極紫外線平版印刷所用之摻鈦石英玻璃之製造方法及所製成之胚件
    2.
    发明专利
    極紫外線平版印刷所用之摻鈦石英玻璃之製造方法及所製成之胚件 审中-公开
    极紫外线平版印刷所用之掺钛石英玻璃之制造方法及所制成之胚件

    公开(公告)号:TW201509838A

    公开(公告)日:2015-03-16

    申请号:TW103126324

    申请日:2014-08-01

    IPC分类号: C03B19/01

    摘要: 摻鈦矽玻璃所含之Ti3+離子會使該玻璃染成褐色,造成玻璃檢驗之困難。在摻鈦矽玻璃中,還原Ti3+離子以增加Ti4+離子,可透過一足夠高之OH基成分安全達成,然其係伴隨一內部之氧化以及氫氣之逸出,抑或在較低OH基成分下於玻璃化之前進行氧處理,然其需要高溫處理以及特殊耐腐蝕烤箱,因此亦極為昂貴。為提出一種摻鈦矽玻璃之便宜製造方法,其係於氫氧基含量小於百萬分之120時,在400nm至1000nm之波長範圍內有一至少為70%之內穿透率(樣品厚度10mm),依據本發明,其係以火焰水解之煤灰體沈積法為起點,在TiO2-SiO2煤灰體玻璃化之前先進行調節處理,而其係包含一使用氮氧化物之處理。如此製成之摻鈦矽玻璃胚件,特徵為具有Ti3+/Ti4+≦5×10-4之比例。

    简体摘要: 掺钛硅玻璃所含之Ti3+离子会使该玻璃染成褐色,造成玻璃检验之困难。在掺钛硅玻璃中,还原Ti3+离子以增加Ti4+离子,可透过一足够高之OH基成分安全达成,然其系伴随一内部之氧化以及氢气之逸出,抑或在较低OH基成分下于玻璃化之前进行氧处理,然其需要高温处理以及特殊耐腐蚀烤箱,因此亦极为昂贵。为提出一种掺钛硅玻璃之便宜制造方法,其系于氢氧基含量小于百万分之120时,在400nm至1000nm之波长范围内有一至少为70%之内穿透率(样品厚度10mm),依据本发明,其系以火焰水解之煤灰体沉积法为起点,在TiO2-SiO2煤灰体玻璃化之前雪铁龙行调节处理,而其系包含一使用氮氧化物之处理。如此制成之掺钛硅玻璃胚件,特征为具有Ti3+/Ti4+≦5×10-4之比例。

    摻鈦和氟之高矽酸含量玻璃胚件之製造方法
    4.
    发明专利
    摻鈦和氟之高矽酸含量玻璃胚件之製造方法 审中-公开
    掺钛和氟之高硅酸含量玻璃胚件之制造方法

    公开(公告)号:TW201527232A

    公开(公告)日:2015-07-16

    申请号:TW103136400

    申请日:2014-10-22

    摘要: 本發明係關於一種方法,由摻鈦之高矽酸含量玻璃製造胚件,其具一預定之氟含量,以應用於極紫外線平版印刷,使其熱膨脹係數在操作溫度下儘可能穩定為零。摻鈦矽玻璃胚件之熱膨脹係數走勢,係由許多影響因素決定。除去絕對鈦含量之外,鈦之分布亦有極大意義,其他摻雜元素之含量及分布亦然,例如氟。本發明係提出一種方法,其係包含一合成製程,由該製程產生摻氟之TiO2-SiO2煤灰粒子,再經由固化及玻璃化加工成為胚件,其特徵為,其合成程序包含一方法步驟,利用火焰水解法將含矽和鈦之起始物質形成TiO2-SiO2煤灰粒子,並於後續方法步驟中,將TiO2-SiO2煤灰粒子置於一活動粉末床中,使其暴露於含氟之反應劑而轉變成摻氟之TiO2-SiO2煤灰粒子。

    简体摘要: 本发明系关于一种方法,由掺钛之高硅酸含量玻璃制造胚件,其具一预定之氟含量,以应用于极紫外线平版印刷,使其热膨胀系数在操作温度下尽可能稳定为零。掺钛硅玻璃胚件之热膨胀系数走势,系由许多影响因素决定。除去绝对钛含量之外,钛之分布亦有极大意义,其他掺杂元素之含量及分布亦然,例如氟。本发明系提出一种方法,其系包含一合成制程,由该制程产生掺氟之TiO2-SiO2煤灰粒子,再经由固化及玻璃化加工成为胚件,其特征为,其合成进程包含一方法步骤,利用火焰水解法将含硅和钛之起始物质形成TiO2-SiO2煤灰粒子,并于后续方法步骤中,将TiO2-SiO2煤灰粒子置于一活动粉末床中,使其暴露于含氟之反应剂而转变成掺氟之TiO2-SiO2煤灰粒子。

    用於EUV微影製程中之鏡面基材的鈦摻雜矽石玻璃坯料及其製造方法
    9.
    发明专利
    用於EUV微影製程中之鏡面基材的鈦摻雜矽石玻璃坯料及其製造方法 审中-公开
    用于EUV微影制程中之镜面基材的钛掺杂硅石玻璃坯料及其制造方法

