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公开(公告)号:TWI623624B
公开(公告)日:2018-05-11
申请号:TW106105245
申请日:2017-02-17
Applicant: 杰富意鋼鐵股份有限公司 , JFE STEEL CORPORATION , 都卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
Inventor: 馬場雄也 , BABA, YUYA , 竹內純一 , TAKEUCHI, JUNICHI , 小林圭史 , KOBAYASHI, YOSHIFUMI
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2.
公开(公告)号:TW201734223A
公开(公告)日:2017-10-01
申请号:TW106105245
申请日:2017-02-17
Applicant: 杰富意鋼鐵股份有限公司 , JFE STEEL CORPORATION , 都卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
Inventor: 馬場雄也 , BABA, YUYA , 竹內純一 , TAKEUCHI, JUNICHI , 小林圭史 , KOBAYASHI, YOSHIFUMI
Abstract: 本發明提供一種可製作兼具較高之耐磨耗性及對pH未滿1之強酸較高之耐蝕性之金屬陶瓷皮膜的金屬陶瓷粉末。本發明之金屬陶瓷粉末之特徵在於包含40質量%以上之碳化鎢粒子、10~40質量%之碳化鉬粒子、及作為基質金屬之Ni或Ni合金,且進而含有8質量%以上之鉻作為碳化物或上述基質金屬中所包含之金屬或合金元素。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种可制作兼具较高之耐磨耗性及对pH未满1之强酸较高之耐蚀性之金属陶瓷皮膜的金属陶瓷粉末。本发明之金属陶瓷粉末之特征在于包含40质量%以上之碳化钨粒子、10~40质量%之碳化钼粒子、及作为基质金属之Ni或Ni合金,且进而含有8质量%以上之铬作为碳化物或上述基质金属中所包含之金属或合金元素。
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公开(公告)号:TWI385277B
公开(公告)日:2013-02-11
申请号:TW097125606
申请日:2008-07-07
Applicant: 都卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
Inventor: 原田良夫 , HARADA YOSHIO , 竹內純一 , TAKEUCHI, JUNICHI , 山崎良 , YAMASAKI, RYO
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公开(公告)号:TW486758B
公开(公告)日:2002-05-11
申请号:TW089124520
申请日:2000-11-20
Applicant: 都卡洛股份有限公司 , 東京電子股份有限公司
IPC: H01L
CPC classification number: H01J37/32477 , B01J19/02 , B01J2219/0218 , B01J2219/0236 , B01J2219/024 , B01J2219/0263 , B01J2219/0286 , B01J2219/0894 , C09D1/00 , C23C4/00 , C23C4/02 , C23C4/11 , Y10T428/12458 , Y10T428/12479 , Y10T428/12549 , Y10T428/12618 , Y10T428/24999
