公开(公告)号：TWI688726B

公开(公告)日：2020-03-21

申请号：TW105123508

申请日：2016-07-26

Applicant: 日商東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 澤地淳 ,  SAWACHI, ATSUSHI ,  網倉紀彥 ,  AMIKURA, NORIHIKO

IPC: F17D5/02 ,  G01M3/28 ,  H01L21/205

公开(公告)号：TWI690616B

公开(公告)日：2020-04-11

申请号：TW104126653

申请日：2015-08-17

Applicant: 日商東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 澤地淳 ,  SAWACHI, ATSUSHI ,  佐佐木則和 ,  SASAKI, NORIKAZU ,  山島淳 ,  YAMASHIMA, JUN ,  佐藤好保 ,  SATO, YOSHIYASU ,  野上健一 ,  NOGAMI, KENICHI

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/509 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31

公开(公告)号：TWI689802B

公开(公告)日：2020-04-01

申请号：TW105110748

申请日：2016-04-06

Applicant: 日商東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 大野久美子 ,  ONO, KUMIKO ,  辻本宏 ,  TSUJIMOTO, HIROSHI ,  澤地淳 ,  SAWACHI, ATSUSHI ,  網倉紀彥 ,  AMIKURA, NORIHIKO ,  佐佐木則和 ,  SASAKI, NORIKAZU ,  川口由考 ,  KAWAGUCHI, YOSHITAKA

IPC: G05D7/06 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

公开(公告)号：TWI643260B

公开(公告)日：2018-12-01

申请号：TW104101611

申请日：2015-01-19

Applicant: 日商東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 網倉紀彥 ,  AMIKURA, NORIHIKO ,  佐佐木則和 ,  SASAKI, NORIKAZU ,  澤地淳 ,  SAWACHI, ATSUSHI

IPC: H01L21/3065

公开(公告)号：TW202014820A

公开(公告)日：2020-04-16

申请号：TW108122531

申请日：2019-06-27

Applicant: 日商東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 澤地淳 ,  SAWACHI, ATSUSHI

IPC: G05D7/06 ,  H01L21/3065

Abstract: 本發明將實現高精度之流量控制。 本發明之流量控制器具有：閥，其可控制供給至處理裝置之氣體之流量；及閥控制部，其於自處理裝置發出指示氣體之供給開始之指令之時間點，打開閥而開始氣體之流量之控制，並算出自發出指令之時間點起以特定之週期將氣體之流量進行累計而得之累計流量，於所算出之累計流量達到特定之目標累計流量之時間點，關閉閥而停止氣體之流量之控制。

Abstract in simplified Chinese: 本发明将实现高精度之流量控制。 本发明之流量控制器具有：阀，其可控制供给至处理设备之气体之流量；及阀控制部，其于自处理设备发出指示气体之供给开始之指令之时间点，打开阀而开始气体之流量之控制，并算出自发出指令之时间点起以特定之周期将气体之流量进行累计而得之累计流量，于所算出之累计流量达到特定之目标累计流量之时间点，关闭阀而停止气体之流量之控制。

公开(公告)号：TWI652370B

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：TW103122140

申请日：2014-06-26

Applicant: 日商東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 高橋榮治 ,  TAKAHASHI, EIJI ,  佐佐木則和 ,  SASAKI, NORIKAZU ,  澤地淳 ,  SAWACHI, ATSUSHI

IPC: C23C16/455

公开(公告)号：TW201712146A

公开(公告)日：2017-04-01

申请号：TW105118480

申请日：2016-06-14

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 澤地淳 ,  SAWACHI, ATSUSHI ,  網倉紀彥 ,  AMIKURA, NORIHIKO ,  佐藤好保 ,  SATO, YOSHIYASU

IPC: C23C16/455 ,  C23C14/54

CPC classification number: H01L21/67069 ,  G01F1/684 ,  G05D7/0635 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32834 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67253

Abstract: 本發明旨在提高製程之產率。 依本發明一實施例之氣體供給系統，具有構成氣體供給系統之多數之基本設備、及配置該多數之基本設備之基台212。該多數之基本設備中，一部分之基本設備配置在基台212之其中一面212a，且另一部分之基本設備配置在基台212之其中一面212a之背面的另一面212b。在一實施例中，該多數之基本設備係例如為流量控制器FD及二次側閥FV2，且二次側閥FV2配置在配置有流量控制器FD之基台212之面212a背側的面212b。

