公开(公告)号：TWI598383B

公开(公告)日：2017-09-11

申请号：TW105101873

申请日：2016-01-21

Applicant: 艾克瑪公司 ,  ARKEMA FRANCE

Inventor： 納法洛 克里斯多福 ,  NAVARRO, CHRISTOPHE ,  契法里爾 澤維爾 ,  CHEVALIER, XAVIER ,  尼可立 席琳亞 ,  NICOLET, CELIA ,  伊諾里 朗柏 ,  INOUBLI, RABER

IPC: C08J5/18 ,  C08J7/00 ,  G03F7/00 ,  C09D153/00 ,  C08F212/08 ,  C08F220/10 ,  C08F297/02

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0254 ,  C08L53/00 ,  C08L2205/02 ,  C09D153/00 ,  G03F1/68 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168

公开(公告)号：TW201702077A

公开(公告)日：2017-01-16

申请号：TW105116665

申请日：2016-05-27

Applicant: 科學研究國際中心 ,  CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE ,  艾克瑪公司 ,  ARKEMA FRANCE ,  波爾多理工學院 ,  INSTITUT POLYTECHNIQUE DE BORDEAUX ,  波爾多大學 ,  UNIVERSITE DE BORDEAUX

Inventor： 契法里爾 澤維爾 ,  CHEVALIER, XAVIER ,  尼可立 席琳亞 ,  NICOLET, CELIA ,  納法洛 克里斯多福 ,  NAVARRO, CHRISTOPHE ,  哈齊歐諾 喬治斯 ,  HADZIIOANNOU, GEORGES

IPC: B32B27/16 ,  B32B7/02 ,  G03F7/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F297/00 ,  C09D153/00

CPC classification number: C08L53/005 ,  C08G2261/126 ,  C08G2261/136 ,  C08G2261/1426 ,  C08G2261/146 ,  C08L27/12 ,  C08L33/10 ,  C08L2203/16 ,  G01R33/46 ,  G03F7/0002

Abstract: 本發明係關於用於減少嵌段共聚物(BCP1)膜缺陷度之方法，該嵌段共聚物膜的下表面與基板(S)之經事先中和的表面(N)接觸且其上表面經上表面中和層(TC)覆蓋，以可能得到該嵌段共聚物(BCP1)之奈米區域的指向垂直於該兩個下和上界面，該方法之特徵在於用以覆蓋該嵌段共聚物(BCP1)膜之上表面的該上表面中和層(TC)由第二嵌段共聚物(BCP2)所組成。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于用于减少嵌段共聚物(BCP1)膜缺陷度之方法，该嵌段共聚物膜的下表面与基板(S)之经事先中和的表面(N)接触且其上表面经上表面中和层(TC)覆盖，以可能得到该嵌段共聚物(BCP1)之奈米区域的指向垂直于该两个下和上界面，该方法之特征在于用以覆盖该嵌段共聚物(BCP1)膜之上表面的该上表面中和层(TC)由第二嵌段共聚物(BCP2)所组成。

公开(公告)号：TW201734103A

公开(公告)日：2017-10-01

申请号：TW105141872

申请日：2016-12-16

Applicant: 艾克瑪公司 ,  ARKEMA FRANCE

Inventor： 納法洛 克里斯多福 ,  NAVARRO, CHRISTOPHE ,  尼可立 席琳亞 ,  NICOLET, CELIA ,  契法里爾 澤維爾 ,  CHEVALIER, XAVIER

IPC: C08J5/18 ,  C08J5/24 ,  C08F297/02 ,  G03F1/50 ,  G03F1/80

CPC classification number: G03F7/0002 ,  C08F297/02

Abstract: 本發明係關於用於減少沉積於表面上的含有嵌段共聚物(BCP)之組成物的有序膜中缺陷數量而不降低其他臨界結構化參數(動力學、厚度、臨界尺寸一致性)，其奈米域取向不拘(垂直於基板、平行於基板等)，的方法；此組成物具有介於10.5與40間之乘積χ effective*N(其中χ effective=在研究的該嵌段間之弗洛里-赫金斯參數(Flory-Huggins parameter)，且N為這些嵌段之總聚合度)。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于用于减少沉积于表面上的含有嵌段共聚物(BCP)之组成物的有序膜中缺陷数量而不降低其他临界结构化参数(动力学、厚度、临界尺寸一致性)，其奈米域取向不拘(垂直于基板、平行于基板等)，的方法；此组成物具有介于10.5与40间之乘积χ effective*N(其中χ effective=在研究的该嵌段间之弗洛里-赫金斯参数(Flory-Huggins parameter)，且N为这些嵌段之总聚合度)。

公开(公告)号：TW201734101A

公开(公告)日：2017-10-01

申请号：TW105141869

申请日：2016-12-16

Applicant: 艾克瑪公司 ,  ARKEMA FRANCE

Inventor： 納法洛 克里斯多福 ,  NAVARRO, CHRISTOPHE ,  尼可立 席琳亞 ,  NICOLET, CELIA ,  契法里爾 澤維爾 ,  CHEVALIER, XAVIER

