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公开(公告)号：TWI599273B
公开(公告)日：2017-09-11
申请号：TW103123293
申请日：2014-07-07
发明人： 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 沖原雄二郎 , OKIHARA, YUJIRO , 中村紀幸 , NAKAMURA, NORIYUKI , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI
CPC分类号： H05H1/46 , C01B13/11 , H02M7/48 , H02M2007/4815 , H05H2001/4682 , Y02B70/1441 , Y02P20/121
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公开(公告)号：TW201515526A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103123295
申请日：2014-07-07
发明人： 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 沖原雄二郎 , OKIHARA, YUJIRO , 中村紀幸 , NAKAMURA, NORIYUKI , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI
CPC分类号： H05H1/24 , C01B13/11 , C01B2201/64 , C01B2201/74 , C01B2201/76 , C01B2201/90 , H02M1/32 , H02M7/48 , H05B33/0815 , H05B33/0818 , H05H2001/4682
摘要： 本發明的目的在於提供一種在含有電漿產生裝置及電源裝置的系統中，能夠謀求發生故障時的對策，且能夠早期修復電源裝置。本發明係具備：限流電抗器(Lc)，係抑制短路電流；控制部(6)，係控制換流器(3)的動作；及檢測部(31、32、41、42)，係偵測短路。此外，當短路發生時，控制部6即令換流器3停止。
简体摘要： 本发明的目的在于提供一种在含有等离子产生设备及电源设备的系统中，能够谋求发生故障时的对策，且能够早期修复电源设备。本发明系具备：限流电抗器(Lc)，系抑制短路电流；控制部(6)，系控制换流器(3)的动作；及检测部(31、32、41、42)，系侦测短路。此外，当短路发生时，控制部6即令换流器3停止。
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公开(公告)号：TWI619838B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW105125910
申请日：2016-08-15
发明人： 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI , 渡辺謙資 , WATANABE, KENSUKE , 山田義人 , YAMADA, YOSHIHITO
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/503 , H01L21/31
CPC分类号： C01B13/11 , C23C16/505 , H05H1/24
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公开(公告)号：TWI600791B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105119921
申请日：2016-06-24
发明人： 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI , 渡辺謙資 , WATANABE, KENSUKE , 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/31
CPC分类号： C23C16/455 , H01L21/31
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公开(公告)号：TW201725277A
公开(公告)日：2017-07-16
申请号：TW105119921
申请日：2016-06-24
发明人： 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI , 渡辺謙資 , WATANABE, KENSUKE , 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/31
CPC分类号： C23C16/455 , H01L21/31
摘要： 本發明之目的在於提供可用超過音速之超高速將氣體供給至處理對象基板之氣體供應裝置。本發明之氣體供應裝置的氣體噴出器(1)係具有噴嘴部(10)。構成噴嘴部(10)之第一段限制筒(13)係開口部斷面形狀呈口徑為r1之圓形。第二段限制筒(14)係沿著Z方向與第一段限制筒(13)連續而形成，開口部斷面形狀呈口徑為r2之圓形，並將從第一段限制筒(13)供給來的原料氣體供給至下方的低真空處理腔室(18)。其中，口徑r2係設定為滿足「r2>r1」。
简体摘要： 本发明之目的在于提供可用超过音速之超高速将气体供给至处理对象基板之气体供应设备。本发明之气体供应设备的气体喷出器(1)系具有喷嘴部(10)。构成喷嘴部(10)之第一段限制筒(13)系开口部断面形状呈口径为r1之圆形。第二段限制筒(14)系沿着Z方向与第一段限制筒(13)连续而形成，开口部断面形状呈口径为r2之圆形，并将从第一段限制筒(13)供给来的原料气体供给至下方的低真空处理腔室(18)。其中，口径r2系设置为满足“r2>r1”。
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公开(公告)号：TW201615539A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW104100215
申请日：2015-01-06
发明人： 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 沖原雄二郎 , OKIHARA, YUJIRO , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI
IPC分类号： C01B13/11
CPC分类号： C01B13/11 , B01J35/02 , C01B2201/10 , C01B2201/12 , C01B2201/22 , C01B2201/62 , C01B2201/76 , C23C4/11
摘要： 本發明係提供一種裝置不會複雜化及大型化且能夠以低成本使臭氧產生容積密度進一步增加的臭氧產生裝置。因此，在本發明的臭氧產生裝置(100)中，放電單元(50)係具有第一電極部(1)、第二電極部(2、3)、及介電質隔板(7)。第一電極部(1)與第二電極部(2、3)係相對向，介電質隔板(7)配設在兩電極部之間。