Abstract: 本發明提供一種電漿(plasma)處理容器內部材及其製造方法,在含有鹵素(halogen)氣體的工作環境下,該電漿處理容器內部材其有良好的耐化學腐蝕性及耐電漿侵蝕性(plasma erosion)。為了要達到此目的,需在基材表面先形成當作下層皮膜(under coat)的金屬皮膜,然後在該下層皮膜上形成一Al2O3中間層,然後在該中間層上方形成一上層皮膜(top coat),該上層皮膜是Y2O3溶射皮膜。因此電漿處理容器內部材,是由上述各皮膜形成的多層狀複合層所構成。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种等离子(plasma)处理容器内部材及其制造方法,在含有卤素(halogen)气体的工作环境下,该等离子处理容器内部材其有良好的耐化学腐蚀性及耐等离子侵蚀性(plasma erosion)。为了要达到此目的,需在基材表面先形成当作下层皮膜(under coat)的金属皮膜,然后在该下层皮膜上形成一Al2O3中间层,然后在该中间层上方形成一上层皮膜(top coat),该上层皮膜是Y2O3溶射皮膜。因此等离子处理容器内部材,是由上述各皮膜形成的多层状复合层所构成。
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公开(公告)号:TWI323294B
公开(公告)日:2010-04-11
申请号:TW095130789
申请日:2006-08-22
Applicant: 都卡洛股份有限公司
IPC: C23C
CPC classification number: C23C4/18 , C23C4/02 , C23C4/11 , Y10T428/26
Abstract: 本發明係以解決白色系Al2 O3-Y2 O3複氧化物之電漿噴敷(flame spray)皮膜所具有之課題,即,解決因為皮膜為多孔質且粒子間結合力弱,故缺乏耐蝕性、耐熱性及耐磨損性、加上光反射率高之缺點為其目的,提案基材之表面以低明亮度之無色彩或有色彩之Al2 O3-Y2 O3所構成之帶色複氧化物的噴敷皮膜予以被覆之熱放射特性等優異之噴敷皮膜被覆構件及其製造方法。 【創作特點】 先前的噴敷皮膜,例如,Al2 O3-Y2 O3之複氧化物噴敷皮膜,一般為噴敷粉末材料的固有色,以蒙瑟爾(Munsell)色標記為(1-10)(Y、YR)(7-9)/(1-2)左右的白色系。此噴敷皮膜以發明者等人之經驗,於近年之尖端工業領域之要求上,其實況為仍未充分符合。即,(1)白色系之Al2 O3-Y2 O3複氧化物之噴敷皮膜為光反射率高,因此不能稱為符合作為要求良好熱放射率之領域的被覆構件。
(2)白色系之噴敷皮膜,於構件之使用環境為半導體加工裝置內部般之必須高度清淨性的場所,因附著有色彩的顆粒,故產生必須以必要以上之頻率重複洗淨,導致作業效率降低和製品成本上升。
(3)白色系之Al2 O3-Y2 O3複氧化物之噴敷皮膜,因構成皮膜之噴敷粒子的接觸面積小,故粒子相互的結合力弱,成為空隙(氣孔)多的多孔質皮膜。因此,Al2 O3-Y2 O3複氧化物本身雖具有優良的耐蝕性,但於氣孔中環境的腐蝕成分(例如,水分、酸、鹽類、鹵素氣體等)易侵入,且易引起基材的腐蝕和皮膜的剝離。
(4)白色系之Al2 O3-Y2 O3複氧化物之噴敷皮膜,為噴敷粒子的相互結合力弱,因此,若受到噴砂侵蝕般之來自外部的衝擊,則粒子易局部性脫落,且此部分成為皮膜全體的破壞起點,損害皮膜的耐久性。
(5)白色系Al2 O3-Y2 O3複氧化物之噴敷皮膜,為多孔質且粒子間結合力弱,加上於噴敷熱源中多未經過充分的熔融現象。因此,於含有氟氣、O2氣體、氟化物氣體等之環境下以電漿蝕刻和電漿清洗處理中,易被蝕刻,且耐用期間短。因此,被電漿蝕刻的皮膜粒子成為微細顆粒污染環境,導致半導體加工製品的品質降低。
