公开(公告)号：TWI516545B

公开(公告)日：2016-01-11

申请号：TW104114100

申请日：2015-05-04

Applicant: 李長榮化學工業股份有限公司 ,  LEE CHANG YUNG CHEMICAL IND. CORP.

Inventor： 蔡博年 ,  TSAI, PO NIEN ,  陳祐瑱 ,  CHEN, YU TIEN ,  汪若蕙 ,  UANG, RUOH HUEY

IPC: C08L83/04 ,  B01J31/02 ,  B01J31/12

CPC classification number: C08L83/04 ,  B29C39/003 ,  B29K2083/00 ,  B29L2011/0016 ,  C08G77/18 ,  C08K5/3445 ,  C08K5/57 ,  C09D183/04

公开(公告)号：TWI516527B

公开(公告)日：2016-01-11

申请号：TW099142814

申请日：2010-12-08

Applicant: 信越化學工業股份有限公司 ,  SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

Inventor： 古屋昌浩 ,  FURUYA, MASAHIRO ,  菅生道博 ,  SUGO, MICHIHIRO ,  加藤英人 ,  KATO, HIDETO ,  近藤和紀 ,  KONDO, KAZUNORI ,  田上昭平 ,  TAGAMI, SHOHEI ,  後藤智幸 ,  GOTO, TOMOYUKI

IPC: C08G77/455 ,  C08L83/10 ,  C08L79/04 ,  C08K5/3492 ,  G03F7/004 ,  C09J7/00 ,  H01L21/027 ,  B32B7/12

CPC classification number: G03F7/0387 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1042 ,  C08G73/1046 ,  C08G73/1053 ,  C08G73/106 ,  C08K5/3445 ,  C08K5/34922 ,  C08K5/41 ,  C08K5/49 ,  C08L63/00 ,  C08L79/08 ,  C09D179/08 ,  C09J179/08 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0757 ,  H05K3/287 ,  H05K2201/0154 ,  H05K2201/0162 ,  Y10S430/107 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/269 ,  C08L2666/22

公开(公告)号：TWI513769B

公开(公告)日：2015-12-21

申请号：TW103122550

申请日：2009-02-24

Applicant: 哈尼威爾國際公司 ,  HONEYWELL INTERNATIONAL INC.

Inventor： 洛特 艾德華 二世 ,  RUTTER, EDWARD JR. ,  克利希納摩西 阿希拉 ,  KRISHNAMOORTHY, AHILA ,  肯尼迪 喬瑟夫 ,  KENNEDY, JOSEPH

IPC: C08L83/06 ,  C08J5/18 ,  C08J3/24

CPC classification number: C08K5/3445 ,  C08G77/045 ,  C08J5/18 ,  C08J2361/04 ,  C08J2383/04 ,  C08L61/06 ,  C09D183/04

公开(公告)号：TW201541161A

公开(公告)日：2015-11-01

申请号：TW104102103

申请日：2015-01-22

Applicant: 柯尼卡美能達股份有限公司 ,  KONICA MINOLTA, INC.

Inventor： 佐佐木達也 ,  SASAKI, TATSUYA ,  世良貴史 ,  SERA, TAKASHI ,  金子由紀 ,  KANEKO, YUKI

IPC: G02F1/13363 ,  C08L1/10 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: C08L1/14 ,  C08J5/18 ,  C08K5/34 ,  C08K5/3445 ,  C08K5/3472 ,  C08L1/12 ,  G02B1/04 ,  G02B5/3083 ,  G02F1/13363 ,  G02F2001/133742

