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1.发明专利輻射系統、輻射更改器件、微影系統、光學系統、適合於接收主輻射光束之光束分裂裝置及修改EUV輻射光束之方法 有权辐射系统、辐射更改器件、微影系统、光学系统、适合于接收主辐射光束之光束分裂设备及修改EUV辐射光束之方法
公开(公告)号：TWI698715B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW105106205
申请日：2016-03-01
发明人： 尼恩休斯 漢 冠 , NIENHUYS, HAN-KWANG , 寶賈特 艾瑞克 威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM , 東克 瑞佛 路多維哥司 , DONKER, RILPHO LUDOVICUS , 昆吉拉 博格特 , KRUIZINGA, BORGERT , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 布特馬 哈寇 , BOTMA, HAKO , 德 弗瑞斯 高斯 查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES , 佛利恩斯 歐勒夫 華德瑪 佛勒迪米爾 , FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR , 巴賽曼 喬納斯 喬可巴斯 麥修斯 , BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS
IPC分类号： G03F7/20
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公开(公告)号：TW201532355A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW103142489
申请日：2014-12-05
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人： 倪祺佩洛 安得列 亞歷山卓維克 , NIKIPELOV, ANDREY ALEXANDROVICH , 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 德 賈格 皮耶特 威廉 荷曼 , DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN , 德 弗瑞斯 高斯 查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES , 佛利恩斯 歐勒夫 華德瑪 佛勒迪米爾 , FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR , 葛里民克 李奧納德斯 雅得安司 傑拉德斯 , GRIMMINCK, LEONARDUS ADRIANUS GERARDUS , 凱特拉妮克 安戴可 , KATALENIC, ANDELKO , 亞克曼司 喬漢那斯 安東尼司 傑瑞德思 , AKKERMANS, JOHANNES ANTONIUS GERARDUS , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 安捷倫 華特 裘普 , ENGELEN, WOUTER JOEP , 巴璀吉 沛卓思 羅基羅司 , BARTRAIJ, PETRUS RUTGERUS , 康能 提司 尤漢 , COENEN, TEIS JOHAN , 歐普特 羅特 威黑墨斯 派翠克 伊麗莎白 瑪麗亞 , OP'T ROOT, WILHELMUS PATRICK ELISABETH MARIA
摘要： 本發明揭示一種用於提供一電子射束之注入器配置。該注入器配置包含用於提供電子聚束之一第一注入器，及用於提供電子聚束之一第二注入器。該注入器配置可在一第一模式與一第二模式中操作，在該第一模式中，該電子射束包含僅由該第一注入器提供之電子聚束，在該第二模式中，該電子射束包含僅由該第二注入器提供之電子聚束。
简体摘要： 本发明揭示一种用于提供一电子射束之注入器配置。该注入器配置包含用于提供电子聚束之一第一注入器，及用于提供电子聚束之一第二注入器。该注入器配置可在一第一模式与一第二模式中操作，在该第一模式中，该电子射束包含仅由该第一注入器提供之电子聚束，在该第二模式中，该电子射束包含仅由该第二注入器提供之电子聚束。
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公开(公告)号：TWI494704B
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW098139024
申请日：2009-11-17
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人： 德 弗瑞斯 高斯 查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES , 布斯 愛得恩 喬漢 , BUIS, EDWIN JOHAN , 麥肯 巫維 , MICKAN, UWE
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70141
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公开(公告)号：TW201510670A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103121119
申请日：2014-06-18
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人： 倪祺佩洛 安得列 亞歷山卓維克 , NIKIPELOV, ANDREY ALEXANDROVICH , 佛利恩斯 歐勒夫 華德瑪 佛勒迪米爾 , FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR , 德 弗瑞斯 高斯 查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 德 賈格 皮耶特 威廉 荷曼 , DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN , 東克 瑞佛 路多維哥司 , DONKER, RILPHO LUDOVICUS , 尼恩休斯 漢 冠 , NIENHUYS, HAN-KWANG , 昆吉拉 博格特 , KRUIZINGA, BORGERT , 安捷倫 華特 裘普 , ENGELEN, WOUTER JOEP , 雷町 傲特嘉 珍 , LUITEN, OTGER JAN , 亞克曼司 喬漢那斯 安東尼司 傑瑞德思 , AKKERMANS, JOHANNES ANTONIUS GERARDUS , 葛里民克 李奧納德斯 雅得安司 傑拉德斯 , GRIMMINCK, LEONARDUS ADRIANUS GERARDUS , 李特維納克 維德墨 , LITVINEKNKO, VLADIMIR
