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公开(公告)号：TW201823502A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106116675
申请日：2017-05-19
Inventor： 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 小野祐司 , ONO, YUJI , 佐藤貴翔 , SATO, TAKASHO
IPC: C23C16/455 , C01B13/11 , B08B3/08 , G05D7/06
Abstract: 本發明的目的在於提供既謀求裝置整體的小型化又搭載有複數個氣體產生器單元的氣體產生裝置。本發明係具備：六台氣體產生器單元(4a至4f)，係分別具有氣體產生器(43)；一單位的多交流電源部(3001)，係將六個高頻交流電壓供給至六台氣體產生器單元(4a至4f)；一單位的氣體控制部(3003)，係對六台氣體產生器單元(4a至4f)的原料氣體及輸出氣體進行控制；及一單位的控制暨操作部構成部(3002)，係以供給各自相互獨立且具有所期望電力量的六個高頻交流電壓之方式執行交流電力控制動作。此外，六台氣體產生器單元(4a至4f)、一單位的多交流電源部(3001)、氣體控制部(3003)、及控制暨操作部構成部(3002)係一體地設置。
Abstract in simplified Chinese: 本发明的目的在于提供既谋求设备整体的小型化又搭载有复数个气体产生器单元的气体产生设备。本发明系具备：六台气体产生器单元(4a至4f)，系分别具有气体产生器(43)；一单位的多交流电源部(3001)，系将六个高频交流电压供给至六台气体产生器单元(4a至4f)；一单位的气体控制部(3003)，系对六台气体产生器单元(4a至4f)的原料气体及输出气体进行控制；及一单位的控制暨操作部构成部(3002)，系以供给各自相互独立且具有所期望电力量的六个高频交流电压之方式运行交流电力控制动作。此外，六台气体产生器单元(4a至4f)、一单位的多交流电源部(3001)、气体控制部(3003)、及控制暨操作部构成部(3002)系一体地设置。
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公开(公告)号：TWI599273B
公开(公告)日：2017-09-11
申请号：TW103123293
申请日：2014-07-07
Inventor： 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 沖原雄二郎 , OKIHARA, YUJIRO , 中村紀幸 , NAKAMURA, NORIYUKI , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI
CPC classification number: H05H1/46 , C01B13/11 , H02M7/48 , H02M2007/4815 , H05H2001/4682 , Y02B70/1441 , Y02P20/121
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公开(公告)号：TW201515526A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103123295
申请日：2014-07-07
Inventor： 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 沖原雄二郎 , OKIHARA, YUJIRO , 中村紀幸 , NAKAMURA, NORIYUKI , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI
CPC classification number: H05H1/24 , C01B13/11 , C01B2201/64 , C01B2201/74 , C01B2201/76 , C01B2201/90 , H02M1/32 , H02M7/48 , H05B33/0815 , H05B33/0818 , H05H2001/4682
Abstract: 本發明的目的在於提供一種在含有電漿產生裝置及電源裝置的系統中，能夠謀求發生故障時的對策，且能夠早期修復電源裝置。本發明係具備：限流電抗器(Lc)，係抑制短路電流；控制部(6)，係控制換流器(3)的動作；及檢測部(31、32、41、42)，係偵測短路。此外，當短路發生時，控制部6即令換流器3停止。
Abstract in simplified Chinese: 本发明的目的在于提供一种在含有等离子产生设备及电源设备的系统中，能够谋求发生故障时的对策，且能够早期修复电源设备。本发明系具备：限流电抗器(Lc)，系抑制短路电流；控制部(6)，系控制换流器(3)的动作；及检测部(31、32、41、42)，系侦测短路。此外，当短路发生时，控制部6即令换流器3停止。