Abstract: 本發明之課題在於提供一種VA型液晶顯示裝置所具備之纖維素酯系的相位差薄膜，其係薄膜且具有高相位差值，並且於高濕度下的相位差值變動耐性和皂化處理適性優異之相位差薄膜。 本發明之相位差薄膜，其係含有至少2種纖維素酯與阻滯上升劑之相位差薄膜，其特徵為：前述2種纖維素酯，為乙醯基取代度位於2.40~2.60的範圍內之纖維素乙酸酯(樹脂A)、與在總醯基取代度位於2.40~2.60的範圍內具有碳數3~6的醯基之纖維素酯(樹脂B)，並且以質量比率計在樹脂A：樹脂B=1：9~9：1的範圍內含有該樹脂A與樹脂B。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题在于提供一种VA型液晶显示设备所具备之纤维素酯系的相位差薄膜，其系薄膜且具有高相位差值，并且于高湿度下的相位差值变动耐性和皂化处理适性优异之相位差薄膜。 本发明之相位差薄膜，其系含有至少2种纤维素酯与阻滞上升剂之相位差薄膜，其特征为：前述2种纤维素酯，为乙酰基取代度位于2.40~2.60的范围内之纤维素乙酸酯(树脂A)、与在总酰基取代度位于2.40~2.60的范围内具有碳数3~6的酰基之纤维素酯(树脂B)，并且以质量比率计在树脂A：树脂B=1：9~9：1的范围内含有该树脂A与树脂B。

公开(公告)号：TW201534674A

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：TW104106431

申请日：2015-03-02

Applicant: 東亞合成股份有限公司 ,  TOAGOSEI CO., LTD.

Inventor： 石謙一 ,  ISHIZAKI, KENICHI ,  安藤裕史 ,  ANDO, YUSHI

IPC: C09J133/14 ,  C09J133/18 ,  C08K5/372

CPC classification number: C08K5/42 ,  C08F222/32 ,  C08K5/19 ,  C08K5/3432 ,  C08K5/3445 ,  C08K5/3462 ,  C08K5/50 ,  C09D4/00 ,  C09J4/00 ,  C09J135/04 ,  C09J2205/102

Abstract: 提供：對於無極性的難黏著材料的黏接速度、或間隙硬化性均極優，且貯存安定性也良好的黏著劑組成物。含有2-氰基丙烯酸酯(a)、和下列化學式(1)所表示之鎓鹽(b)之2-氰基丙烯酸酯(鹽)類黏著劑組成物：nC+A-n-X……(1)《化學式(1)中，C+係鎓陽離子(onium cation)；A-係-SO3-、-OSO3-、和選自特定之亞胺陰離子(imide anion)所成群類至少一種的陰離子；X係連結2個以上陰離子的聯結基團(linking group)。N係2以上的整數。》

Abstract in simplified Chinese: 提供：对于无极性的难黏着材料的黏接速度、或间隙硬化性均极优，且贮存安定性也良好的黏着剂组成物。含有2-氰基丙烯酸酯(a)、和下列化学式(1)所表示之鎓盐(b)之2-氰基丙烯酸酯(盐)类黏着剂组成物：nC+A-n-X……(1)《化学式(1)中，C+系鎓阳离子(onium cation)；A-系-SO3-、-OSO3-、和选自特定之亚胺阴离子(imide anion)所成群类至少一种的阴离子；X系链接2个以上阴离子的联结基团(linking group)。N系2以上的整数。》

公开(公告)号：TW201512293A

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：TW103125963

申请日：2014-07-30

Applicant: 日本瑞翁股份有限公司 ,  ZEON CORPORATION

Inventor： 堤隆志 ,  TSUTSUMI, TAKASHI

IPC: C08L63/00 ,  C08L101/06 ,  C08K5/21 ,  C08K5/3445 ,  C08J5/18 ,  H01L21/336 ,  H01L29/78 ,  H01L51/05

CPC classification number: C08L29/04 ,  C08K5/1515 ,  C08K5/21 ,  C08K5/3445 ,  C08L5/00 ,  C08L61/06 ,  C08L2203/20 ,  C08L2205/03 ,  C08L2312/04 ,  H01L21/02118 ,  H01L29/4908

Abstract: 提供一種樹脂組合物，包含：含有羥基以及氰基烷基的樹脂(A)、分子內具有2個以上環氧基的環氧化合物(B)、分子內具有2個以上羥基、且羥基值為150~300mgKOH/g的硬化劑(C)、以及具有下述一般式(1)所表示結構的交聯劑(D)， (上述一般式(1)中，R1、R2為碳數1~20的烷基，R1與R2可彼此相同或是不同)。