(6)又,白色系Al2 O3-Y2 O3複氧化物之噴敷皮膜,因構成此皮膜之粒子的相互結合力弱,故將皮膜機械加工時,屢屢脫落粒子,無法精密加工。
本發明之目的為鑑於先前技術所具有之上述課題而進行開發,特別,提案除了熱放射特性優良以外,為耐損傷性和耐磨損性等之機械性、耐蝕性等之化學特性及耐電漿蝕刻特性等優良之複氧化物的噴敷皮膜被覆構件。
本發明中,提案將先前技術之Al2 O3-Y2 O3複氧化物之噴敷皮膜進一步改善之下述要旨構成的噴敷皮膜被覆構件及其製造方法。
(1)基材之表面為以低亮度之無色彩或有色彩之Al2 O3-Y2 O3所構成之帶色複氧化物的噴敷皮膜予以被覆之熱放射特性等優異的噴敷皮膜被覆構件。
(2)於基材之表面與前述帶色複氧化物所構成之噴敷皮膜之間,設置金屬.合金或陶金噴敷皮膜所構成之襯底層之熱放射特性等優異的噴敷皮膜被覆構件。
(3)前述帶色複氧化物之噴敷皮膜為經由電子束照射處理或雷射束照射處理,使得噴敷粉末材料之固有色所具有的亮度降低或進一步令彩度降低之色所構成之熱放射特性等優異的噴敷皮膜被覆構件。
(4)前述帶色複氧化物之噴敷皮膜為50~2000 μ m厚之熱放射特性等優異的噴敷皮膜被覆構件。
(5)上述襯底層為令Ni及其合金、Mo及其合金、Ti及其合金、Al及其合金、Mg合金中選出任何一種以上之金屬或合金或陶金以50~500 μ m厚度形成之金屬噴敷皮膜之熱放射特性等優異的噴敷皮膜被覆構件。
(6)對基材表面直接、或對此基材表面形成之襯底層表面,將具有高亮度之白色系固有色之Al2 O3-Y2 O3複氧化物的噴敷粉末材料予以噴敷,其次,對此噴敷所得之白色系固有色的Al2 O3-Y2 O3複氧化物噴敷皮膜表面照射電子束或雷射束,令該噴敷皮膜表面變化成低亮度之無色彩或有色彩之熱放射特性等優異之噴敷皮膜被覆構件的製造方法。
(7)經由前述電子束照射處理或雷射束照射處理,令白色系固有色之Al2 O3-Y2 O3複氧化物噴敷皮膜表面開始未滿50 μ m之層,變化成低亮度之無色彩或有色彩之熱放射特性等優異之噴敷皮膜被覆構件的製造方法。
(8)對基材表面直接、或對此基材表面形成之金屬噴敷皮膜所構成之襯底層表面,將具有高亮度之白色系固有色之Al2 O3-Y2 O3複氧化物噴敷粉末材料,經由電漿噴敷,形成低亮度之無色彩或有色彩之Al2 O3-Y2 O3所構成之帶色複氧化物噴敷皮膜之熱放射特性等優異的噴敷皮膜被覆構件的製造方法。
(9)前述電漿噴敷為在比大氣更低氧分壓之環境中進行之熱放射特性等優異之噴敷皮膜被覆構件的製造方法。
基本而言,本發明係因白色系Al2 O3-Y2 O3複氧化物噴敷皮膜所具有之各特性,例如,鹵素或鹵化合物於氣體環境中之耐電漿蝕刻性優異,故適合使用作為要求精密之加工精度和清淨環境之最近的半導體加工裝置用構件,對於半導體加工製品之品質及生產性之提高上有大貢獻。加上,本發明為將噴敷皮膜之表色作成灰色般之濃灰色,熱放射特性和耐損傷性優良,特別施以電子束照射或雷射束照射處理者為皮膜表面平滑,且構成皮膜之Al2 O3-Y2 O3複氧化物粒子為相互融合,形成緻密的皮膜,故可更加提高滑動特性和耐蝕性、耐磨損性等,可長期使用作為工業領域用製品。
更且,本發明之帶色Al2 O3-Y2 O3複氧化物之噴敷皮膜,可用以作為要求熱放射及受熱效率高特性之加熱放熱器類的保護皮膜。