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公开(公告)号：TWI619837B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW104133835
申请日：2015-10-15
Inventor： 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 渡辺謙資 , WATANABE, KENSUKE , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI
IPC: C23C16/455 , B01J4/00 , C23C16/503 , H01L21/31 , H05H1/24
CPC classification number: C23C16/45561 , B01J4/00 , C23C16/045 , C23C16/452 , C23C16/455 , C23C16/4551 , C23C16/45559 , C23C16/45563 , C23C16/4557 , C23C16/45572 , C23C16/45582 , C23C16/503 , C23C16/513 , H01L21/31 , H05H1/24
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公开(公告)号：TW201738409A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW105108962
申请日：2016-03-23
Inventor： 渡辺謙資 , WATANABE, KENSUKE , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI , 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO
IPC: C23C16/513 , H05H1/24
CPC classification number: C23C16/513 , H05H1/24
Abstract: 本發明的目的係在提供一種可產生高密度的活性氣體之活性氣體產生裝置。接著，在本發明之活性氣體產生裝置中，金屬電極(201H及201L)係形成在電介質電極(211)的下表面上，而在俯視時以包夾電介質電極(211)的中央區域(R50)且彼此相對向之方式配置。金屬電極(201H及201L)係將Y方向設為彼此相對向之方向。將楔形落差形狀部(51)在電介質電極(211)的上表面之中央區域(R50)中以突出於上方之形態設置。楔形落差形狀部(51)係以俯視時隨著靠近各個複數個氣體噴出孔(55)而Y方向之形成寬度變短之方式形成。
Abstract in simplified Chinese: 本发明的目的系在提供一种可产生高密度的活性气体之活性气体产生设备。接着，在本发明之活性气体产生设备中，金属电极(201H及201L)系形成在电介质电极(211)的下表面上，而在俯视时以包夹电介质电极(211)的中央区域(R50)且彼此相对向之方式配置。金属电极(201H及201L)系将Y方向设为彼此相对向之方向。将楔形落差形状部(51)在电介质电极(211)的上表面之中央区域(R50)中以突出于上方之形态设置。楔形落差形状部(51)系以俯视时随着靠近各个复数个气体喷出孔(55)而Y方向之形成宽度变短之方式形成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201627526A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104133835
申请日：2015-10-15
Inventor： 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 渡辺謙資 , WATANABE, KENSUKE , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI
IPC: C23C16/455 , B01J4/00 , C23C16/503 , H01L21/31 , H05H1/24
CPC classification number: C23C16/45561 , B01J4/00 , C23C16/045 , C23C16/452 , C23C16/455 , C23C16/4551 , C23C16/45559 , C23C16/45563 , C23C16/4557 , C23C16/45572 , C23C16/45582 , C23C16/503 , C23C16/513 , H01L21/31 , H05H1/24
