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    極紫外線平版印刷所用之摻鈦石英玻璃之製造方法及所製成之胚件
    3.
    发明专利
    極紫外線平版印刷所用之摻鈦石英玻璃之製造方法及所製成之胚件 审中-公开
    极紫外线平版印刷所用之掺钛石英玻璃之制造方法及所制成之胚件

    公开(公告)号：TW201509838A

    公开(公告)日：2015-03-16

    申请号：TW103126324

    申请日：2014-08-01

    申请人： 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

    发明人： 歐克斯 史帝芬 ,  OCHS, STEFAN ,  貝克 克勞斯 ,  BECKER, KLAUS ,  湯瑪士 史帝芬 ,  THOMAS, STEPHAN

    IPC分类号： C03B19/01

    CPC分类号： C03B19/1461 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52 ,  C03C2204/00 ,  G03F1/52 ,  G03F1/60

    摘要： 摻鈦矽玻璃所含之Ti3+離子會使該玻璃染成褐色，造成玻璃檢驗之困難。在摻鈦矽玻璃中，還原Ti3+離子以增加Ti4+離子，可透過一足夠高之OH基成分安全達成，然其係伴隨一內部之氧化以及氫氣之逸出，抑或在較低OH基成分下於玻璃化之前進行氧處理，然其需要高溫處理以及特殊耐腐蝕烤箱，因此亦極為昂貴。為提出一種摻鈦矽玻璃之便宜製造方法，其係於氫氧基含量小於百萬分之120時，在400nm至1000nm之波長範圍內有一至少為70%之內穿透率(樣品厚度10mm)，依據本發明，其係以火焰水解之煤灰體沈積法為起點，在TiO2-SiO2煤灰體玻璃化之前先進行調節處理，而其係包含一使用氮氧化物之處理。如此製成之摻鈦矽玻璃胚件，特徵為具有Ti3+/Ti4+≦5×10-4之比例。

    简体摘要： 掺钛硅玻璃所含之Ti3+离子会使该玻璃染成褐色，造成玻璃检验之困难。在掺钛硅玻璃中，还原Ti3+离子以增加Ti4+离子，可透过一足够高之OH基成分安全达成，然其系伴随一内部之氧化以及氢气之逸出，抑或在较低OH基成分下于玻璃化之前进行氧处理，然其需要高温处理以及特殊耐腐蚀烤箱，因此亦极为昂贵。为提出一种掺钛硅玻璃之便宜制造方法，其系于氢氧基含量小于百万分之120时，在400nm至1000nm之波长范围内有一至少为70%之内穿透率(样品厚度10mm)，依据本发明，其系以火焰水解之煤灰体沉积法为起点，在TiO2-SiO2煤灰体玻璃化之前雪铁龙行调节处理，而其系包含一使用氮氧化物之处理。如此制成之掺钛硅玻璃胚件，特征为具有Ti3+/Ti4+≦5×10-4之比例。

    應用於氬氟準分子雷射製版術之石英玻璃光學元件及該元件之製造方法
    4.
    发明专利
    應用於氬氟準分子雷射製版術之石英玻璃光學元件及該元件之製造方法 审中-公开
    应用于氩氟准分子激光制版术之石英玻璃光学组件及该组件之制造方法

    公开(公告)号：TW201434778A

    公开(公告)日：2014-09-16

    申请号：TW103103371

    申请日：2014-01-29

    申请人： 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

    发明人： 庫恩 伯多

    IPC分类号： C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03B19/01 ,  G02B1/00

    CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

    摘要： 本發明係關於一種由合成石英玻璃製成之光學元件，應用於氬氟準分子雷射製版術，其操作波長為193nm，且具一基本上不含氧缺陷點之玻璃結構，其氫含量介於0.1×1016分子/cm3至1.0×1018分子/cm3之間，矽氫基含量低於2×1017分子/cm3，氫氧基含量介於0.1及100重量百萬分比之間，其中，該玻璃結構具一低於1070℃之假想溫度。若以量測波長為633nm之密實度測量為起點，使其得以可靠預測紫外線雷射於操作波長操作時之密實度，則該光學元件之架構應如下所述，即以一波長為193nm及5×109脈衝數之射線照射，脈衝寬度為125ns，各脈衝之能量密度為500μJ/cm2，而且脈衝重複頻率為2000Hz，用以反應雷射誘生之折射係數變化，其數據以193nm之操作波長所測得之第一測量值為M193nm，而以633nm之量測波長所測得之第二測量值為M633nm，而且：M193nm/M633nm＜1.7成立。

    简体摘要： 本发明系关于一种由合成石英玻璃制成之光学组件，应用于氩氟准分子激光制版术，其操作波长为193nm，且具一基本上不含氧缺陷点之玻璃结构，其氢含量介于0.1×1016分子/cm3至1.0×1018分子/cm3之间，硅氢基含量低于2×1017分子/cm3，氢氧基含量介于0.1及100重量百万分比之间，其中，该玻璃结构具一低于1070℃之假想温度。若以量测波长为633nm之密实度测量为起点，使其得以可靠预测紫外线激光于操作波长操作时之密实度，则该光学组件之架构应如下所述，即以一波长为193nm及5×109脉冲数之射线照射，脉冲宽度为125ns，各脉冲之能量密度为500μJ/cm2，而且脉冲重复频率为2000Hz，用以反应激光诱生之折射系数变化，其数据以193nm之操作波长所测得之第一测量值为M193nm，而以633nm之量测波长所测得之第二测量值为M633nm，而且：M193nm/M633nm＜1.7成立。