又,本發明為經由將上述具有各特性之噴敷皮膜被覆構件採用電子束照射處理或雷射束照射處理則可有利地製造。Abstract in simplified Chinese: 本发明系以解决白色系Al2 O3-Y2 O3复氧化物之等离子喷敷(flame spray)皮膜所具有之课题,即,解决因为皮膜为多孔质且粒子间结合力弱,故缺乏耐蚀性、耐热性及耐磨损性、加上光反射率高之缺点为其目的,提案基材之表面以低明亮度之无色彩或有色彩之Al2 O3-Y2 O3所构成之带色复氧化物的喷敷皮膜予以被覆之热放射特性等优异之喷敷皮膜被覆构件及其制造方法。 【创作特点】 先前的喷敷皮膜,例如,Al2 O3-Y2 O3之复氧化物喷敷皮膜,一般为喷敷粉末材料的固有色,以蒙瑟尔(Munsell)色标记为(1-10)(Y、YR)(7-9)/(1-2)左右的白色系。此喷敷皮膜以发明者等人之经验,于近年之尖端工业领域之要求上,其实况为仍未充分符合。即,(1)白色系之Al2 O3-Y2 O3复氧化物之喷敷皮膜为光反射率高,因此不能称为符合作为要求良好热放射率之领域的被覆构件。 (2)白色系之喷敷皮膜,于构件之使用环境为半导体加工设备内部般之必须高度清净性的场所,因附着有色彩的颗粒,故产生必须以必要以上之频率重复洗净,导致作业效率降低和制品成本上升。 (3)白色系之Al2 O3-Y2 O3复氧化物之喷敷皮膜,因构成皮膜之喷敷粒子的接触面积小,故粒子相互的结合力弱,成为空隙(气孔)多的多孔质皮膜。因此,Al2 O3-Y2 O3复氧化物本身虽具有优良的耐蚀性,但于气孔中环境的腐蚀成分(例如,水分、酸、盐类、卤素气体等)易侵入,且易引起基材的腐蚀和皮膜的剥离。 (4)白色系之Al2 O3-Y2 O3复氧化物之喷敷皮膜,为喷敷粒子的相互结合力弱,因此,若受到喷砂侵蚀般之来自外部的冲击,则粒子易局部性脱落,且此部分成为皮膜全体的破坏起点,损害皮膜的耐久性。 (5)白色系Al2 O3-Y2 O3复氧化物之喷敷皮膜,为多孔质且粒子间结合力弱,加上于喷敷热源中多未经过充分的熔融现象。因此,于含有氟气、O2气体、氟化物气体等之环境下以等离子蚀刻和等离子清洗处理中,易被蚀刻,且耐用期间短。因此,被等离子蚀刻的皮膜粒子成为微细颗粒污染环境,导致半导体加工制品的品质降低。 (6)又,白色系Al2 O3-Y2 O3复氧化物之喷敷皮膜,因构成此皮膜之粒子的相互结合力弱,故将皮膜机械加工时,屡屡脱落粒子,无法精密加工。 本发明之目的为鉴于先前技术所具有之上述课题而进行开发,特别,提案除了热放射特性优良以外,为耐损伤性和耐磨损性等之机械性、耐蚀性等之化学特性及耐等离子蚀刻特性等优良之复氧化物的喷敷皮膜被覆构件。 本发明中,提案将先前技术之Al2 O3-Y2 O3复氧化物之喷敷皮膜进一步改善之下述要旨构成的喷敷皮膜被覆构件及其制造方法。 (1)基材之表面为以低亮度之无色彩或有色彩之Al2 O3-Y2 O3所构成之带色复氧化物的喷敷皮膜予以被覆之热放射特性等优异的喷敷皮膜被覆构件。 (2)于基材之表面与前述带色复氧化物所构成之喷敷皮膜之间,设置金属.合金或陶金喷敷皮膜所构成之衬底层之热放射特性等优异的喷敷皮膜被覆构件。 (3)前述带色复氧化物之喷敷皮膜为经由电子束照射处理或激光束照射处理,使得喷敷粉末材料之固有色所具有的亮度降低或进一步令彩度降低之色所构成之热放射特性等优异的喷敷皮膜被覆构件。 (4)前述带色复氧化物之喷敷皮膜为50~2000 μ m厚之热放射特性等优异的喷敷皮膜被覆构件。 (5)上述衬底层为令Ni及其合金、Mo及其合金、Ti及其合金、Al及其合金、Mg合金中选出任何一种以上之金属或合金或陶金以50~500 μ m厚度形成之金属喷敷皮膜之热放射特性等优异的喷敷皮膜被覆构件。 (6)对基材表面直接、或对此基材表面形成之衬底层表面,将具有高亮度之白色系固有色之Al2 O3-Y2 O3复氧化物的喷敷粉末材料予以喷敷,其次,对此喷敷所得之白色系固有色的Al2 O3-Y2 O3复氧化物喷敷皮膜表面照射电子束或激光束,令该喷敷皮膜表面变化成低亮度之无色彩或有色彩之热放射特性等优异之喷敷皮膜被覆构件的制造方法。 (7)经由前述电子束照射处理或激光束照射处理,令白色系固有色之Al2 O3-Y2 O3复氧化物喷敷皮膜表面开始未满50 μ m之层,变化成低亮度之无色彩或有色彩之热放射特性等优异之喷敷皮膜被覆构件的制造方法。 (8)对基材表面直接、或对此基材表面形成之金属喷敷皮膜所构成之衬底层表面,将具有高亮度之白色系固有色之Al2 O3-Y2 O3复氧化物喷敷粉末材料,经由等离子喷敷,形成低亮度之无色彩或有色彩之Al2 O3-Y2 O3所构成之带色复氧化物喷敷皮膜之热放射特性等优异的喷敷皮膜被覆构件的制造方法。 (9)前述等离子喷敷为在比大气更低氧分压之环境中进行之热放射特性等优异之喷敷皮膜被覆构件的制造方法。 基本而言,本发明系因白色系Al2 O3-Y2 O3复氧化物喷敷皮膜所具有之各特性,例如,卤素或卤化合物于气体环境中之耐等离子蚀刻性优异,故适合使用作为要求精密之加工精度和清净环境之最近的半导体加工设备用构件,对于半导体加工制品之品质及生产性之提高上有大贡献。加上,本发明为将喷敷皮膜之表色作成灰色般之浓灰色,热放射特性和耐损伤性优良,特别施以电子束照射或激光束照射处理者为皮膜表面平滑,且构成皮膜之Al2 O3-Y2 O3复氧化物粒子为相互融合,形成致密的皮膜,故可更加提高滑动特性和耐蚀性、耐磨损性等,可长期使用作为工业领域用制品。 更且,本发明之带色Al2 O3-Y2 O3复氧化物之喷敷皮膜,可用以作为要求热放射及受热效率高特性之加热放热器类的保护皮膜。 又,本发明为经由将上述具有各特性之喷敷皮膜被覆构件采用电子束照射处理或激光束照射处理则可有利地制造。
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公开(公告)号:TWI351444B
公开(公告)日:2011-11-01
申请号:TW096108628
申请日:2007-03-13
Applicant: 東京威力科創股份有限公司 , 都卡洛股份有限公司
CPC classification number: C23C28/042 , C23C4/02 , C23C4/11 , C23C4/18 , C23C26/00
Abstract: 本發明之課題
在強力腐蝕環境下,謀求進行電漿蝕刻加工之半導體加工用裝置等容器內配設構件的耐久性提高。
本發明之解決手段
在金屬製或非金屬製基材之表面,直接或經由底塗層,來具有由周期表IIIb族氧化物之熔噴皮膜所構成的多孔質層,而在該層之上,藉由電子束或雷射光束等高能量照射處理形成有二次再結晶層,來構成陶瓷覆蓋構件。Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题 在强力腐蚀环境下,谋求进行等离子蚀刻加工之半导体加工用设备等容器内配设构件的耐久性提高。 本发明之解决手段 在金属制或非金属制基材之表面,直接或经由底涂层,来具有由周期表IIIb族氧化物之熔喷皮膜所构成的多孔质层,而在该层之上,借由电子束或激光光束等高能量照射处理形成有二次再结晶层,来构成陶瓷覆盖构件。
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公开(公告)号:TW391044B
公开(公告)日:2000-05-21
申请号:TW085109886
申请日:1996-08-14
Applicant: 都卡洛股份有限公司
CPC classification number: H01L21/31116 , H01L21/304 , H01L21/31053
Abstract: [課題]習知之靜電夾頭具有體積固有阻抗小、吸引力小、表面平滑性不佳、與基板間之密著性差、及生產性不佳等缺點。[解決方法]在金屬基板上具有金屬質熔融噴塗被覆所形成之底層;接著在該底層上,具備其中含有TivnO2n-1型化合物之A1203.Ti02系陶瓷熔融噴塗被覆;所構成之靜電夾頭。以及,靜電夾頭之製造方法,使得上述陶瓷熔融噴塗材料在調整為30~750hpa的壓力下之氬氣或空氣環境氣氛中,藉由含有氫氣之等離子體熔融噴塗法,以使得前述熔融噴塗材料中之Ti02的全部或部分變化為以TivnO2n-1所代表之結晶型化合物。
