公开(公告)号：TW201604309A

公开(公告)日：2016-02-01

申请号：TW104118614

申请日：2015-06-09

申请人： SPTS科技公司 ,  SPTS TECHNOLOGIES LIMITED

发明人： 庫克 凱薩琳 ,  CROOK, KATHERINE ,  柏吉斯 史帝芬R ,  BURGESS, STEPHEN R

IPC分类号： C23C16/40 ,  C23C16/44

CPC分类号： H01L28/40 ,  C23C14/10 ,  C23C16/401 ,  C23C16/45523 ,  C23C28/04 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02214 ,  H01L21/02274 ,  H01L23/3192 ,  H01L23/562 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： 本發明係有關於一種其上具有一電介質膜之基材，其中：該電介質膜包括至少四個電介質材料堆疊層；該等堆疊層包括受一壓縮應力之壓縮層，及受一拉伸應力之伸張層；並具有至少二個間隔開之伸張層，其各自連接至一個或一個以上的壓縮層。

简体摘要： 本发明系有关于一种其上具有一电介质膜之基材，其中：该电介质膜包括至少四个电介质材料堆栈层；该等堆栈层包括受一压缩应力之压缩层，及受一拉伸应力之伸张层；并具有至少二个间隔开之伸张层，其各自连接至一个或一个以上的压缩层。

公开(公告)号：TW201544832A

公开(公告)日：2015-12-01

申请号：TW104109616

申请日：2015-03-25

申请人： 奧特路(漳州)光學科技有限公司

发明人： 吳曉彤

IPC分类号： G02B1/10 ,  G02B5/20

CPC分类号： G02C7/104 ,  C23C14/021 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/14 ,  C23C14/30 ,  C23C14/584 ,  C23C14/5886 ,  G02B1/12 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18 ,  G02C7/10

摘要： 本發明公開一種防藍光光學鏡片的製造方法，製造方法是在高分子樹脂材料成型的基片外表面和內表面分別蒸鍍膜系形成防藍光光學鏡片，製造方法具體包括以下步驟：1)對基片進行清洗；2)基片清洗後的乾燥；3)基片鍍膜前在真空蒸鍍機的真空艙內的再次清洗；4)基片的鍍膜：基片的鍍膜包括在基片的外表面鍍膜系和在基片的內表面鍍膜系。本發明製造出來的防藍光光學鏡片具有防止有害藍光和紫外線對人體的傷害，該防藍光光學鏡片同時還具有防油污和自主光學調控的功能。

简体摘要： 本发明公开一种防蓝光光学镜片的制造方法，制造方法是在高分子树脂材料成型的基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防蓝光光学镜片，制造方法具体包括以下步骤：1)对基片进行清洗；2)基片清洗后的干燥；3)基片镀膜前在真空蒸镀机的真空舱内的再次清洗；4)基片的镀膜：基片的镀膜包括在基片的外表面镀膜系和在基片的内表面镀膜系。本发明制造出来的防蓝光光学镜片具有防止有害蓝光和紫外线对人体的伤害，该防蓝光光学镜片同时还具有防油污和自主光学调控的功能。

公开(公告)号：TW201539578A

公开(公告)日：2015-10-16

申请号：TW104101538

申请日：2015-01-16

申请人： 應用材料股份有限公司 ,  APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： 韓蒙得五世愛德華P ,  HAMMOND, IV, EDWARD P. ,  克查爾達曼丘特考爾 ,  KOCHHAR, DAMANJOT KAUR ,  史都華德麥可P ,  STEWART, MICHAEL P. ,  田中努 ,  TANAKA, TSUTOMU ,  波奈康提哈利K ,  PONNEKANTI, HARI K. ,  藍恩克里斯多福T ,  LANE, CHRISTOPHER T. ,  王魯平 ,  WANG, RUIPING

IPC分类号： H01L21/318 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01L21/6776 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/10 ,  C23C14/564 ,  C23C16/345 ,  C23C16/402 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/54

