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    抗反射薄膜及顯示裝置
    51.
    发明专利
    抗反射薄膜及顯示裝置 失效
    抗反射薄膜及显示设备

    公开(公告)号：TW428107B

    公开(公告)日：2001-04-01

    申请号：TW088120267

    申请日：1999-11-19

    申请人： 蘇妮股份有限公司

    发明人： 花岡英章 ,  久松史明 ,  山下尚孝 ,  小林政廣

    IPC分类号： G02B ,  H04N

    CPC分类号： C03C17/361 ,  C03C17/3417 ,  C03C17/3435 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3615 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3642 ,  C03C2217/73 ,  G02B1/115

    摘要： 一種抗反射薄膜，可供廣泛調整透光率，提供良好顯示品質之顯示裝置。抗反射薄膜形成於顯示影像用面板基底表面。抗反射薄膜包含第一及第二吸光膜，各構成者為至少以下群之一，即金屬膜、金屬氮化物膜及金屬氧化物膜，一介電膜之折射率介於1.4至l.9，形成於第一及第二吸光膜之間。例如，以下三膜依序形成於布朗管之面板玻璃:第一吸光膜，TiN，厚10nm:介電膜， A12O3，厚82nm;及第二吸光膜，TiN，厚12 nm，乃形成抗反射薄膜。

    简体摘要： 一种抗反射薄膜，可供广泛调整透光率，提供良好显示品质之显示设备。抗反射薄膜形成于显示影像用皮肤基底表面。抗反射薄膜包含第一及第二吸光膜，各构成者为至少以下群之一，即金属膜、金属氮化物膜及金属氧化物膜，一介电膜之折射率介于1.4至l.9，形成于第一及第二吸光膜之间。例如，以下三膜依序形成于布朗管之皮肤玻璃:第一吸光膜，TiN，厚10nm:介电膜， A12O3，厚82nm;及第二吸光膜，TiN，厚12 nm，乃形成抗反射薄膜。

    塗覆之釉材料及其塗裝方法
    55.
    发明专利
    塗覆之釉材料及其塗裝方法 失效
    涂覆之釉材料及其涂装方法

    公开(公告)号：TW200443B

    公开(公告)日：1993-02-21

    申请号：TW078109695

    申请日：1989-12-14

    申请人： 格拉弗貝爾公司

    发明人： 珍–克洛狄.哈約斯 ,  珍–麥可.狄保

    IPC分类号： C03C ,  C23C

    CPC分类号： G02B5/0858 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681 ,  C23C14/081 ,  C23C14/083 ,  C23C14/085 ,  C23C14/086 ,  C23C14/185 ,  E06B3/6715 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265

    摘要： 一種載有多層塗層的釉材料基質，係包括一層被夾在一卜種明底層及一種透明覆層間的銀反射層。此銀層的底層包含室少一層金屬氧化物；此銀層的覆層包含一層犧牲性金屬氧化物，該金屬是選自由鈦、鋁、不銹鋼、鉍、錫及其兩種或多種混合物所組成的族群中者，該覆層是由犧牲性金屬先沉積並使之轉化成氧化物而形成，其上所沉積一層氧化鋅的厚度不會超過15微米，而最上層層金屬氧化物覆層是選自由氧化錫、氧化鉍、氧化鋁、二氧化鈦及其兩種或多種混合物所組成的族群中者。
    為形成一個具有良好光透射性之低放射率塗層，銀層的厚度是８到12微米。由下列塗層沉積形成的一個特定多層低放射率塗層，自基質表面開始：
    底層
    ３微米 二氧化鈦
    22.5微米 氧化錫（SnO2）
    10微米 氧化鋅
    反射層
    10微米 銀
    覆層
    2.5微米 鈦，供轉化成二氧化鈦
    12.5微米 氧化鋅
    10微米 氧化錫
    12微米 二氧化鈦

    简体摘要： 一种载有多层涂层的釉材料基质，系包括一层被夹在一卜种明底层及一种透明复层间的银反射层。此银层的底层包含室少一层金属氧化物；此银层的覆层包含一层牺牲性金属氧化物，该金属是选自由钛、铝、不锈钢、铋、锡及其两种或多种混合物所组成的族群中者，该覆层是由牺牲性金属先沉积并使之转化成氧化物而形成，其上所沉积一层氧化锌的厚度不会超过15微米，而最上层层金属氧化物覆层是选自由氧化锡、氧化铋、氧化铝、二氧化钛及其两种或多种混合物所组成的族群中者。 为形成一个具有良好光透射性之低放射率涂层，银层的厚度是８到12微米。由下列涂层沉积形成的一个特定多层低放射率涂层，自基质表面开始： 底层 ３微米 二氧化钛 22.5微米 氧化锡（SnO2） 10微米 氧化锌 反射层 10微米 银 覆层 2.5微米 钛，供转化成二氧化钛 12.5微米 氧化锌 10微米 氧化锡 12微米 二氧化钛

    包含導電網目之透明片
    58.
    发明专利
    包含導電網目之透明片 审中-公开
    包含导电网目之透明片

    公开(公告)号：TW201724931A

    公开(公告)日：2017-07-01

    申请号：TW105137401

    申请日：2016-11-16

    申请人： 片片堅俄亥俄州工業公司 ,  PPG INDUSTRIES OHIO, INC.

    发明人： 兒裴帝 克里許納 K. ,  UPRETY, KRISHNA K. ,  畢馬納德 亞歷山大 ,  BIMANAND, ALEXANDER ,  萊克達瓦拉 古希魯 H. ,  LAKDAWALA, KHUSHROO H.

    IPC分类号： H05K3/10 ,  H05K9/00 ,  B64D15/12

    CPC分类号： H05K9/0094 ,  B64C1/1476 ,  C03C17/06 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3673 ,  C03C17/3676 ,  C03C17/38 ,  C03C2217/94 ,  H05K1/0212 ,  H05K1/0216 ,  H05K1/18

    摘要： 一透明片包含一透明基板與在該透明基板上的複數個導電線，該等導電線的至少一者與至少一其他的導電線相交，並且該等導電線的至少一者具有不超過50 µm的寬度，以減少透過該透明片傳輸或藉由該透明片反射的光之光繞射所引致的發散，相較於包含具有大於50 µm寬度的導電線的透明片。一塗佈基板包含：一基板；在該基板上的一介電層；以及包含導電層在該介電層上的一感測器，其中選自該介電層和該導電層的至少一層係藉由選自微影術、噴墨印刷、和噴霧印刷的至少一方法形成。

    简体摘要： 一透明片包含一透明基板与在该透明基板上的复数个导电线，该等导电线的至少一者与至少一其他的导电线相交，并且该等导电线的至少一者具有不超过50 µm的宽度，以减少透过该透明片传输或借由该透明片反射的光之光绕射所引致的发散，相较于包含具有大于50 µm宽度的导电线的透明片。一涂布基板包含：一基板；在该基板上的一介电层；以及包含导电层在该介电层上的一传感器，其中选自该介电层和该导电层的至少一层系借由选自微影术、喷墨印刷、和喷雾印刷的至少一方法形成。