Abstract in simplified Chinese: 提供一种树脂组合物，包含：含有羟基以及氰基烷基的树脂(A)、分子内具有2个以上环氧基的环氧化合物(B)、分子内具有2个以上羟基、且羟基值为150~300mgKOH/g的硬化剂(C)、以及具有下述一般式(1)所表示结构的交联剂(D)， (上述一般式(1)中，R1、R2为碳数1~20的烷基，R1与R2可彼此相同或是不同)。

公开(公告)号：TW201439203A

公开(公告)日：2014-10-16

申请号：TW102147289

申请日：2013-12-19

Applicant: 旭化成化學股份有限公司 ,  ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION

Inventor： 朝比奈芳幸 ,  ASAHINA, YOSHIYUKI ,  世平理朗 ,  SASAHIRA, MICHIAKI ,  三輪祐一 ,  MIWA, YUICHI ,  皆川泠 ,  MINAKAWA, MIO

IPC: C08L75/00 ,  C08L101/04 ,  C08G18/80 ,  C08K5/16 ,  D06M15/564 ,  C08G18/10

CPC classification number: D06M15/277 ,  C08G18/092 ,  C08G18/1875 ,  C08G18/283 ,  C08G18/2875 ,  C08G18/3221 ,  C08G18/706 ,  C08G18/73 ,  C08G18/807 ,  C08G2105/02 ,  C08K5/3445 ,  C09D127/12 ,  D06M15/564 ,  D06M15/568 ,  D06M15/572

Abstract: 本發明之目的在於提供一種儲存穩定性優異且於儲存後亦可賦予高度之洗滌耐久性之水性組合物、水性封阻聚異氰酸酯之穩定化方法、包含該水性組合物之纖維處理劑組合物、及利用該纖維處理劑組合物進行處理之纖維。本發明係一種水性組合物，其包含具有將異氰酸酯基利用封阻劑進行封阻而成之封阻異氰酸酯基及加成有親水基之異氰酸酯基的水性封阻聚異氰酸酯、相對於上述封阻異氰酸酯基為10~400莫耳%之胺系化合物、及水。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之目的在于提供一种存储稳定性优异且于存储后亦可赋予高度之洗涤耐久性之水性组合物、水性封阻聚异氰酸酯之稳定化方法、包含该水性组合物之纤维处理剂组合物、及利用该纤维处理剂组合物进行处理之纤维。本发明系一种水性组合物，其包含具有将异氰酸酯基利用封阻剂进行封阻而成之封阻异氰酸酯基及加成有亲水基之异氰酸酯基的水性封阻聚异氰酸酯、相对于上述封阻异氰酸酯基为10~400莫耳%之胺系化合物、及水。

公开(公告)号：TWI450940B

公开(公告)日：2014-09-01

申请号：TW097126413

申请日：2008-07-11

Applicant: 第一毛織股份有限公司 ,  CHEIL INDUSTRIES INC.

Inventor： 小川博史 ,  OGAWA, HIROSHI ,  諏訪達弘 ,  SUWA, TATSUHIRO ,  宋政訓 ,  SONG, CHEONG HUN

IPC: C09J11/06 ,  C09J133/04

CPC classification number: C09J11/06 ,  C08K5/0075 ,  C08K5/19 ,  C08K5/3415 ,  C08K5/3432 ,  C08K5/3445 ,  C08K5/50 ,  C09J133/08

公开(公告)号：TW201431910A

公开(公告)日：2014-08-16

申请号：TW102148751

申请日：2013-12-27

Applicant: 東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 野田国宏 ,  NODA, KUNIHIRO ,  千坂博樹 ,  CHISAKA, HIROKI ,  塩田大 ,  SHIOTA, DAI ,  染谷和也 ,  SOMEYA, KAZUYA

IPC: C08G73/10 ,  G03F7/004 ,  C08K5/3472 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0041 ,  C07C323/47 ,  C07D209/86 ,  C07D233/56 ,  C07D233/60 ,  C08G73/1042 ,  C08G73/105 ,  C08G73/1067 ,  C08G73/1071 ,  C08G73/1078 ,  C08K5/33 ,  C08K5/34 ,  C09D179/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0387 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  C08K5/3445