摘要： 本發明之實施例係關於用於一種在線上處理系統中減少剝脫之方法。該方法包括將基板移送至腔室內之處理區域，及將氮化矽層沉積在基板上。然後，自處理區域移送基板。然後，將二氧化矽層沉積在腔室之組件上方，以在氮化矽沉積期間覆蓋沉積在腔室組件上之任何氮化矽。安置在氮化矽層上之二氧化矽層減少氮化矽層自腔室組件之剝脫。

简体摘要： 本发明之实施例系关于用于一种在在线处理系统中减少剥脱之方法。该方法包括将基板移送至腔室内之处理区域，及将氮化硅层沉积在基板上。然后，自处理区域移送基板。然后，将二氧化硅层沉积在腔室之组件上方，以在氮化硅沉积期间覆盖沉积在腔室组件上之任何氮化硅。安置在氮化硅层上之二氧化硅层减少氮化硅层自腔室组件之剥脱。

公开(公告)号：TWI503430B

公开(公告)日：2015-10-11

申请号：TW100115410

申请日：2011-05-03

申请人： 鴻海精密工業股份有限公司 ,  HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.

发明人： 張新倍 ,  CHANG, HSIN PEI ,  陳文榮 ,  CHEN, WEN RONG ,  蔣煥梧 ,  CHIANG, HUANN WU ,  陳正士 ,  CHEN, CHENG SHI ,  馬楠 ,  MA, NAN

IPC分类号： C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  C23C14/10 ,  C23C14/34

CPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/021 ,  C23C14/022 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/081 ,  C23C14/10 ,  C23C14/345 ,  C23C14/3492 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31678

公开(公告)号：TWI488988B

公开(公告)日：2015-06-21

申请号：TW100119619

申请日：2011-06-03

申请人： 愛發科股份有限公司 ,  ULVAC, INC.

发明人： 磯部辰德 ,  ISOBE, TATSUNORI ,  大野哲宏 ,  OHNO, TETSUHIRO ,  佐藤重光 ,  SATO, SHIGEMITSU ,  須田具和 ,  SUDA, TOMOKAZU

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/10 ,  C23C14/352 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3435 ,  H01J37/345 ,  H01J37/3464 ,  H01J37/347

公开(公告)号：TW201520585A

公开(公告)日：2015-06-01

申请号：TW103116111

申请日：2014-05-06

申请人： 康寧公司 ,  CORNING INCORPORATED

发明人： 艾迪巴凱文 ,  ADIB, KAVEH ,  哈特尙登笛 ,  HART, SHANDON DEE ,  科赫三世卡爾威廉 ,  KOCH III, KARL WILLIAM ,  波森查爾斯安德魯 ,  PAULSON, CHARLES ANDREW ,  薩切尼克保羅亞瑟 ,  SACHENIK, PAUL ARTHUR

IPC分类号： G02B1/10 ,  C03C17/34 ,  G02B1/11 ,  C23C14/34

CPC分类号： G02B1/14 ,  C03C3/095 ,  C03C17/006 ,  C03C17/245 ,  C03C17/3435 ,  C03C17/3657 ,  C03C2217/214 ,  C03C2217/228 ,  C03C2217/29 ,  C03C2217/425 ,  C03C2217/73 ,  C03C2217/78 ,  C03C2217/91 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/155 ,  C23C14/10 ,  C23C14/34 ,  G02B1/10 ,  G02B1/105 ,  G02B1/115

摘要： 本揭示案之實施例係關於顯示抗刮性及改良之光學特性的物件。在一些實例中，當在照明體下以自法線之範圍為約0度至約60度之入射照明角觀察時，該物件顯示約2或更低的色移。在一或多個實施例中，該物件包括基板及安置在該基板上的光學薄膜。光學薄膜包括抗刮層及折射率梯度。在一或多個實施例中，折射率包括自基板與光學薄膜之間的介面處的第一表面至第二表面增加的折射率。折射率梯度可自組成梯度及/或孔隙率梯度形成。

简体摘要： 本揭示案之实施例系关于显示抗刮性及改良之光学特性的对象。在一些实例中，当在照明体下以自法线之范围为约0度至约60度之入射照明角观察时，该对象显示约2或更低的色移。在一或多个实施例中，该对象包括基板及安置在该基板上的光学薄膜。光学薄膜包括抗刮层及折射率梯度。在一或多个实施例中，折射率包括自基板与光学薄膜之间的界面处的第一表面至第二表面增加的折射率。折射率梯度可自组成梯度及/或孔隙率梯度形成。

公开(公告)号：TW201444696A

公开(公告)日：2014-12-01

申请号：TW103112230

申请日：2014-04-02

申请人： 東麗股份有限公司 ,  TORAY INDUSTRIES, INC.