Abstract in simplified Chinese: [课题]习知之静电夹头具有体积固有阻抗小、吸引力小、表面平滑性不佳、与基板间之密着性差、及生产性不佳等缺点。[解决方法]在金属基板上具有金属质熔融喷涂被覆所形成之底层;接着在该底层上,具备其中含有TivnO2n-1型化合物之A1203.Ti02系陶瓷熔融喷涂被覆;所构成之静电夹头。以及,静电夹头之制造方法,使得上述陶瓷熔融喷涂材料在调整为30~750hpa的压力下之氩气或空气环境气氛中,借由含有氢气之等离子体熔融喷涂法,以使得前述熔融喷涂材料中之Ti02的全部或部分变化为以TivnO2n-1所代表之结晶型化合物。
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公开(公告)号:TWI582876B
公开(公告)日:2017-05-11
申请号:TW102100118
申请日:2013-01-03
Applicant: 托卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
Inventor: 虻川志向 , ABUKAWA, SHIKOU , 山崎良 , YAMASAKI, RYO , 竹內純一 , TAKEUCHI, JUNICHI
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公开(公告)号:TW201338070A
公开(公告)日:2013-09-16
申请号:TW102100118
申请日:2013-01-03
Applicant: 托卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
Inventor: 虻川志向 , ABUKAWA, SHIKOU , 山崎良 , YAMASAKI, RYO , 竹內純一 , TAKEUCHI, JUNICHI
Abstract: 本發明提供一種總成,其係可使用直流電源,來算出絕緣物之電性等效電路之 電容量者。本發明之總成係用以判定絕緣物狀態之總成,並具有直流電源、第1電阻體、開關、電壓測定器、及算出部。第1電阻體與直流電源及絕緣物串聯地連接,並具有已知之第1電阻。開關可切換為充電狀態與放電狀態。所謂的充電狀態係指對絕緣物與第1電阻體從直流電源施加直流電壓,使絕緣物充電之狀態。所謂的放電狀態係指不對絕緣物與第1電阻體從直流電源施加直流電壓,使絕緣物放電之狀態。電壓測定器在將開關從充電狀態切換成放電狀態之後,測定施加於第1電阻體之電壓。算出部係根據第1電阻與電壓之測定值,來算出絕緣物之電性等效電路之 電容量。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种总成,其系可使用直流电源,来算出绝缘物之电性等效电路之 电容量者。本发明之总成系用以判定绝缘物状态之总成,并具有直流电源、第1电阻体、开关、电压测定器、及算出部。第1电阻体与直流电源及绝缘物串联地连接,并具有已知之第1电阻。开关可切换为充电状态与放电状态。所谓的充电状态系指对绝缘物与第1电阻体从直流电源施加直流电压,使绝缘物充电之状态。所谓的放电状态系指不对绝缘物与第1电阻体从直流电源施加直流电压,使绝缘物放电之状态。电压测定器在将开关从充电状态切换成放电状态之后,测定施加于第1电阻体之电压。算出部系根据第1电阻与电压之测定值,来算出绝缘物之电性等效电路之 电容量。
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