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70033 , G01J1/0407 , G01J1/0418 , G01J1/26 , G01J1/429 , G02B1/06 , G02B5/205 , G02B26/023 , G03F7/70008 , G03F7/7055 , G03F7/70558 , G03F7/7085 , G21K1/10 , H01S3/005 , H01S3/0085 , H01S3/0903 , H05H7/04
摘要： 本發明揭示一種圖案化微影基板之方法，該方法包含使用一自由電子雷射以產生EUV輻射，及將該EUV輻射遞送至一微影裝置，該微影裝置將該EUV輻射投影至微影基板上，其中該方法進一步包含藉由使用一以回饋為基礎之控制迴路以監視該自由電子雷射且相應地調整該自由電子雷射之操作來縮減遞送至該等微影基板之EUV輻射之功率之波動。
简体摘要： 本发明揭示一种图案化微影基板之方法，该方法包含使用一自由电子激光以产生EUV辐射，及将该EUV辐射递送至一微影设备，该微影设备将该EUV辐射投影至微影基板上，其中该方法进一步包含借由使用一以回馈为基础之控制回路以监视该自由电子激光且相应地调整该自由电子激光之操作来缩减递送至该等微影基板之EUV辐射之功率之波动。
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公开(公告)号：TWI420257B
公开(公告)日：2013-12-21
申请号：TW099133135
申请日：2010-09-29
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人： 凡 史考特 珍 柏納得 柏勒契爾穆斯 , VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS , 凡 英真 史契納 科英 , VAN INGEN SCHENAU, KOEN , 迪 菲瑞爾斯 固史 查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70425 , G02B26/0833 , G02B27/0068 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70191
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公开(公告)号：TWI649934B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW103142489
申请日：2014-12-05
发明人： 倪祺佩洛 安得列 亞歷山卓維克 , NIKIPELOV, ANDREY ALEXANDROVICH , 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 德 賈格 皮耶特 威廉 荷曼 , DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN , 德 弗瑞斯 高斯 查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES , 佛利恩斯 歐勒夫 華德瑪 佛勒迪米爾 , FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR , 葛里民克 李奧納德斯 雅得安司 傑拉德斯 , GRIMMINCK, LEONARDUS ADRIANUS GERARDUS , 凱特拉妮克 安戴可 , KATALENIC, ANDELKO , 亞克曼司 喬漢那斯 安東尼司 傑瑞德思 , AKKERMANS, JOHANNES ANTONIUS GERARDUS , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 安捷倫 華特 裘普 , ENGELEN, WOUTER JOEP , 巴璀吉 沛卓思 羅基羅司 , BARTRAIJ, PETRUS RUTGERUS , 康能 提司 尤漢 , COENEN, TEIS JOHAN , 歐普特 羅特 威黑墨斯 派翠克 伊麗莎白 瑪麗亞 , OP'T ROOT, WILHELMUS PATRICK ELISABETH MARIA
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公开(公告)号：TWI602030B
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：TW102136606
申请日：2013-10-09
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人： 侯 史文 安東尹 喬漢 , HOL, SVEN ANTOIN JOHAN , 比伊斯 愛德溫 喬漢 , BUIS, EDWIN JOHAN , 貝克司 艾利卡 馬力亞 , REKKERS, ERIK MARIA , 德 弗瑞斯 高斯 查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES , 布特馬 哈寇 , BOTMA, HAKO , 凡 丹姆 莫芮那司 喬漢斯 馬利亞 , VAN DAM, MARINUS JOHANNES MARIA , 凡 戈庫 瑞門 帕斯克 , VAN GORKOM, RAMON PASCAL , 凡 沙特 珍 伯納德 波萊奇莫斯 , VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70091 , G01C9/06 , G01C2009/066 , G02B7/1821 , G03F7/70116 , H01F7/0231 , H01F7/206 , H01H2051/2218 , H02K41/00
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公开(公告)号：TW201523164A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103133157
申请日：2014-09-24