发明人： 德永幸大 ,  TOKUNAGA, KODAI ,  上林浩行 ,  UEBAYASHI, HIROYUKI ,  佐竹光 ,  SATAKE, HIKARU ,  鈴木基之 ,  SUZUKI, MOTOYUKI

IPC分类号： B32B9/00 ,  C23C14/08 ,  C23C14/10 ,  C23C14/34

CPC分类号： C23C14/08 ,  B32B9/00 ,  B32B2307/412 ,  B32B2307/7244 ,  B32B2439/70 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/10 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/562

摘要： 本發明課題係提供一種阻氣性薄膜，其即使對於彎曲，阻氣性也難以降低，表現高透明且高度的阻氣性。一種阻氣性薄膜，其係在高分子薄膜基材之至少單側，具有至少含有氧化鋅及二氧化矽的阻氣層之阻氣性薄膜，其特徵為該阻氣層滿足以下之[I]至[III]任一項[I]就鋅之K吸收端之X射線吸收近能帶緣結構(XANES)光譜，(9664.0eV之光譜強度)/(9668.0eV之光譜強度)之值為0.910~1.000。[II]將鋅之原子濃度除以矽之原子濃度的比例為0.1~1.5，以下式所示結構密度指數為1.20~1.40，結構密度指數=(藉由X射線反射率(XRR)法所求得之阻氣層的密度)/(由藉由X射線光電子光譜(XPS)法所求得之組成比率所計算的理論密度)。[III]將在藉由FT-IR測定所測定的波數900~1,100cm-1的波峰，進行波峰分離成為波數920cm-1與1,080cm-1時，在920cm-1具有波峰之光譜的面積強度(A)與在1,080cm-1具有波峰之光譜的面積強度(B)之比(A/B)的值為1.0以上7.0以下。

简体摘要： 本发明课题系提供一种阻气性薄膜，其即使对于弯曲，阻气性也难以降低，表现高透明且高度的阻气性。一种阻气性薄膜，其系在高分子薄膜基材之至少单侧，具有至少含有氧化锌及二氧化硅的阻气层之阻气性薄膜，其特征为该阻气层满足以下之[I]至[III]任一项[I]就锌之K吸收端之X射线吸收近能带缘结构(XANES)光谱，(9664.0eV之光谱强度)/(9668.0eV之光谱强度)之值为0.910~1.000。[II]将锌之原子浓度除以硅之原子浓度的比例为0.1~1.5，以下式所示结构密度指数为1.20~1.40，结构密度指数=(借由X射线反射率(XRR)法所求得之阻气层的密度)/(由借由X射线光电子光谱(XPS)法所求得之组成比率所计算的理论密度)。[III]将在借由FT-IR测定所测定的波数900~1,100cm-1的波峰，进行波峰分离成为波数920cm-1与1,080cm-1时，在920cm-1具有波峰之光谱的面积强度(A)与在1,080cm-1具有波峰之光谱的面积强度(B)之比(A/B)的值为1.0以上7.0以下。

公开(公告)号：TWI411694B

公开(公告)日：2013-10-11

申请号：TW098117922

申请日：2009-05-27

申请人： 康寧公司 ,  CORNING INCORPORATED

发明人： 坎吉米 米歇耳 ,  CANGEMI, MICHAEL J. ,  史萊伯 赫司特 ,  SCHREIBER, HORST ,  王喬 ,  WANG, JUE

IPC分类号： C23C14/22 ,  G02B1/10 ,  C23C14/10

CPC分类号： G02B1/14 ,  C23C14/022 ,  C23C14/042 ,  C23C14/10 ,  C23C14/22 ,  G02B1/105 ,  Y10T428/315 ,  Y10T428/31663

公开(公告)号：TW201335393A

公开(公告)日：2013-09-01

申请号：TW101109023

申请日：2012-03-16

申请人： 新柯隆股份有限公司 ,  SHINCRON CO., LTD.

