a purity excluding gaseous components including moisture, carbon, nitrogen and sulfur of 99.95 wt % or higher. Provided are a chromium oxide powder for a sputtering target which has an increased purity and, when produced into a spattering target, shows an increased density of a sintered body; and a sputtering target which is produced by using the chromium oxide powder and which has fine crystal grains, is free from the occurrence of cracking and is uniform and minute.

    摘要翻译: 一种用于溅射靶的氧化铬粉末,其特征在于,其包含硫含量为100重量ppm以下的氧化铬。 具有100重量ppm的硫含量并且包含5摩尔%以上的氧化铬的溅射靶,其除了包含99.95重量%以上的水分,碳,氮和硫的气态组分以外的纯度。 提供了一种具有提高纯度的用于溅射靶的氧化铬粉末,并且当制成飞溅靶时,显示出烧结体的密度增加; 通过使用氧化铬粉末而制造的具有微细晶粒的溅射靶没有发生裂纹,并且均匀且细微。