公开(公告)号：TW201510670A

公开(公告)日：2015-03-16

申请号：TW103121119

申请日：2014-06-18

申请人： ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

发明人： 倪祺佩洛 安得列 亞歷山卓維克 ,  NIKIPELOV, ANDREY ALEXANDROVICH ,  佛利恩斯 歐勒夫 華德瑪 佛勒迪米爾 ,  FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR ,  德 弗瑞斯 高斯 查爾斯 ,  DE VRIES, GOSSE CHARLES ,  洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 ,  LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  白尼 凡丁 葉弗真葉米希 ,  BANINE, VADIM YEVGENYEVICH ,  德 賈格 皮耶特 威廉 荷曼 ,  DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN ,  東克 瑞佛 路多維哥司 ,  DONKER, RILPHO LUDOVICUS ,  尼恩休斯 漢 冠 ,  NIENHUYS, HAN-KWANG ,  昆吉拉 博格特 ,  KRUIZINGA, BORGERT ,  安捷倫 華特 裘普 ,  ENGELEN, WOUTER JOEP ,  雷町 傲特嘉 珍 ,  LUITEN, OTGER JAN ,  亞克曼司 喬漢那斯 安東尼司 傑瑞德思 ,  AKKERMANS, JOHANNES ANTONIUS GERARDUS ,  葛里民克 李奧納德斯 雅得安司 傑拉德斯 ,  GRIMMINCK, LEONARDUS ADRIANUS GERARDUS ,  李特維納克 維德墨 ,  LITVINEKNKO, VLADIMIR

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70033 ,  G01J1/0407 ,  G01J1/0418 ,  G01J1/26 ,  G01J1/429 ,  G02B1/06 ,  G02B5/205 ,  G02B26/023 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/7085 ,  G21K1/10 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0085 ,  H01S3/0903 ,  H05H7/04

摘要： 本發明揭示一種圖案化微影基板之方法，該方法包含使用一自由電子雷射以產生EUV輻射，及將該EUV輻射遞送至一微影裝置，該微影裝置將該EUV輻射投影至微影基板上，其中該方法進一步包含藉由使用一以回饋為基礎之控制迴路以監視該自由電子雷射且相應地調整該自由電子雷射之操作來縮減遞送至該等微影基板之EUV輻射之功率之波動。

简体摘要： 本发明揭示一种图案化微影基板之方法，该方法包含使用一自由电子激光以产生EUV辐射，及将该EUV辐射递送至一微影设备，该微影设备将该EUV辐射投影至微影基板上，其中该方法进一步包含借由使用一以回馈为基础之控制回路以监视该自由电子激光且相应地调整该自由电子激光之操作来缩减递送至该等微影基板之EUV辐射之功率之波动。