发明人： 菅原卓哉 ,  SUGAWARA, TAKUYA ,  青島光 ,  AOSHIMA, HIKARU ,  姜友松 ,  JIANG, YOUSONG ,  鹽野一郎 ,  SHIONO, ICHIRO

IPC分类号： C23C14/06 ,  C23C14/10 ,  C23C14/58 ,  B32B9/00 ,  B32B17/06

CPC分类号： C23C14/0635 ,  C03C17/3441 ,  C03C2217/78 ,  C23C14/0078 ,  C23C14/10 ,  C23C28/04 ,  C23C28/42 ,  Y10T428/24975

摘要： 本發明是提供高透光率及膜強度高的透光性硬質薄膜。本發明的透光性硬質薄膜，是由形成於基材S的表面的層積膜102構成，層積膜102具有超晶格構造，此超晶格構造是將SiO2層104與SiC層106作交互複數層層積而成，全體膜厚為3000nm以上。各層104、106的每一層的膜厚為SiO2層：5~30nm、SiC層：SiO2層的30~60%。

简体摘要： 本发明是提供高透光率及膜强度高的透光性硬质薄膜。本发明的透光性硬质薄膜，是由形成于基材S的表面的层积膜102构成，层积膜102具有超晶格构造，此超晶格构造是将SiO2层104与SiC层106作交互复数层层积而成，全体膜厚为3000nm以上。各层104、106的每一层的膜厚为SiO2层：5~30nm、SiC层：SiO2层的30~60%。

公开(公告)号：TW201321184A

公开(公告)日：2013-06-01

申请号：TW101136322

申请日：2012-10-02

申请人： 東麗股份有限公司 ,  TORAY INDUSTRIES, INC.

发明人： 塚村裕介 ,  TSUKAMURA, YUSUKE ,  上林浩行 ,  UEBAYASHI, HIROYUKI ,  吉田實 ,  YOSHIDA, MINORU ,  鈴木基之 ,  SUZUKI, MOTOYUKI

IPC分类号： B32B27/30 ,  B32B37/02 ,  C08J7/04

CPC分类号： C08J7/045 ,  B65D65/40 ,  C08F220/14 ,  C08F230/08 ,  C08F259/08 ,  C08F265/06 ,  C08F290/068 ,  C08J2367/02 ,  C08J2433/00 ,  C08J2433/10 ,  C08J2433/12 ,  C08J2433/16 ,  C08J2443/04 ,  C08L33/066 ,  C23C14/0629 ,  C23C14/081 ,  C23C14/086 ,  C23C14/10 ,  C23C14/3457 ,  C23C16/40 ,  C23C16/50 ,  C08F220/20 ,  C08F220/06 ,  C08F2220/1875 ,  C08F220/18

摘要： 本發明之目的係提供一種高阻氣性、且阻氣性的重複再現性優良的阻氣性薄膜。為此，本發明提供一種阻氣性薄膜，其係把具有由以下(I)~(III)所構成之群組中選出至少1種側鏈之丙烯酸系樹脂當成主成分之底塗層與無機層，以此順序接鄰配置於高分子基材的至少一側而成之物。(I)具有丙烯酸系聚合物骨架之側鏈(II)具有二甲基矽氧烷骨架之側鏈(III)具有含氟原子之骨架的側鏈

简体摘要： 本发明之目的系提供一种高阻气性、且阻气性的重复再现性优良的阻气性薄膜。为此，本发明提供一种阻气性薄膜，其系把具有由以下(I)~(III)所构成之群组中选出至少1种侧链之丙烯酸系树脂当成主成分之底涂层与无机层，以此顺序接邻配置于高分子基材的至少一侧而成之物。(I)具有丙烯酸系聚合物骨架之侧链(II)具有二甲基硅氧烷骨架之侧链(III)具有含氟原子之骨架的侧链