公开(公告)号：TWI693405B

公开(公告)日：2020-05-11

申请号：TW105109322

申请日：2016-03-24

申请人： 美商克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

发明人： 馬薩納海提 道格拉斯K ,  MASNAGHETTI, DOUGLAS K. ,  托斯 蓋伯 ,  TOTH, GABOR ,  泰瑞斯 大衛 ,  TREASE, DAVID ,  布思拉 羅希 ,  BOTHRA, ROHIT ,  陳 葛瑞斯 淑玲 ,  CHEN, GRACE HSIU-LING ,  克尼普梅耶 瑞尼爾 ,  KNIPPELMEYER, RAINER

IPC分类号： G01Q30/02 ,  G01N23/203 ,  G01Q30/04

公开(公告)号：TW201704753A

公开(公告)日：2017-02-01

申请号：TW105109322

申请日：2016-03-24

申请人： 克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

发明人： 馬薩納海提 道格拉斯K ,  MASNAGHETTI, DOUGLAS K. ,  托斯 蓋伯 ,  TOTH, GABOR ,  泰瑞斯 大衛 ,  TREASE, DAVID ,  布思拉 羅希 ,  BOTHRA, ROHIT ,  陳 葛瑞斯 淑玲 ,  CHEN, GRACE HSIU-LING ,  克尼普梅耶 瑞尼爾 ,  KNIPPELMEYER, RAINER

IPC分类号： G01Q30/02 ,  G01N23/203 ,  G01Q30/04

CPC分类号： H01J37/28 ,  G01N23/203 ,  G01N2223/6116 ,  H01J37/10 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/0044 ,  H01J2237/0048 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/24465 ,  H01J2237/24475 ,  H01J2237/2448 ,  H01J2237/24485 ,  H01J2237/2449 ,  H01J2237/2804 ,  H01J2237/2806

摘要： 本發明揭示一種具有改良之影像束穩定性之掃描電子顯微鏡系統。該系統包含經組態以產生一電子束之一電子束源，及將該電子束之至少一部分引導至樣本之一部分上的一組電光元件。該系統包含一射度分析器總成。該系統包含經組態以將由樣本之一表面發射之至少一部分次級電子及/或反向散射電子引導至該射度分析器總成之一分光器元件。該射度分析器總成經組態以成像次級電子及/或反向散射電子之至少一者。

简体摘要： 本发明揭示一种具有改良之影像束稳定性之扫描电子显微镜系统。该系统包含经组态以产生一电子束之一电子束源，及将该电子束之至少一部分引导至样本之一部分上的一组电光组件。该系统包含一射度分析器总成。该系统包含经组态以将由样本之一表面发射之至少一部分次级电子及/或反向散射电子引导至该射度分析器总成之一分光器组件。该射度分析器总成经组态以成像次级电子及/或反向散射电子之至少一者。

公开(公告)号：TW201715225A

公开(公告)日：2017-05-01

申请号：TW105125522

申请日：2016-08-10

申请人： 克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

发明人： 姜 辛容 ,  JIANG, XINRONG ,  希爾斯 克里斯多福 ,  SEARS, CHRISTOPHER ,  辛哈 赫許 ,  SINHA, HARSH ,  泰瑞斯 大衛 ,  TREASE, DAVID ,  凱茲 大衛 ,  KAZ, DAVID ,  葉煒 ,  YE, WEI

IPC分类号： G01N23/225 ,  G01N21/95

CPC分类号： H01J37/153 ,  H01J2237/1532 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/1536

摘要： 一種用於檢測或查核一樣本之一邊緣部分之電光學系統包含：一電子束源，其經組態以產生一或多個電子束；一樣本載台，其經組態以固定該樣本；及一電光學柱，其包含經組態以將該一或多個電子束之至少一部分引導至該樣本之一邊緣部分上之一組電光學元件。該系統亦包含：一樣本位置參考裝置，其圍繞該樣本而安置；及一保護環裝置，其安置於該樣本之該邊緣與該樣本位置參考裝置之間以補償一或多個邊際場。該保護環裝置之一或多個特性係可調整的。該系統亦包含一偵測器總成，該偵測器總成經組態以偵測自該樣本之表面發出之電子。

简体摘要： 一种用于检测或查核一样本之一边缘部分之电光学系统包含：一电子束源，其经组态以产生一或多个电子束；一样本载台，其经组态以固定该样本；及一电光学柱，其包含经组态以将该一或多个电子束之至少一部分引导至该样本之一边缘部分上之一组电光学组件。该系统亦包含：一样本位置参考设备，其围绕该样本而安置；及一保护环设备，其安置于该样本之该边缘与该样本位置参考设备之间以补偿一或多个边际场。该保护环设备之一或多个特性系可调整的。该系统亦包含一侦测器总成，该侦测器总成经组态以侦测自该样本之表面发出之电子。