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公开(公告)号:TWI600794B
公开(公告)日:2017-10-01
申请号:TW102124750
申请日:2013-07-10
发明人: 科爾多尼爾 克里斯多夫 , CORDONIER, CHRISTOPHER , 本間英夫 , HONMA, HIDEO
IPC分类号: C23C18/42 , C07C321/14
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公开(公告)号:TW201713797A
公开(公告)日:2017-04-16
申请号:TW104133871
申请日:2015-10-15
申请人: 傑希優股份有限公司 , JCU CORPORATION
发明人: 堀真雄 , HORI, MASAO , 倉持保之 , KURAMOCHI, YASUYUKI , 泉谷美代子 , IZUMITANI, MIYOKO
IPC分类号: C23C18/24
摘要: 本發明提供一種樹脂成形體用蝕刻液,其特徵係含有過錳酸離子之酸性蝕刻液,進而含有pH緩衝劑,及提供利用其之樹脂成形體之蝕刻方法,且提供藉由對樹脂成形體之鍍敷方法而可在保有過錳酸具有之蝕刻性能之下,價格便宜地抑制過錳酸分解之技術。
简体摘要: 本发明提供一种树脂成形体用蚀刻液,其特征系含有过锰酸离子之酸性蚀刻液,进而含有pH缓冲剂,及提供利用其之树脂成形体之蚀刻方法,且提供借由对树脂成形体之镀敷方法而可在保有过锰酸具有之蚀刻性能之下,价格便宜地抑制过锰酸分解之技术。
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公开(公告)号:TW201641433A
公开(公告)日:2016-12-01
申请号:TW105109204
申请日:2016-03-24
申请人: 傑希優股份有限公司 , JCU CORPORATION
发明人: 村山隆史 , MURAYAMA, TAKASHI
摘要: 本發明的問題在於無論氣體種類等為何,都能確實地判定用於處理作業對象物之處理液的脫氣度,該作業對象物在表面具有由溝或穴所構成的細微圖案。 為了解決上述問題,本發明的處理液的脫氣判定方法,將用以判定脫氣處理槽內之的處理液的脫氣度之擬似作業對象物,浸漬在實行該處理液中所含氣體的脫氣之該脫氣處理槽內,並相應於該擬似作業對象物的表面狀態的時間變化,來判定前述處理液的脫氣度;該處理液是用以處理在表面具有由溝或穴所構成的細微圖案之作業對象物,而該擬似作業對象物在表面具備細微圖案,該細微圖案具有所需要的凹凸。
简体摘要: 本发明的问题在于无论气体种类等为何,都能确实地判定用于处理作业对象物之处理液的脱气度,该作业对象物在表面具有由沟或穴所构成的细微图案。 为了解决上述问题,本发明的处理液的脱气判定方法,将用以判定脱气处理槽内之的处理液的脱气度之拟似作业对象物,浸渍在实行该处理液中所含气体的脱气之该脱气处理槽内,并相应于该拟似作业对象物的表面状态的时间变化,来判定前述处理液的脱气度;该处理液是用以处理在表面具有由沟或穴所构成的细微图案之作业对象物,而该拟似作业对象物在表面具备细微图案,该细微图案具有所需要的凹凸。
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公开(公告)号:TW201510295A
公开(公告)日:2015-03-16
申请号:TW103118809
申请日:2014-05-29
申请人: 傑希優股份有限公司 , JCU CORPORATION
发明人: 堀真雄 , HORI, MASAO
CPC分类号: C25D3/32 , C25D3/60 , C25D5/02 , C25D5/54 , C25D7/00 , C25D7/12 , H01L21/2885 , H01L21/76898 , H05K3/187 , H05K3/421
摘要: 本發明之課題係解決以過去所使用錫或錫合金鍍敷用鍍液試圖填充貫孔或通孔時,填充本身無法良好地進行,即使填充本身能夠良好地進行,有其為極端長填充時間的問題。解決該課題之錫或錫合金用電鍍液的特徵係含有以下的成分(a)及(b): (a)含羧基之化合物 (b)含羰基之化合物,且成分(a)為1.3g/L以上,以及成分(b)為0.3g/L以上。
简体摘要: 本发明之课题系解决以过去所使用锡或锡合金镀敷用镀液试图填充贯孔或通孔时,填充本身无法良好地进行,即使填充本身能够良好地进行,有其为极端长填充时间的问题。解决该课题之锡或锡合金用电镀液的特征系含有以下的成分(a)及(b): (a)含羧基之化合物 (b)含羰基之化合物,且成分(a)为1.3g/L以上,以及成分(b)为0.3g/L以上。
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公开(公告)号:TWI633204B
公开(公告)日:2018-08-21
申请号:TW103125679
申请日:2014-07-28
发明人: 吉田裕之 , YOSHIDA, HIROYUKI , 望月信介 , MOCHIZUKI, SHINSUKE , 平山博史 , HIRAYAMA, HIROSHI , 長井利泰 , NAGAI, TOSHIYASU , 根道靖丈 , NEMICHI, YASUTAKE , 佐土原大祐 , SADOHARA, DAISUKE , 下田勝己 , SHIMODA, KATSUMI , 西川賢一 , NISHIKAWA, KENICHI
IPC分类号: C23C2/06
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公开(公告)号:TWI625428B
