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公开(公告)号:TWI687523B
公开(公告)日:2020-03-11
申请号:TW105109033
申请日:2016-03-23
发明人: 齋藤淳 , SAITO, ATSUSHI , 張守斌 , ZHANG, SHOUBIN , 塩野一郎 , SHIONO, ICHIRO
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公开(公告)号:TWI666333B
公开(公告)日:2019-07-21
申请号:TW104122043
申请日:2015-07-07
发明人: 梅本啓太 , UMEMOTO, KEITA , 張守斌 , ZHANG, SHOUBIN
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公开(公告)号:TWI696715B
公开(公告)日:2020-06-21
申请号:TW105134436
申请日:2016-10-25
发明人: 梅本啓太 , UMEMOTO, KEITA , 張守斌 , ZHANG, SHOUBIN , 陸田雄也 , MUTSUDA, YUYA
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公开(公告)号:TWI685477B
公开(公告)日:2020-02-21
申请号:TW105102710
申请日:2016-01-28
发明人: 歳森悠人 , TOSHIMORI, YUTO , 齋藤淳 , SAITO, ATSUSHI , 塩野一郎 , SHIONO, ICHIRO , 張守斌 , ZHANG, SHOUBIN
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公开(公告)号:TW201812061A
公开(公告)日:2018-04-01
申请号:TW106124834
申请日:2017-07-25
发明人: 梅本太 , UMEMOTO, KEITA , 井尾謙介 , IO, KENSUKE , 張守斌 , ZHANG, SHOUBIN , 塩野一郎 , SHIONO, ICHIRO
IPC分类号: C23C14/34 , C22C1/04 , C22C9/00 , B22F3/14 , H01L31/032
摘要: 本發明之Cu-Ga濺鍍靶係具有以下組成:作為金屬成分係含有Ga為5原子%以上、60原子%以下之範圍,進一步含有由K、Rb、Cs所成之群中選出的至少1種之添加元素為0.01原子%以上、5原子%以下之範圍,剩餘部分由Cu及不可避免的雜質所構成,前述添加元素的全部或一部分係以包含由F、Cl、Br及I所成之群中選出的至少1種鹵素之鹵化物粒子的狀態存在,前述鹵化物粒子之最大粒徑係設為15μm以下,氧濃度係設為1000質量ppm以下。
简体摘要: 本发明之Cu-Ga溅镀靶系具有以下组成:作为金属成分系含有Ga为5原子%以上、60原子%以下之范围,进一步含有由K、Rb、Cs所成之群中选出的至少1种之添加元素为0.01原子%以上、5原子%以下之范围,剩余部分由Cu及不可避免的杂质所构成,前述添加元素的全部或一部分系以包含由F、Cl、Br及I所成之群中选出的至少1种卤素之卤化物粒子的状态存在,前述卤化物粒子之最大粒径系设为15μm以下,氧浓度系设为1000质量ppm以下。
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公开(公告)号:TWI697572B
公开(公告)日:2020-07-01
申请号:TW105123459
申请日:2016-07-25
发明人: 歳森悠人 , TOSHIMORI, YUTO , 塩野一郎 , SHIONO, ICHIRO , 張守斌 , ZHANG, SHOUBIN
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公开(公告)号:TWI653348B
公开(公告)日:2019-03-11
申请号:TW104128400
申请日:2015-08-28
发明人: 梅本啓太 , UMEMOTO, KEITA , 張守斌 , ZHANG, SHOUBIN , 井尾謙介 , IO, KENSUKE
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公开(公告)号:TWI600777B
公开(公告)日:2017-10-01
申请号:TW102106207
申请日:2013-02-22
发明人: 張守斌 , ZHANG, SHOUBIN , 梅本啓太 , UMEMOTO, KEITA , 小路雅弘 , SHOJI, MASAHIRO
CPC分类号: H01J37/3429 , B22F3/10 , B22F2201/20 , B22F2301/00 , B22F2999/00 , C22C1/0425 , C22C32/0089 , C23C14/0623 , C23C14/08 , C23C14/087 , C23C14/3414 , C23C14/35 , B22F3/1007
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公开(公告)号:TWI576446B
公开(公告)日:2017-04-01
申请号:TW102137515
申请日:2013-10-17
发明人: 梅本啓太 , UMEMOTO, KEITA , 張守斌 , ZHANG, SHOUBIN
CPC分类号: H01J37/3426 , B22F3/10 , B22F3/14 , B22F3/15 , B22F3/24 , B22F2003/247 , C22C1/0425 , C22C9/00 , C22C28/00 , C23C14/3414
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公开(公告)号:TW201710522A
公开(公告)日:2017-03-16
申请号:TW105109033
申请日:2016-03-23
发明人: 齋藤淳 , SAITO, ATSUSHI , 張守斌 , ZHANG, SHOUBIN , 塩野一郎 , SHIONO, ICHIRO
摘要: 本發明提供濺鍍靶材,其特徵為含有Fe與Mo作為金屬元素,且前述金屬元素之一部分或全部以氧化物之形態存在,而且氧化物相中含有Fe-Mo-O系化合物。
简体摘要: 本发明提供溅镀靶材,其特征为含有Fe与Mo作为金属元素,且前述金属元素之一部分或全部以氧化物之形态存在,而且氧化物相中含有Fe-Mo-O系化合物。
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