-
公开(公告)号:TWI612113B
公开(公告)日:2018-01-21
申请号:TW101145148
申请日:2012-11-30
Applicant: 新TAC化成股份有限公司 , NEW TAC KASEI CO., LTD. , 王子控股股份有限公司 , OJI HOLDINGS CORPORATION
Inventor: 赤松享尚 , AKAMATSU, TAKANAO , 山本真之 , YAMAMOTO, MASAYUKI , 中村洋平 , NAKAMURA, YOHEI
IPC: C09J133/00 , C09J7/02 , B32B7/12
CPC classification number: C09J133/08 , C08L2205/02 , C09D133/08 , C08L33/08
-
2.圖型形成方法、加工基板之製造方法、光學元件之製造方法、電路基板之製造方法、電子元件之製造方法、轉印模具之製造方法 审中-公开
Simplified title: 图型形成方法、加工基板之制造方法、光学组件之制造方法、电路基板之制造方法、电子组件之制造方法、转印模具之制造方法公开(公告)号:TW201801145A
公开(公告)日:2018-01-01
申请号:TW106111220
申请日:2017-03-31
Applicant: 佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
Inventor: 飯村晶子 , IIMURA, AKIKO , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI
IPC: H01L21/027 , B29C59/02
CPC classification number: G03F7/0002 , C09D133/06 , C09D133/08 , C09D135/02
Abstract: 一種圖型形成方法,係將含有聚合性化合物的成分(a1)之硬化性組成物(A1)的層層合於基板表面,於前述硬化性組成物(A1)的層上,離散地滴加至少含有聚合性化合物的成分(a2)及光聚合起始劑的成分(b2)之硬化性組成物(A2)的液滴,於具有圖型之模具與前述基板之間夾入前述硬化性組成物(A1)及前述硬化性組成物(A2)之混合層,藉由對前述混合層照射光而硬化,自硬化後之前述混合層拉離前述模具,而於前述基板上形成圖型,前述硬化性組成物(A1)之前述聚合性化合物的成分(a1)與前述硬化性組成物(A2)之漢森(Hansen)距離Ra((a1)-(A2))為6以下。
Abstract in simplified Chinese: 一种图型形成方法,系将含有聚合性化合物的成分(a1)之硬化性组成物(A1)的层层合于基板表面,于前述硬化性组成物(A1)的层上,离散地滴加至少含有聚合性化合物的成分(a2)及光聚合起始剂的成分(b2)之硬化性组成物(A2)的液滴,于具有图型之模具与前述基板之间夹入前述硬化性组成物(A1)及前述硬化性组成物(A2)之混合层,借由对前述混合层照射光而硬化,自硬化后之前述混合层拉离前述模具,而于前述基板上形成图型,前述硬化性组成物(A1)之前述聚合性化合物的成分(a1)与前述硬化性组成物(A2)之汉森(Hansen)距离Ra((a1)-(A2))为6以下。
-
公开(公告)号:TW201736535A
公开(公告)日:2017-10-16
申请号:TW105140944
申请日:2016-12-09
Inventor: 林 觀陽 , LIN, GUANYANG , 吳 恒鵬 , WU, HENGPENG , 金志勳 , KIM, JIHOON , 殷 建 , YIN, JIAN , 巴卡朗 杜拉 , BASKARAN, DURAIRAJ , 單 鑒會 , SHAN, JIANHUI
IPC: C09D151/00 , B05D3/00 , B05D3/02 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: C09D151/003 , B05D3/02 , C09D133/08 , C09D135/06 , H01L21/02118 , H01L21/0271 , H01L21/324
Abstract: 本發明係關於非水性、可接枝塗層組合物,其包含聚合物及旋轉澆注有機溶劑之均質溶液,其中該組合物不含酸性化合物、著色粒子、顏料或染料,且該聚合物具有包含衍生自含有單一可聚合烯烴碳雙鍵之單體之重複單元的線性聚合物鏈結構,且該聚合物含有至少一個選自由以下組成之群之含三芳基甲基硫屬化物部分:具有結構(I)之重複單元、結構(II)之末端鏈基團單元及其混合物,且該聚合物不含任何含有水可游離基團、離子基團、自由硫醇基團或自由羥基之重複單元或端基。本發明亦係關於使用此新穎塗層組合物以在基材上形成接枝聚合物膜。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于非水性、可接枝涂层组合物,其包含聚合物及旋转浇注有机溶剂之均质溶液,其中该组合物不含酸性化合物、着色粒子、颜料或染料,且该聚合物具有包含衍生自含有单一可聚合烯烃碳双键之单体之重复单元的线性聚合物链结构,且该聚合物含有至少一个选自由以下组成之群之含三芳基甲基硫属化物部分:具有结构(I)之重复单元、结构(II)之末端链基团单元及其混合物,且该聚合物不含任何含有水可游离基团、离子基团、自由硫醇基团或自由羟基之重复单元或端基。本发明亦系关于使用此新颖涂层组合物以在基材上形成接枝聚合物膜。
-
公开(公告)号:TWI593736B
公开(公告)日:2017-08-01
申请号:TW104135162
申请日:2015-10-27
Applicant: 三星SDI 股份有限公司 , SAMSUNG SDI CO., LTD.