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人： 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 巴璀吉 沛卓思 羅基羅司 , BARTRAIJ, PETRUS RUTGERUS , 阿門特 盧卡斯 約翰尼斯 彼得 , AMENT, LUCAS JOHANNES PETER , 德 賈格 皮耶特 威廉 荷曼 , DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN , 德 弗瑞斯 高斯 查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES , 東克 瑞佛 路多維哥司 , DONKER, RILPHO LUDOVICUS , 安捷倫 華特 裘普 , ENGELEN, WOUTER JOEP , 佛利恩斯 歐勒夫 華德瑪 佛勒迪米爾 , FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR , 葛里民克 李奧納德斯 雅得安司 傑拉德斯 , GRIMMINCK, LEONARDUS ADRIANUS GERARDUS , 凱特拉妮克 安戴可 , KATALENIC, ANDELKO , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 尼恩休斯 漢 冠 , NIENHUYS, HAN-KWANG , 倪祺佩洛 安得列 亞歷山卓維克 , NIKIPELOV, ANDREY ALEXANDROVICH , 瑞肯 麥可 喬賽夫 瑪堤斯 , RENKENS, MICHAEL JOZEF MATHIJS , 凡 戈庫 瑞門 帕斯克 , VAN GORKOM, RAMON PASCAL , 簡森 法蘭西瑟斯 喬漢那斯 約瑟夫 , JANSSEN, FRANCISCUS JOHANNES JOSEPH , 昆吉拉 博格特 , KRUIZINGA, BORGERT
CPC分类号： G21K1/067 , G01N2021/95676 , G02B5/1814 , G02B5/1823 , G02B5/1838 , G02B5/1861 , G02B27/0025 , G02B27/0938 , G02B27/10 , G02B27/1086 , G02B27/12 , G02B27/14 , G02B27/142 , G02B27/146 , G02B27/4272 , G03F1/84 , G03F7/70025 , G03F7/70208 , G03F7/70566 , G03F7/70891 , G03F7/70991 , G21K2201/065 , H01S3/0903 , H05H7/04
摘要： 本發明揭示一種供一微影系統內使用之傳遞系統。該光束傳遞系統包含光學元件，該等光學元件經配置以自一輻射源接收一輻射光束且沿著一或多個方向反射輻射之部分以形成一或多個分支輻射光束以提供至一或多個工具。
简体摘要： 本发明揭示一种供一微影系统内使用之传递系统。该光束传递系统包含光学组件，该等光学组件经配置以自一辐射源接收一辐射光束且沿着一或多个方向反射辐射之部分以形成一或多个分支辐射光束以提供至一或多个工具。
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公开(公告)号：TWI487946B
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：TW099113106
申请日：2010-04-26
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人： 布斯 愛得恩 喬漢 , BUIS, EDWIN JOHAN , 德 弗瑞斯 高斯 查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES , 布恩 費德勒斯 安卓那司 , BOON, FIDELUS ADRIANUS
CPC分类号： G03F7/70116 , G02B7/1821
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公开(公告)号：TW201636740A
公开(公告)日：2016-10-16
申请号：TW105106205
申请日：2016-03-01
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人： 尼恩休斯 漢 冠 , NIENHUYS, HAN-KWANG , 寶賈特 艾瑞克 威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM , 東克 瑞佛 路多維哥司 , DONKER, RILPHO LUDOVICUS , 昆吉拉 博格特 , KRUIZINGA, BORGERT , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 布特馬 哈寇 , BOTMA, HAKO , 德 弗瑞斯 高斯 查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES , 佛利恩斯 歐勒夫 華德瑪 佛勒迪米爾 , FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR , 巴賽曼 喬納斯 喬可巴斯 麥修斯 , BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B5/0221 , G02B5/0268 , G02B5/0284 , G03F7/70025 , G03F7/7005 , G03F7/70075 , G03F7/70991 , H01S3/2308 , H05G2/008
摘要： 本發明提供一種輻射系統，其包含：一光束分裂裝置，其經組態以接收一主輻射光束且將該主輻射光束分裂成複數個分支輻射光束；及一輻射更改器件，其經配置以接收一輸入輻射光束且輸出一經修改輻射光束，其中該輻射更改器件經組態以提供一輸出之經修改輻射光束，該輸出之經修改輻射光束在與該所接收之輸入輻射光束相比較時具有一增加之光展量，其中該輻射更改器件經配置以使得由該輻射更改器件接收之該輸入輻射光束為一主輻射光束，且該輻射更改器件經組態以將一經修改主輻射光束提供至該光束分裂裝置，或其中該輻射更改器件經配置以使得由該輻射更改器件接收之該輸入輻射光束為自該光束分裂裝置輸出之一分支輻射光束。
简体摘要： 本发明提供一种辐射系统，其包含：一光束分裂设备，其经组态以接收一主辐射光束且将该主辐射光束分裂成复数个分支辐射光束；及一辐射更改器件，其经配置以接收一输入辐射光束且输出一经修改辐射光束，其中该辐射更改器件经组态以提供一输出之经修改辐射光束，该输出之经修改辐射光束在与该所接收之输入辐射光束相比较时具有一增加之光展量，其中该辐射更改器件经配置以使得由该辐射更改器件接收之该输入辐射光束为一主辐射光束，且该辐射更改器件经组态以将一经修改主辐射光束提供至该光束分裂设备，或其中该辐射更改器件经配置以使得由该辐射更改器件接收之该输入辐射光束为自该光束分裂设备输出之一分支辐射光束。
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