Abstract: 本發明係提供一種用於成膜裝置之氣體噴射裝置，其係即使在具有屬於高板厚孔徑比之溝部的被處理體中，亦能夠將氣體均等地噴射至該溝部內。本發明之氣體噴射裝置(100)係具備有：將氣體整流化，且將經整流化之氣體噴射至成膜裝置(200)內之氣體噴射單元部(23)。氣體噴射單元部(23)係在內部形成有作為氣體通路之間隙(d0)，且為扇型形狀。氣體分散供給部(99)內的氣體係從扇型形狀之寬度較廣闊側流入至間隙(d0)內，且歸因於該扇型形狀，而使氣體被整流化及被加速，且從扇型形狀之寬度的縮窄側輸出至成膜裝置(200)內。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系提供一种用于成膜设备之气体喷射设备，其系即使在具有属于高板厚孔径比之沟部的被处理体中，亦能够将气体均等地喷射至该沟部内。本发明之气体喷射设备(100)系具备有：将气体整流化，且将经整流化之气体喷射至成膜设备(200)内之气体喷射单元部(23)。气体喷射单元部(23)系在内部形成有作为气体通路之间隙(d0)，且为扇型形状。气体分散供给部(99)内的气体系从扇型形状之宽度较广阔侧流入至间隙(d0)内，且归因于该扇型形状，而使气体被整流化及被加速，且从扇型形状之宽度的缩窄侧输出至成膜设备(200)内。
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公开(公告)号：TW201616548A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW104100694
申请日：2015-01-09
Inventor： 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 渡辺謙資 , WATANABE, KENSUKE , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI
CPC classification number: C23C16/503 , C23C16/34 , C23C16/4588 , C23C16/50 , C23C16/52 , H01J37/32036 , H01J37/32045 , H01J37/32348 , H01J37/32357 , H01J2237/3321 , H01L21/31 , H05H1/46
Abstract: 本發明之目的在於提供一種即使為大面積之被處理體，亦可實施均勻地使用自由基氣體的處理之放電產生器及其電源裝置。關於本發明之放電產生器及其電源裝置(500)，係具備自由基氣體生成裝置(100)、處理室裝置(200)、及n相反向器電源裝置(9)。該處理室裝置(200)，係鄰接配置有自由基生成裝置(100)，該自由基氣體生成裝置(100)係具有複數(n個)的放電單元(70)。n相反向器電源裝置(9)係設為具有可控制輸出n相交流電壓之手段之電源電路構成，且可使各相之交流電壓對應於前述放電單元(70)之設置位置而實施可變控制。
Abstract in simplified Chinese: 本发明之目的在于提供一种即使为大面积之被处理体，亦可实施均匀地使用自由基气体的处理之放电产生器及其电源设备。关于本发明之放电产生器及其电源设备(500)，系具备自由基气体生成设备(100)、处理室设备(200)、及n相反向器电源设备(9)。该处理室设备(200)，系邻接配置有自由基生成设备(100)，该自由基气体生成设备(100)系具有复数(n个)的放电单元(70)。n相反向器电源设备(9)系设为具有可控制输出n相交流电压之手段之电源电路构成，且可使各相之交流电压对应于前述放电单元(70)之设置位置而实施可变控制。
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公开(公告)号：TW201604318A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW104100217
申请日：2015-01-06
Inventor： 渡辺謙資 , WATANABE, KENSUKE , 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO , 西村真一 , NISHIMURA, SHINICHI
IPC: C23C16/50 , C23C16/34 , C23C16/40 , H01L21/314
CPC classification number: C23C16/50 , H01J37/32348 , H01L21/31 , H05H1/2406
Abstract: 本發明之目的在於提供於遠程電漿型成膜處理系統中，例如即便為大面積之被處理體，亦可均勻地實施使用自由基氣體之處理之自由基氣體產生系統。對此，本發明之自由基氣體產生系統(500)中，處理腔裝置(200)係具有使被處理體(202)旋轉之工作台(201)。自由基氣體生成裝置(100)係具有複數個放電單元(70)。進一步地，放電單元(70)係具有與處理腔裝置(200)內連接，面對被處理體(202)，而輸出自由基氣體(G2)之開口部(102)。而且，俯視下，配設於愈遠離前述旋轉之中心位置之放電單元(70)，愈使第一電極構件(1)與第二電極構件(31)相面對之區域，即相面對面積增大。
Abstract in simplified Chinese: 本发明之目的在于提供于远程等离子型成膜处理系统中，例如即便为大面积之被处理体，亦可均匀地实施使用自由基气体之处理之自由基气体产生系统。对此，本发明之自由基气体产生系统(500)中，处理腔设备(200)系具有使被处理体(202)旋转之工作台(201)。自由基气体生成设备(100)系具有复数个放电单元(70)。进一步地，放电单元(70)系具有与处理腔设备(200)内连接，面对被处理体(202)，而输出自由基气体(G2)之开口部(102)。而且，俯视下，配设于愈远离前述旋转之中心位置之放电单元(70)，愈使第一电极构件(1)与第二电极构件(31)相面对之区域，即相面对面积增大。