公开(公告)日:2018-06-01
申请号:TW103118809
申请日:2014-05-29
申请人: 傑希優股份有限公司 , JCU CORPORATION
发明人: 堀真雄 , HORI, MASAO
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公开(公告)号:TWI595118B
公开(公告)日:2017-08-11
申请号:TW102129658
申请日:2013-08-19
申请人: 傑希優股份有限公司 , JCU CORPORATION
发明人: 吉岡潤一郎 , YOSHIOKA, JUNICHIRO , 村山史 , MURAYAMA, TAKASHI
IPC分类号: C25D17/06 , H01L21/68 , H01L21/683
CPC分类号: H01L21/68721 , C25D17/001 , C25D17/06
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公开(公告)号:TW201619242A
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:TW104124915
申请日:2015-07-31
申请人: 傑希優股份有限公司 , JCU CORPORATION
发明人: 佐土原大祐 , SADOHARA, DAISUKE , 西川賢一 , NISHIKAWA, KENICHI , 根道靖丈 , NEMICHI, YASUTAKE , 下田勝己 , SHIMODA, KATSUMI , 泉谷美代子 , IZUMITANI, MIYOKO
IPC分类号: C08G77/02 , C08G79/00 , C09D183/02 , C09D185/00 , C09D5/00 , C23C18/30
CPC分类号: C07F7/04 , C08G77/08 , C08G77/60 , C08G79/00 , C09D5/24 , C09D183/06 , C09D201/00 , C23C18/18
摘要: 本發明之目的係提供一種不管基材種類為何均可鍍敷之新穎技術。 該技術係在觸媒金屬存在下,使四烷氧基矽烷與於至少n、n+1位或n、n+2位(惟n為1以上之整數)上鍵結有羥基之多元醇進行縮合反應而獲得之含觸媒金屬之矽寡聚物及利用包含其之塗覆劑之鍍敷方法。
简体摘要: 本发明之目的系提供一种不管基材种类为何均可镀敷之新颖技术。 该技术系在触媒金属存在下,使四烷氧基硅烷与于至少n、n+1位或n、n+2位(惟n为1以上之整数)上键结有羟基之多元醇进行缩合反应而获得之含触媒金属之硅寡聚物及利用包含其之涂覆剂之镀敷方法。
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公开(公告)号:TWI494470B
公开(公告)日:2015-08-01
申请号:TW098141515
申请日:2009-12-04
申请人: 傑希優股份有限公司 , JCU CO., LTD.
发明人: 大野晃宜 , OHNO, AKINOBU , 高德誠 , KOHTOKU, MAKOTO , 濱田實香 , HAMADA, MIKA
IPC分类号: C23C18/28 , C23C18/38 , C23C18/32 , B32B15/088
CPC分类号: C25D3/38 , C23C18/1601 , C23C18/1653 , C23C18/30 , C23C18/32 , C23C18/50 , C25D1/04 , C25D5/00 , C25D5/10 , C25D7/123
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公开(公告)号:TW201518310A
公开(公告)日:2015-05-16
申请号:TW103122284
申请日:2014-06-27
申请人: 傑希優股份有限公司 , JCU CORPORATION
发明人: 佐土原大祐 , SADOHARA, DAISUKE , 西川賢一 , NISHIKAWA, KENICHI , 根道靖丈 , NEMICHI, YASUTAKE , 下田勝己 , SHIMODA, KATSUMI , 安田弘樹 , YASUDA, HIROKI , 都木新介 , TAKAGI, SHINSUKE , 戶田久之 , TODA, HISAYUKI , 科爾多尼爾 克里斯多夫 阿尼斯特 約翰 , CORDONIER, CHRISTOPHER ERNEST JOHN
IPC分类号: C07F7/04 , C08G77/02 , C09D183/00
摘要: 本發明之目的在於提供一種不在以往的水與四烷氧矽烷之縮合物中,具有新穎機能的矽寡聚物以及利用此矽寡聚物的塗層劑,並提供以下列一般式(I)表示的矽寡聚物及含有此矽寡聚物的塗層劑。 (惟,R1~R10各自獨立為碳數1~4的烷基或羥烷基,X1~X3各自獨立為以下述一般式(II)表示的基, (惟,A係碳數2~4之可分支的伸烷基,l為1~3的整數), n為0或1,m在n為0時為1~3的整數,在n為1時為1)。
简体摘要: 本发明之目的在于提供一种不在以往的水与四烷氧硅烷之缩合物中,具有新颖机能的硅寡聚物以及利用此硅寡聚物的涂层剂,并提供以下列一般式(I)表示的硅寡聚物及含有此硅寡聚物的涂层剂。 (惟,R1~R10各自独立为碳数1~4的烷基或羟烷基,X1~X3各自独立为以下述一般式(II)表示的基, (惟,A系碳数2~4之可分支的伸烷基,l为1~3的整数), n为0或1,m在n为0时为1~3的整数,在n为1时为1)。
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