Abstract: 本發明提供即使以低溫下之熱處理，仍能賦予耐熱性優異、低介電率之聚醯亞胺樹脂之感能量性樹脂組成物、使用上述感能量性樹脂組成物之聚醯亞胺膜或聚醯亞胺成形體之製造方法、及使用上述感能量性樹脂組成物之圖型形成方法。本發明之感能量性樹脂組成物含有使四羧酸二酐及二胺反應而得之聚醯胺酸、溶劑、因光及/或熱之作用而分解產生鹼及/或酸之化合物(A)。本發明之聚醯亞胺膜或聚醯亞胺成形體之製造方法包含形成由上述組成物所構成之塗膜或成形體，因曝光或加熱而使上述塗膜或成形體中之化合物(A)。本發明之圖型形成方法包含形成由上述組成物所構成之塗膜或成形體，選擇性曝光並於曝光後顯像且顯像後進行加熱。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供即使以低温下之热处理，仍能赋予耐热性优异、低介电率之聚酰亚胺树脂之感能量性树脂组成物、使用上述感能量性树脂组成物之聚酰亚胺膜或聚酰亚胺成形体之制造方法、及使用上述感能量性树脂组成物之图型形成方法。本发明之感能量性树脂组成物含有使四羧酸二酐及二胺反应而得之聚酰胺酸、溶剂、因光及/或热之作用而分解产生碱及/或酸之化合物(A)。本发明之聚酰亚胺膜或聚酰亚胺成形体之制造方法包含形成由上述组成物所构成之涂膜或成形体，因曝光或加热而使上述涂膜或成形体中之化合物(A)。本发明之图型形成方法包含形成由上述组成物所构成之涂膜或成形体，选择性曝光并于曝光后显像且显像后进行加热。

公开(公告)号：TW201428040A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：TW102135068

申请日：2013-09-27

Applicant: 太陽油墨製造股份有限公司 ,  TAIYO INK MFG. CO., LTD.

Inventor： 岡本大地 ,  OKAMOTO, DAICHI ,  峰岸昌司 ,  MINEGISHI, SHOJI

IPC: C08L101/08 ,  C08L63/00 ,  C08G59/50 ,  H05K3/28

CPC classification number: C08L63/10 ,  C08J3/243 ,  C08J5/18 ,  C08J2363/00 ,  C08K5/3445 ,  C08L33/08 ,  C08L63/00 ,  C08L101/08 ,  H05K3/287 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/31551

Abstract: 本發明之課題以提供可得到維持密著性之同時絕緣可靠性為優異的硬化物之硬化性樹脂組成物、抗焊劑(solder resist)形成用組成物、乾膜及印刷配線板，以及提供具有維持密著性之同時絕緣可靠性為優異的樹脂絕緣層之層合構造體，及用來製造該層合構造體所使用的乾膜，及使用該乾膜之層合構造體之製造方法。解決課題之手段為一種硬化性樹脂組成物，其係包含(A)咪唑‧異氰酸酯加成物、(B)含羧基之樹脂、及(C)熱硬化性樹脂；及一種層合構造體，其係具有基材與形成於該基材上的複數層樹脂絕緣層，其特徵為前述複數層樹脂絕緣層之中，接觸於基材的樹脂絕緣層為由前述硬化性樹脂組成物所形成之層。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题以提供可得到维持密着性之同时绝缘可靠性为优异的硬化物之硬化性树脂组成物、抗焊剂(solder resist)形成用组成物、干膜及印刷配线板，以及提供具有维持密着性之同时绝缘可靠性为优异的树脂绝缘层之层合构造体，及用来制造该层合构造体所使用的干膜，及使用该干膜之层合构造体之制造方法。解决课题之手段为一种硬化性树脂组成物，其系包含(A)咪唑‧异氰酸酯加成物、(B)含羧基之树脂、及(C)热硬化性树脂；及一种层合构造体，其系具有基材与形成于该基材上的复数层树脂绝缘层，其特征为前述复数层树脂绝缘层之中，接触于基材的树脂绝缘层为由前述硬化性树脂组成物所形成之层。