Inventor: 金惠珍 , KIM, HYE JIN , 金美善 , KIM, MI SUN , 南成龍 , NAM, SEONG RYONG , 高盛慜 , KO, SUNG MIN , 李知娟 , LEE, JI YEON
IPC: C08L33/04 , C09K3/10 , G02F1/1333 , G02F1/1339
CPC classification number: C08F220/30 , C07C69/54 , C07C323/19 , C08F2/50 , C08F220/34 , C08F222/1006 , C08F2220/301 , C08F2222/1013 , C08F2222/102 , C08F2800/20 , C09D133/08 , C09D133/14 , C09D135/02 , H01L33/56 , H01L51/004 , H01L51/5253 , H01L2251/301 , H01L2251/303 , C08F2222/1026 , C08F2220/281 , C08F220/38
-
公开(公告)号:TW201716519A
公开(公告)日:2017-05-16
申请号:TW104138788
申请日:2015-11-23
Applicant: 貝爾製造公司 , BEHR PROCESS CORPORATION
Inventor: 隋 成程 , XUE, CHENCHEN , 威廉 葛列格里 , WILLIAMS, GREGORY ALLEN , 唐 明倫 , TARNG, MING-REN
CPC classification number: C08K7/26 , C01P2006/10 , C08K3/013 , C08K3/20 , C08K3/22 , C08K3/26 , C08K3/34 , C08K3/346 , C08K2003/2251 , C08K2003/2268 , C08K2003/2272 , C08K2003/2296 , C08K2003/265 , C09D5/00 , C09D7/45 , C09D7/62 , C09D7/67 , C09D123/0853 , C09D131/04 , C09D133/08 , C09D161/28 , C09D163/00 , C09D167/00 , C09D175/04 , C09D179/04 , C09D191/00 , C09D201/00
Abstract: 一種具有減少的晶種形成的塗料組成物,包含溶劑、聚合物黏合劑、及複數個沸石粒子。特徵在於,各沸石粒子中界定複數個平均孔徑為約1至100埃的孔洞且有陽離子配置在該等孔洞內。有利地,該塗料組成物藉由螯合傾向於引起晶種形成之該塗料組成物中的陽離子而展現減少的晶種形成。
Abstract in simplified Chinese: 一种具有减少的晶种形成的涂料组成物,包含溶剂、聚合物黏合剂、及复数个沸石粒子。特征在于,各沸石粒子中界定复数个平均孔径为约1至100埃的孔洞且有阳离子配置在该等孔洞内。有利地,该涂料组成物借由螯合倾向于引起晶种形成之该涂料组成物中的阳离子而展现减少的晶种形成。
-
公开(公告)号:TWI580738B
公开(公告)日:2017-05-01
申请号:TW104121073
申请日:2015-06-30
Applicant: 積水化成品工業股份有限公司 , SEKISUI PLASTICS CO., LTD.
Inventor: 久保純子 , KUBO, JUNKO , 本村司 , MOTOMURA, TAKASHI , 笹原秀一 , SASAHARA, SHUICHI
IPC: C09C1/00 , C09C3/08 , C09C3/10 , B82Y40/00 , B82Y30/00 , C09D7/12 , C09D201/00 , G02B5/02 , B82Y20/00
CPC classification number: C09C1/0021 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01P2004/64 , C01P2006/60 , C09C1/00 , C09C3/08 , C09C3/10 , C09D7/40 , C09D7/67 , C09D17/00 , C09D17/007 , C09D125/06 , C09D133/08 , C09D133/12 , C09D201/00 , G02B5/02 , G02B5/0268
-
公开(公告)号:TWI572647B
公开(公告)日:2017-03-01
申请号:TW103106469
申请日:2014-02-26
Applicant: LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
Inventor: 姜俊求 , KANG, JOON-KOO , 張影來 , CHANG, YEONG RAE , 鄭順和 , JUNG, SOON HWA , 邊真錫 , BYUN, JIN SEOK
IPC: C08J5/18 , C09D133/04 , C09D4/02 , C09D201/00
CPC classification number: C09D183/12 , C08F222/1006 , C08F287/00 , C08F2438/01 , C08G77/442 , C08G77/46 , C09D4/06 , C09D133/06 , C09D133/08 , C09D133/14 , C09D153/00 , C09D183/10 , C08F220/14 , C08F2220/1825 , C08K3/36 , C08K5/103 , C08L83/10 , C08L83/12 , C08F2222/1026
-
公开(公告)号:TW201700513A
公开(公告)日:2017-01-01
申请号:TW105106559
申请日:2016-03-03
Applicant: 陶氏全球科技責任有限公司 , DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC , 羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC , 羅門哈斯電子材料韓國公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS KOREA LTD.
