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公开(公告)号:TWI701085B
公开(公告)日:2020-08-11
申请号:TW105110914
申请日:2016-04-07
Applicant: 德商蘇士微科技印刷術股份有限公司 , SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH
Inventor: 費雪 凱琴 , FISCHER, KATRIN , 帕利 弗洛里安 , PALITSCHKA, FLORIAN , 索思沃斯 達倫 , SOUTHWORTH, DARREN ROBERT , 惠特尼 威廉 , WHITNEY, WILLIAM
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公开(公告)号:TW201803649A
公开(公告)日:2018-02-01
申请号:TW106120050
申请日:2017-06-15
Applicant: 蘇士微科技印刷術股份有限公司 , SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH
Inventor: 索思沃斯 達倫 , SOUTHWORTH, DARREN ROBERT , 法克 歐瑪 , FAKHR, OMAR
CPC classification number: B05D1/002 , B05D3/007 , G03F7/162 , G03F7/168 , H01L21/0337 , H01L21/6715
Abstract: 所描述的是一種以塗佈材料來塗佈基板(12)的方法,尤其是以塗層或光阻劑,其中,在此方法中提供有基板(12)。塗佈材料被施加到基板(12)的上側(22)。產生氣流,此氣流從基板(12)的下側(18)被導引到基板(12)的上側(22),其中,氣流防止塗佈材料的珠粒形成在基板(12)的上側(22)的邊緣(26)上,或是藉由氣流來移除先前存在的珠粒。此外,還描述了一種塗佈系統(10)。
Abstract in simplified Chinese: 所描述的是一种以涂布材料来涂布基板(12)的方法,尤其是以涂层或光阻剂,其中,在此方法中提供有基板(12)。涂布材料被施加到基板(12)的上侧(22)。产生气流,此气流从基板(12)的下侧(18)被导引到基板(12)的上侧(22),其中,气流防止涂布材料的珠粒形成在基板(12)的上侧(22)的边缘(26)上,或是借由气流来移除先前存在的珠粒。此外,还描述了一种涂布系统(10)。
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公开(公告)号:TW201707802A
公开(公告)日:2017-03-01
申请号:TW105110914
申请日:2016-04-07
Applicant: 蘇士微科技印刷術股份有限公司 , SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH
Inventor: 費雪 凱琴 , FISCHER, KATRIN , 帕利 弗洛里安 , PALITSCHKA, FLORIAN , 索思沃斯 達倫 , SOUTHWORTH, DARREN ROBERT , 惠特尼 威廉 , WHITNEY, WILLIAM
CPC classification number: H01L21/76831 , H01L21/02118 , H01L21/02282 , H01L21/02307 , H01L21/02315 , H01L21/6715 , H01L21/76898
Abstract: 本發明關於塗佈設有通路的基板。在本文中,問題發生,從而塗料劑包圍通路中的空氣。這對於表面的平面性(planarity)而言為不利的。為了解決此問題,本發明提供了一種用於塗佈設有通路的基板的方法,其中,以下的步驟被執行:調節基板;以及以電絕緣材料塗佈基板,使得通路被完全地填滿。
Abstract in simplified Chinese: 本发明关于涂布设有通路的基板。在本文中,问题发生,从而涂料剂包围通路中的空气。这对于表面的平面性(planarity)而言为不利的。为了解决此问题,本发明提供了一种用于涂布设有通路的基板的方法,其中,以下的步骤被运行:调节基板;以及以电绝缘材料涂布基板,使得通路被完全地填满。
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