    公开(公告)号:TW201602022A

    公开(公告)日:2016-01-16

    申请号:TW104119887

    申请日:2015-06-18

    IPC分类号: C03B20/00 G02B1/00

    摘要: 在用於EUV微影製程中之鏡面基材的鈦摻雜矽石玻璃坯料中,通常界定光學使用區域CA。在CA內,熱膨脹係數CTE具有於該坯料之厚度上平均化之二維dCTE分佈剖面,在此情況下,最大不均勻性dCTEmax(定義為CTE最大值與CTE最小值之差值)係小於5ppb/K。已知藉由個別調適之位置相關性調整二氧化鈦濃度之方式避免高CTE不均勻性值。相對高絕對CTE不均勻性值係僅於使用期間出現之輻射剖面顯示圓形對稱時可接受。自此開始,為提供經設計並適合與具有非圓形輻射剖面共同使用亦無需個別調適之位置相關性調整二氧化鈦濃度之鈦摻雜矽石玻璃坯料,本發明提出dCTEmax係至少0.5ppb/K,及CA形成具有該區域之質心之非圓形區域,其中該dCTE分佈剖面係非旋轉對稱並界定於CA上使得標準化至單位長度並延伸通過該區域之該質心之直剖面區段(straight profile sections)產生形成具有小於0.5 x dCTEmax之帶寬之曲線帶的dCTE曲線族。

    简体摘要: 在用于EUV微影制程中之镜面基材的钛掺杂硅石玻璃坯料中,通常界定光学使用区域CA。在CA内,热膨胀系数CTE具有于该坯料之厚度上平均化之二维dCTE分布剖面,在此情况下,最大不均匀性dCTEmax(定义为CTE最大值与CTE最小值之差值)系小于5ppb/K。已知借由个别调适之位置相关性调整二氧化钛浓度之方式避免高CTE不均匀性值。相对高绝对CTE不均匀性值系仅于使用期间出现之辐射剖面显示圆形对称时可接受。自此开始,为提供经设计并适合与具有非圆形辐射剖面共同使用亦无需个别调适之位置相关性调整二氧化钛浓度之钛掺杂硅石玻璃坯料,本发明提出dCTEmax系至少0.5ppb/K,及CA形成具有该区域之质心之非圆形区域,其中该dCTE分布剖面系非旋转对称并界定于CA上使得标准化至单位长度并延伸通过该区域之该质心之直剖面区段(straight profile sections)产生形成具有小于0.5 x dCTEmax之带宽之曲线带的dCTE曲线族。

    由摻鈦石英極紫外線平板印刷所用鏡基板胚件之方法,以及胚件缺陷之定位系統
    10.
    发明专利
    由摻鈦石英極紫外線平板印刷所用鏡基板胚件之方法,以及胚件缺陷之定位系統 审中-公开
    由掺钛石英极紫外线平板印刷所用镜基板胚件之方法,以及胚件缺陷之定位系统

    公开(公告)号:TW201506389A

    公开(公告)日:2015-02-16

    申请号:TW103120956

    申请日:2014-06-18

    摘要: 對於極紫外線平版印刷所用之摻鈦石英玻璃而言,其大型光學器械之製造及品管,既有技術之一般測量方法對於玻璃材料缺陷之定位並不足夠。因此,建議一種方法,用以製造一極紫外線平版印刷所用、厚度至少為40毫米之摻鈦石英玻璃鏡基板胚件,其具下列方法步驟:a)磨平該胚件表面b)獲取該胚件表面層之缺陷資料,其中b1)光線以一小於90°之預定入射角α,入射於該胚件平坦表面之一點,b2)該光線在胚件內之一缺陷產生散射,而且b3)於胚件表面距入射點距離x之處,以一垂直置於上方之光線收集元件偵測其散射光;c)根據方法步驟b)所獲得資料,確定其表面層之缺陷位置d)參照方法步驟c)所得之定位以及該鏡基板胚件之成型,將其表面層局 部或全部去除。(第1a圖)

    简体摘要: 对于极紫外线平版印刷所用之掺钛石英玻璃而言,其大型光学器械之制造及品管,既有技术之一般测量方法对于玻璃材料缺陷之定位并不足够。因此,建议一种方法,用以制造一极紫外线平版印刷所用、厚度至少为40毫米之掺钛石英玻璃镜基板胚件,其具下列方法步骤:a)磨平该胚件表面b)获取该胚件表面层之缺陷数据,其中b1)光线以一小于90°之预定入射角α,入射于该胚件平坦表面之一点,b2)该光线在胚件内之一缺陷产生散射,而且b3)于胚件表面距入射点距离x之处,以一垂直置于上方之光线收集组件侦测其散射光;c)根据方法步骤b)所获得数据,确定其表面层之缺陷位置d)参照方法步骤c)所得之定位以及该镜基板胚件之成型,将其表面层局 部或全部去除。(第1a图)