Inventor: 白 志峰 , BAI, ZHIFENG , 朱 賈布摩 , JOO, JAEBUM , 成仁慶 , SUNG, IN-KYUNG , 泰勒 詹姆士 , TAYLOR, JAMES
IPC: C08F220/18 , C08F220/20 , C09D133/04
CPC classification number: C09K11/562 , B32B27/08 , B32B27/281 , B32B27/285 , B32B27/288 , B32B27/30 , B32B27/302 , B32B27/308 , B32B27/36 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2270/00 , B32B2307/7244 , B32B2307/7246 , B32B2457/20 , C08F220/18 , C08F222/10 , C08K5/00 , C09D133/08 , C09K11/62 , C09K11/70 , C09K11/7492 , C09K11/883 , C09K11/892 , C08F2220/1875 , C08F2222/1013
Abstract: 一種聚合物複合材料,其包括量子點及至少一種式(I)化合物之聚合單元 其中R1為氫或甲基且R2為C6-C20脂族多環取代基。
Abstract in simplified Chinese: 一种聚合物复合材料,其包括量子点及至少一种式(I)化合物之聚合单元 其中R1为氢或甲基且R2为C6-C20脂族多环取代基。
-
公开(公告)号:TW201638167A
公开(公告)日:2016-11-01
申请号:TW105105010
申请日:2016-02-19
Applicant: 夏普股份有限公司 , SHARP KABUSHIKI KAISHA
Inventor: 林秀和 , HAYASHI, HIDEKAZU , 田口登喜生 , TAGUCHI, TOKIO , 山田信明 , YAMADA, NOBUAKI , 芝井康博 , SHIBAI, YASUHIRO , 新納厚志 , NIINOH, ATSUSHI , 中松健一郎 , NAKAMATSU, KENICHIRO
IPC: C08J5/18 , B29C59/02 , B29C59/16 , B29C35/02 , B32B27/30 , B32B27/16 , B32B3/30 , G02B1/10 , C09K3/18
CPC classification number: B29D11/00788 , B29C33/62 , B29C35/0805 , B29C59/026 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B29D11/0073 , B29D11/00865 , B29K2033/04 , B29K2105/0002 , B29K2105/0005 , B29K2995/0087 , B29K2995/0097 , B32B3/30 , B32B27/08 , B32B27/30 , B32B37/15 , B32B38/06 , B32B2551/00 , C08F290/067 , C08L75/16 , C09D5/006 , C09D5/1662 , C09D5/1681 , C09D5/1693 , C09D133/08 , C09D133/24 , C09D175/16 , G02B1/118 , G02B1/14 , G02B1/18 , C08F222/1006
Abstract: 本發明提供一種具有優異之抗反射性,並且防污性及耐擦傷性優異之光學膜之製造方法。本發明之光學膜之製造方法包括如下步驟:步驟(1),其塗佈下層樹脂及上層樹脂;步驟(2),其於積層有所塗佈之上述下層樹脂及上述上層樹脂之狀態下,將模具自上述上層樹脂側壓抵於上述下層樹脂及上述上層樹脂,而形成表面具有凹凸結構之樹脂層;及步驟(3),其使上述樹脂層硬化;並且上述下層樹脂包含不含氟原子之至少一種第一單體,上述上層樹脂包含不含氟原子之至少一種第二單體、及含氟單體,上述第一單體及上述第二單體之至少一者係包含與上述含氟單體相溶之相溶性單體,且溶解於上述下層樹脂及上述上層樹脂中者。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种具有优异之抗反射性,并且防污性及耐擦伤性优异之光学膜之制造方法。本发明之光学膜之制造方法包括如下步骤:步骤(1),其涂布下层树脂及上层树脂;步骤(2),其于积层有所涂布之上述下层树脂及上述上层树脂之状态下,将模具自上述上层树脂侧压抵于上述下层树脂及上述上层树脂,而形成表面具有凹凸结构之树脂层;及步骤(3),其使上述树脂层硬化;并且上述下层树脂包含不含氟原子之至少一种第一单体,上述上层树脂包含不含氟原子之至少一种第二单体、及含氟单体,上述第一单体及上述第二单体之至少一者系包含与上述含氟单体相溶之相溶性单体,且溶解于上述下层树脂及上述上层树脂中者。
-
公开(公告)号:TW201634566A
公开(公告)日:2016-10-01
申请号:TW105107097
申请日:2016-03-08
Applicant: 羅門哈斯公司 , ROHM AND HAAS COMPANY
Inventor: 拉弗勒 愛德華 E , LAFLEUR, EDWARD E. , 雷 喜馬爾 , RAY, HIMAL , 普拉南 高拉夫 , PRANAMI, GAURAV
IPC: C08L33/14 , C08L57/06 , D06M15/273 , D06M15/21
CPC classification number: C09D4/06 , C08F220/18 , C09D4/00 , C09D133/068 , C09D133/08 , D06M15/3568 , C08F2220/1825 , C08F212/08 , C08F2220/325 , C08F230/08
Abstract: 本發明提供一種處理紡織物之方法,其包括(i)使如申請專利範圍第1項之水性組合物與所述紡織物接觸,及(ii)隨後使所述水自所述水性組合物蒸發。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种处理纺织物之方法,其包括(i)使如申请专利范围第1项之水性组合物与所述纺织物接触,及(ii)随后使所述水自所述水性组合物蒸发。
-
-
-
-
-
-
-
-
-