Abstract in simplified Chinese: 本发明旨在提高制程之产率。 依本发明一实施例之气体供给系统，具有构成气体供给系统之多数之基本设备、及配置该多数之基本设备之基台212。该多数之基本设备中，一部分之基本设备配置在基台212之其中一面212a，且另一部分之基本设备配置在基台212之其中一面212a之背面的另一面212b。在一实施例中，该多数之基本设备系例如为流量控制器FD及二次侧阀FV2，且二次侧阀FV2配置在配置有流量控制器FD之基台212之面212a背侧的面212b。

公开(公告)号：TWI534576B

公开(公告)日：2016-05-21

申请号：TW103128436

申请日：2014-08-19

Applicant: 富士金股份有限公司 ,  FUJIKIN INCORPORATED ,  東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 髙橋栄治 ,  TAKAHASHI, EIJI ,  佐佐木則和 ,  SASAKI, NORIKAZU ,  澤地淳 ,  SAWACHI, ATSUSHI ,  澤田洋平 ,  SAWADA, YOHEI ,  池田信一 ,  IKEDA, NOBUKAZU ,  土肥亮介 ,  DOHI, RYOUSUKE ,  西野功二 ,  NISHINO, KOUJI

IPC: G05D7/06 ,  C23C16/455

CPC classification number: G05D7/0664 ,  G05D11/132 ,  Y10T137/0363 ,  Y10T137/2529 ,  Y10T137/2562 ,  Y10T137/7759 ,  Y10T137/7761

公开(公告)号：TW201805556A

公开(公告)日：2018-02-16

申请号：TW106122807

申请日：2017-07-07

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 澤地淳 ,  SAWACHI, ATSUSHI ,  網倉紀彥 ,  AMIKURA, NORIHIKO ,  西野功二 ,  NISHINO, KOUJI ,  澤田洋平 ,  SAWADA, YOHEI ,  岸田好晴 ,  KISHIDA, YOSHIHARU

IPC: F16K31/02 ,  F16K17/18 ,  G05D7/06

Abstract: 本發明提供一種為了控制複數種氣體而執行製程而經改善之氣體供給系統。 本發明之氣體供給系統係向基板處理裝置之腔室供給氣體者，且包括：第1流路，其將第1氣體之第1氣體源與腔室連接；第2流路，其將第2氣體之第2氣體源與第1流路連接；控制閥，其設置於第2流路，且將第2氣體之流量控制為特定量；孔口，其設置於控制閥之下游且第2流路之末端；開閉閥，其設置於第1流路與第2流路之末端之連接部位，控制自孔口之出口向第1流路供給之第2氣體之供給時點；排氣機構，其連接於第2流路中控制閥與孔口之間之流路，且將第2氣體排出；及控制器，其使控制閥、開閉閥及排氣機構動作。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种为了控制复数种气体而运行制程而经改善之气体供给系统。 本发明之气体供给系统系向基板处理设备之腔室供给气体者，且包括：第1流路，其将第1气体之第1气体源与腔室连接；第2流路，其将第2气体之第2气体源与第1流路连接；控制阀，其设置于第2流路，且将第2气体之流量控制为特定量；孔口，其设置于控制阀之下游且第2流路之末端；开闭阀，其设置于第1流路与第2流路之末端之连接部位，控制自孔口之出口向第1流路供给之第2气体之供给时点；排气机构，其连接于第2流路中控制阀与孔口之间之流路，且将第2气体排出；及控制器，其使控制阀、开闭阀及排气机构动作。

公开(公告)号：TWI608515B

公开(公告)日：2017-12-11

申请号：TW102133767

申请日：2013-09-18

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 山下和男 ,  YAMASHITA, KAZUO ,  關本雄一郎 ,  SEKIMOTO, YUICHIROU ,  澤地淳 ,  SAWACHI, ATSUSHI

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/3244 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32449 ,  H01J2237/332 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/67069