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公开(公告)号：TW201315678A
公开(公告)日：2013-04-16
申请号：TW100143672
申请日：2011-11-29
Inventor： 中村紀幸 , NAKAMURA, NORIYUKI , 田畑要一郎 , TABATA, YOICHIRO
IPC: C01B13/10
CPC classification number: B01J19/087 , B01J2219/0803 , B01J2219/0892 , C01B13/11 , C01B2201/20 , C01B2201/32 , C01B2201/70
Abstract: 本發明之目的在於製得能輸出更多臭氧之無添加氮之臭氧產生單元。並且，在本發明中，無添加氮之臭氧產生單元(7)係將包含：冷卻至低溫之無添加氮之臭氧產生器(1)、臭氧電源(2)、MFC(3)、APC(4)、絕熱冷卻水輸入用配管(311)、以及絕熱冷卻水輸出用配管(310)之複數個功能手段總括作為1單位的組合單元所構成者。並且，無添加氮之臭氧產生器1係將由絕緣物等絕熱材料所構成之絕熱層8以大致全面覆蓋於臭氧產生器外框之方式構成。再者，冷卻水系(30)係藉由絕熱冷卻水輸入用配管而將供給於無添加氮之臭氧產生器之冷卻水溫度設定為5℃以下，以使無添加氮之臭氧產生器(1)本身成為低溫化構成者。
Abstract in simplified Chinese: 本发明之目的在于制得能输出更多臭氧之无添加氮之臭氧产生单元。并且，在本发明中，无添加氮之臭氧产生单元(7)系将包含：冷却至低温之无添加氮之臭氧产生器(1)、臭氧电源(2)、MFC(3)、APC(4)、绝热冷却水输入用配管(311)、以及绝热冷却水输出用配管(310)之复数个功能手段总括作为1单位的组合单元所构成者。并且，无添加氮之臭氧产生器1系将由绝缘物等绝热材料所构成之绝热层8以大致全面覆盖于臭氧产生器外框之方式构成。再者，冷却水系(30)系借由绝热冷却水输入用配管而将供给于无添加氮之臭氧产生器之冷却水温度设置为5℃以下，以使无添加氮之臭氧产生器(1)本身成为低温化构成者。
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10.发明专利特定氣體的濃縮／稀釋裝置及特定氣體的濃縮／稀釋方法 CONCENTRATING/DILUTING APPARATUS FOR SPECIFIC GASES AND CONCENTRATING/DILUTING METHOD FOR SPECIFIC GASES 有权特定气体的浓缩／稀释设备及特定气体的浓缩／稀释方法 CONCENTRATING/DILUTING APPARATUS FOR SPECIFIC GASES AND CONCENTRATING/DILUTING METHOD FOR SPECIFIC GASES
公开(公告)号：TWI329031B
公开(公告)日：2010-08-21
申请号：TW096124087
申请日：2007-07-03
Applicant: 東芝三菱電機產業系統股份有限公司
CPC classification number: B01D53/002 , B01D2256/14 , C01B13/0251 , C01B13/10 , C01B13/11 , C01B2201/80 , C01B2201/82 , C01B2210/0092 , Y02C10/10 , Y02C10/12
Abstract: 本發明提供一種特定氣體的濃縮/稀釋裝置及特定氣體之濃縮/稀釋方法，在1個臭氧濃縮室(chamber)內形成：設成可從臭氧化氧氣選擇性地凝結臭氧或選擇性地使氧氣穿透過而排出的冷卻溫度範圍之部份、及可以將經凝結之臭氧蒸氣化的溫度範圍之部份；利用流體之流動或重力作用，使上述經凝結的臭氧移動到可將上述經凝結之臭氧蒸氣化的部份，並使之蒸氣化，藉此即可使臭氧化氧氣可以達到更高濃度化。在臭氧濃縮室11、12內所填塞之凝結/蒸氣化粒子材13係呈球狀，且形成為側面具有多面平面的特殊形狀，或構成可使臭氧氣體中之氧氣選擇性地穿透過之氧透過膜130構成。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种特定气体的浓缩/稀释设备及特定气体之浓缩/稀释方法，在1个臭氧浓缩室(chamber)内形成：设成可从臭氧化氧气选择性地凝结臭氧或选择性地使氧气穿透过而排出的冷却温度范围之部份、及可以将经凝结之臭氧蒸气化的温度范围之部份；利用流体之流动或重力作用，使上述经凝结的臭氧移动到可将上述经凝结之臭氧蒸气化的部份，并使之蒸气化，借此即可使臭氧化氧气可以达到更高浓度化。在臭氧浓缩室11、12内所填塞之凝结/蒸气化粒子材13系呈球状，且形成为侧面具有多面平面的特殊形状，或构成可使臭氧气体中之氧气选择性地穿透过之氧透过膜130构成。
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