IPC: C08J5/18 ,  C08J5/24 ,  C08F297/02 ,  G03F1/50

CPC classification number: G03F7/0002 ,  C08F297/02

Abstract: 本發明係關於下述方法：用於改善沉積於表面上的含有嵌段共聚物之組成物的有序膜之臨界尺寸均勻性而不會降低其他臨界結構化參數(動力學、結構化缺陷、週期、厚度)，此取決於方向(垂直於基板、平行於基板等)；此組成物具有介於10.5與40間之乘積χ effective*N(其中χ effective=在考慮的二個嵌段之間的弗洛里-赫金斯參數(Flory-Huggins parameter)，且N為這二個嵌段之總聚合度)。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于下述方法：用于改善沉积于表面上的含有嵌段共聚物之组成物的有序膜之临界尺寸均匀性而不会降低其他临界结构化参数(动力学、结构化缺陷、周期、厚度)，此取决于方向(垂直于基板、平行于基板等)；此组成物具有介于10.5与40间之乘积χ effective*N(其中χ effective=在考虑的二个嵌段之间的弗洛里-赫金斯参数(Flory-Huggins parameter)，且N为这二个嵌段之总聚合度)。

公开(公告)号：TWI596058B

公开(公告)日：2017-08-21

申请号：TW104104048

申请日：2015-02-06

Applicant: 艾克瑪公司 ,  ARKEMA FRANCE

Inventor： 納法洛 克里斯多福 ,  NAVARRO, CHRISTOPHE ,  尼可立 席琳亞 ,  NICOLET, CELIA ,  契法里爾 澤維爾 ,  CHEVALIER, XAVIER

IPC: B82Y30/00 ,  C09D153/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: C08F297/026 ,  B81C1/00206 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y30/00 ,  C09D153/00 ,  G03F7/0002

公开(公告)号：TWI595533B

公开(公告)日：2017-08-11

申请号：TW103124911

申请日：2014-07-21

Applicant: 艾克瑪公司 ,  ARKEMA FRANCE

Inventor： 納法洛 克里斯多福 ,  NAVARRO, CHRISTOPHE ,  契法里爾 澤維爾 ,  CHEVALIER, XAVIER ,  尼可立 席琳亞 ,  NICOLET, CELIA

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/208 ,  G03F1/38

CPC classification number: B05D3/046 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/0493 ,  C08F2/001 ,  C08F297/026 ,  C09D153/00 ,  G03F1/68 ,  G03F7/00 ,  G03F7/0002 ,  C08L25/06

公开(公告)号：TW201726768A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：TW105133588

申请日：2016-10-18

Applicant: 科學研究國際中心 ,  CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE ,  艾克瑪公司 ,  ARKEMA FRANCE ,  波爾多理工學院 ,  INSTITUT POLYTECHNIQUE DE BORDEAUX ,  波爾多大學 ,  UNIVERSITE DE BORDEAUX

Inventor： 納法洛 克里斯多福 ,  NAVARRO, CHRISTOPHE ,  尼可立 席琳亞 ,  NICOLET, CELIA ,  埃蘇 卡林 ,  AISSOU, KARIM ,  蒙塔茲 穆翰德 ,  MUMTAZ, MUHAMMAD ,  克勞提特 艾瑞克 ,  CLOUTET, ERIC ,  布羅瓊 希利爾 ,  BROCHON, CYRIL ,  弗勒瑞 紀堯姆 ,  FLEURY, GUILLAUME ,  哈齊歐諾 喬治斯 ,  HADZIIOANNOU, GEORGES

IPC: C08G77/60 ,  C08G81/02 ,  C08J5/18 ,  G03F7/075 ,  G03F7/16

CPC classification number: C08F297/02 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C08G77/60 ,  C09D153/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 本發明係關於一種製程，其能藉由二嵌段共聚物的自組裝而產生奈米結構，該二嵌段共聚物的嵌段之一係藉由至少一對應於式(I)的環狀實體之(共)聚合作用而得到，以及該二嵌段共聚物的另一嵌段係藉由至少一乙烯基芳香族單體的(共)聚合作用而得到 其中X=Si(R1,R2)；Ge(R1,R2) Z=Si(R3,R4)；Ge(R3,R4)；O；S；C(R3,R4) Y=O；S；C(R5,R6) T=O；S；C(R7,R8) R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8選自氫、具有或不具有雜原子的直鏈、支鏈或環狀烷基、及具有或不具有雜原子的芳香族基團。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种制程，其能借由二嵌段共聚物的自组装而产生奈米结构，该二嵌段共聚物的嵌段之一系借由至少一对应于式(I)的环状实体之(共)聚合作用而得到，以及该二嵌段共聚物的另一嵌段系借由至少一乙烯基芳香族单体的(共)聚合作用而得到 其中X=Si(R1,R2)；Ge(R1,R2) Z=Si(R3,R4)；Ge(R3,R4)；O；S；C(R3,R4) Y=O；S；C(R5,R6) T=O；S；C(R7,R8) R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8选自氢、具有或不具有杂原子的直链、支链或环状烷基、及具有或不具有杂原子的芳香族基团。