简体摘要： 本发明系提供一种设备不会复杂化及大型化且能够以低成本使臭氧产生容积密度进一步增加的臭氧产生设备。因此，在本发明的臭氧产生设备(100)中，放电单元(50)系具有第一电极部(1)、第二电极部(2、3)、及介电质隔板(7)。第一电极部(1)与第二电极部(2、3)系相对向，介电质隔板(7)配设在两电极部之间。
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公开(公告)号：TWI523971B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW104100217
申请日：2015-01-06
发明人： 渡辺謙資 , WATANABE, KENSUKE , 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI
IPC分类号： C23C16/50 , C23C16/34 , C23C16/40 , H01L21/314
CPC分类号： C23C16/50 , H01J37/32348 , H01L21/31 , H05H1/2406
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公开(公告)号：TW201515527A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103123296
申请日：2014-07-07
发明人： 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 沖原雄二郎 , OKIHARA, YUJIRO , 中村紀幸 , NAKAMURA, NORIYUKI , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI
IPC分类号： H05H1/24
CPC分类号： H05H1/24 , C01B13/11 , H02M7/48 , H02M2001/0009 , H02M2007/4815 , H05H2001/4682 , Y02B70/1441 , Y02P20/121
摘要： 本發明提供一種在包含電漿產生裝置及電源裝置之系統中，可將投入功率量管理為一定，並且可將該投入功率量穩定地供給至電漿產生裝置的電源裝置。本發明之電源裝置(10)係具有進行下述動作之控制部(6)。該控制部(6)係依據來外部之輸入來決定目標直流功率量值。然後，該控制部(6)係進行反饋控制，以使輸入至換流器(3)之直流功率量成為目標直流功率量值。
简体摘要： 本发明提供一种在包含等离子产生设备及电源设备之系统中，可将投入功率量管理为一定，并且可将该投入功率量稳定地供给至等离子产生设备的电源设备。本发明之电源设备(10)系具有进行下述动作之控制部(6)。该控制部(6)系依据来外部之输入来决定目标直流功率量值。然后，该控制部(6)系进行反馈控制，以使输入至换流器(3)之直流功率量成为目标直流功率量值。
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9.发明专利無添加氮之臭氧產生單元及臭氧氣體供給系統 NITROGEN ADDITION-FREE OZONE GENERATING UNIT AND OZONE GAS SUPPLYING SYSTEM 审中-公开无添加氮之臭氧产生单元及臭氧气体供给系统 NITROGEN ADDITION-FREE OZONE GENERATING UNIT AND OZONE GAS SUPPLYING SYSTEM
公开(公告)号：TW201240910A
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：TW100121781
申请日：2011-06-22
申请人： 東芝三菱電機產業系統股份有限公司
IPC分类号： C01B
CPC分类号： C01B13/11 , C01B2201/12 , C01B2201/64 , C01B2201/66 , C01B2201/76 , C01B2201/90
摘要： 本發明是以獲得謀求無添加氮之臭氧產生器單元的小型化的無添加氮之臭氧產生單元為目的，該無添加氮之臭氧產生器單元附加有用於輸出高純度、高濃度的臭氧氣體的複數手段。因此，在本發明中，氣體配管集體區塊(30)有複數的內部配管通路(R30a至R30f)，且這些複數的內部配管管路與在放電面塗佈生成臭氧的光觸媒物質的無添加氮之臭氧產生器(1)、調控手段(MFC(3)、氣體過濾器(51)及APC(4)、原料氣體供給口(14)、臭氧氣體輸出口(15)連接，藉此，由原料氣體經由APC供給到無添加氮之臭氧產生器的原料氣體輸入配管管路及由無添加氮之臭氧產生器經氣體過濾器、MFC而到臭氧氣體輸出口的臭氧氣體輸出配管管路係形成為一體化的單元。
简体摘要： 本发明是以获得谋求无添加氮之臭氧产生器单元的小型化的无添加氮之臭氧产生单元为目的，该无添加氮之臭氧产生器单元附加有用于输出高纯度、高浓度的臭氧气体的复数手段。因此，在本发明中，气体配管集体区块(30)有复数的内部配管通路(R30a至R30f)，且这些复数的内部配管管路与在放电面涂布生成臭氧的光触媒物质的无添加氮之臭氧产生器(1)、调控手段(MFC(3)、气体过滤器(51)及APC(4)、原料气体供给口(14)、臭氧气体输出口(15)连接，借此，由原料气体经由APC供给到无添加氮之臭氧产生器的原料气体输入配管管路及由无添加氮之臭氧产生器经气体过滤器、MFC而到臭氧气体输出口的臭氧气体输出配管管路系形成为一体化的单元。
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公开(公告)号：TW201238888A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW100120508
申请日：2011-06-13
申请人： 東芝三菱電機產業系統股份有限公司
CPC分类号： B01J12/00 , C01B13/11 , C01B2201/64 , C01B2201/90
摘要： 本發明之目的係獲得一臭氧氣體供給系統,其係搭載於放電面塗佈用以生成臭氧之光觸媒物質之無添加氮之臭氧產生器(1),且對於各臭氧處理裝置可供給信賴性高之臭氧氣體。接著,本發明特別是在原料氣體供給部設置將原料氣體所含水分去除之手段(59),以降低供給至臭氧氣體供給系統之原料氣體所含水分量,且接受來自複數無添加氮之臭氧產生單元(7-1至7-n)之複數臭氧氣體輸出,藉由內部設置之複數臭氧氣體控制閥(9a、9b、9c、9bc、9ab、9ca)之開閉動作,以單一或組合複數臭氧氣體輸出,選擇性的輸出至複數臭氧處理裝置(12-1至12-n)中任意的臭氧處理裝置,且具有可控制臭氧氣體輸出流量之臭氧氣體輸出流量管理單元(9)。
简体摘要： 本发明之目的系获得一臭氧气体供给系统,其系搭载于放电面涂布用以生成臭氧之光触媒物质之无添加氮之臭氧产生器(1),且对于各臭氧处理设备可供给信赖性高之臭氧气体。接着,本发明特别是在原料气体供给部设置将原料气体所含水分去除之手段(59),以降低供给至臭氧气体供给系统之原料气体所含水分量,且接受来自复数无添加氮之臭氧产生单元(7-1至7-n)之复数臭氧气体输出,借由内部设置之复数臭氧气体控制阀(9a、9b、9c、9bc、9ab、9ca)之开闭动作,以单一或组合复数臭氧气体输出,选择性的输出至复数臭氧处理设备(12-1至12-n)中任意的臭氧处理设备,且具有可控制臭氧气体输出流量之臭氧气体输出流量管理单元(9)。
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