公开(公告)号：TW201609936A

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：TW104116658

申请日：2015-05-25

Applicant: 艾克瑪公司 ,  ARKEMA FRANCE

Inventor： 納法洛 克里斯多福 ,  NAVARRO, CHRISTOPHE ,  尼可立 席琳亞 ,  NICOLET, CELIA ,  契法里爾 澤維爾 ,  CHEVALIER, XAVIER

IPC: C08L53/00 ,  C08J5/18 ,  C08F2/00 ,  C08F297/02 ,  C08J5/00 ,  C08J7/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: C09D153/00 ,  B05D1/005 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F297/026 ,  C08J5/18 ,  C08J2325/08 ,  C08J2333/08 ,  C08L53/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 本發明係關於奈米結構化成奈米區域之嵌段共聚物膜，其得自具有高於50kg/mol，較佳高於100kg/mol並低於250kg/mol的分子量Mp之基礎嵌段共聚物，且彼之至少一個嵌段包含苯乙烯，和彼之至少一個其他嵌段包含甲基丙烯酸甲酯。此膜之特徵在於建基於苯乙烯之嵌段係由苯乙烯和二苯基乙烯(DPE)之共聚物形成。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于奈米结构化成奈米区域之嵌段共聚物膜，其得自具有高于50kg/mol，较佳高于100kg/mol并低于250kg/mol的分子量Mp之基础嵌段共聚物，且彼之至少一个嵌段包含苯乙烯，和彼之至少一个其他嵌段包含甲基丙烯酸甲酯。此膜之特征在于建基于苯乙烯之嵌段系由苯乙烯和二苯基乙烯(DPE)之共聚物形成。

公开(公告)号：TW201538578A

公开(公告)日：2015-10-16

申请号：TW103143325

申请日：2014-12-11

Applicant: 艾克瑪公司 ,  ARKEMA FRANCE ,  波爾多大學 ,  UNIVERSITE DE BORDEAUX ,  波爾多理工學院 ,  INSTITUT POLYTECHNIQUE DE BORDEAUX ,  科學研究國際中心 ,  CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE

Inventor： 弗勒瑞 紀堯姆 ,  FLEURY, GUILLAUME ,  納法洛 克里斯多福 ,  NAVARRO, CHRISTOPHE ,  哈齊歐諾 喬治斯 ,  HADZIIOANNOU, GEORGES ,  尼可立 席琳亞 ,  NICOLET, CELIA ,  契法里爾 澤維爾 ,  CHEVALIER, XAVIER ,  瑞伯 克莉絲蒂拉 ,  REBOUL, CHRYSTILLA ,  卡斯堤洛 薇若妮卡 ,  CASTILLO, VERONICA ,  皮卡斯 吉里斯 ,  PECASTAINGS, GILLES

IPC: C08J5/18

CPC classification number: C09D187/005 ,  B01J31/06 ,  B05D3/06 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  C08F293/005 ,  C08F2438/02 ,  C08J9/26 ,  C09D153/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0271

Abstract: 本發明關於一種於基板上製造自組裝嵌段共聚物膜之方法，該方法包含下列步驟：藉助於含有不同的化學性質且不互溶的嵌段共聚物與無規共聚物之摻合物的溶液來進行嵌段共聚物及無規共聚物之同時沉積，接著進行退火處理，得以促進嵌段共聚物之自組裝固有的相隔離。

Abstract in simplified Chinese: 本发明关于一种于基板上制造自组装嵌段共聚物膜之方法，该方法包含下列步骤：借助于含有不同的化学性质且不互溶的嵌段共聚物与无规共聚物之掺合物的溶液来进行嵌段共聚物及无规共聚物之同时沉积，接着进行退火处理，得以促进嵌段共聚物之自组装固有的相隔离。

公开(公告)号：TWI622610B

公开(公告)日：2018-05-01

申请号：TW103131001

申请日：2014-09-09

Applicant: 艾克瑪公司 ,  ARKEMA FRANCE ,  科學研究國際中心 ,  CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE ,  波爾多大學 ,  UNIVERSITE DE BORDEAUX ,  波爾多理工學院 ,  INSTITUT POLYTECHNIQUE DE BORDEAUX

Inventor： 納法洛 克里斯多福 ,  NAVARRO, CHRISTOPHE ,  契法里爾 澤維爾 ,  CHEVALIER, XAVIER ,  尼可立 席琳亞 ,  NICOLET, CELIA ,  伊里歐普洛斯 伊利亞斯 ,  ILIOPOULOS, ILIAS ,  提倫 拉路卡 ,  TIRON, RALUCA ,  弗勒瑞 紀堯姆 ,  FLEURY, GUILLAUME ,  哈齊歐諾 喬治斯 ,  HADZIIOANNOU, GEORGES

IPC: C08J5/18 ,  C08J7/00 ,  C08F297/02 ,  B82B3/00 ,  B82Y40/00 ,  B82Y30/00 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  G03F1/68