公开(公告)号：TW201616251A

公开(公告)日：2016-05-01

申请号：TW104122776

申请日：2015-07-14

申请人： 史華曲集團研發有限公司 ,  THE SWATCH GROUP RESEARCH AND DEVELOPMENT LTD.

发明人： 奧古斯托尼 恩佐 ,  AGUSTONI, ENZO

IPC分类号： G04B37/22 ,  C25D1/10

CPC分类号： C25D1/003 ,  C25D1/02 ,  C25D1/08 ,  G04B37/04 ,  G04B37/08 ,  G04B37/22

摘要： 用於製造電鑄時計零組件(1)的方法：包括第一貴金屬之相同的第一合金被選擇，以製成功能插件(3)及電鑄殼體(2)兩者；這些插件(3)被製成；具有與此零組件(1)的內部輪廓互補之輪廓的電鑄基板(4)被形成在第二犧牲材料中；這些插件(3)被插入此基板(4)上所製成的外殼(5)，以形成配備好之犧牲基板(6)，其係設有需要的抗蝕劑(9)，以藉著電鑄製程獲得裸露之電鑄零組件(7)，使材料沉積在此基板(4)上，而作用為一模芯以形成此電鑄殼體(2)，及沉積在每一插件(3)的每一可接近表面上，以將該插件鎖固至此電鑄殼體(2)；接著此犧牲基板(4)被摧毀，且所有這些抗蝕劑(9)被移除。

简体摘要： 用于制造电铸时计零组件(1)的方法：包括第一贵金属之相同的第一合金被选择，以制成功能插件(3)及电铸壳体(2)两者；这些插件(3)被制成；具有与此零组件(1)的内部轮廓互补之轮廓的电铸基板(4)被形成在第二牺牲材料中；这些插件(3)被插入此基板(4)上所制成的外壳(5)，以形成配备好之牺牲基板(6)，其系设有需要的抗蚀剂(9)，以借着电铸制程获得裸露之电铸零组件(7)，使材料沉积在此基板(4)上，而作用为一模芯以形成此电铸壳体(2)，及沉积在每一插件(3)的每一可接近表面上，以将该插件锁固至此电铸壳体(2)；接着此牺牲基板(4)被摧毁，且所有这些抗蚀剂(9)被移除。

公开(公告)号：TW200519242A

公开(公告)日：2005-06-16

申请号：TW093131591

申请日：2004-10-18

申请人： 國立大學法人京都大學 KYOTO UNIVERSITY

发明人： 福中康博 YASUHIRO FUKUNAKA ,  小西陽子 YOKO KONISHI ,  本山宗主 MUNEKAZU MOTOYAMA ,  石井隆次 RYUJI ISHII

IPC分类号： C30B ,  B82B

CPC分类号： C25D1/10 ,  B82Y30/00 ,  C25D1/02

摘要： 本發明在於提供一種由鎳(Ni)或鐵(Fe)、鈷(Co)等所構成之便宜且高品質的金屬奈米管。在具有貫通孔的膜之一方的表面，形成厚度10～80nm之金屬薄膜做成陰極，以電解液充滿陽極與陰極之間並施加電壓。使電解液中的金屬離子在貫通孔壁面電化學地析出，形成金屬奈米管。作為膜，可以採用聚碳酸酯(polycarbonate)膜等熱可塑性樹脂多孔膜，或氧化鋁(alumina)多孔膜、鋁(Al)之陽極氧化膜等，貫通孔的直徑在15～500nm較佳。此外，前述金屬薄膜，可利用濺鍍(sputter)形成，由白金－鈀(Pd)合金所構成較佳。

简体摘要： 本发明在于提供一种由镍(Ni)或铁(Fe)、钴(Co)等所构成之便宜且高品质的金属奈米管。在具有贯通孔的膜之一方的表面，形成厚度10～80nm之金属薄膜做成阴极，以电解液充满阳极与阴极之间并施加电压。使电解液中的金属离子在贯通孔壁面电化学地析出，形成金属奈米管。作为膜，可以采用聚碳酸酯(polycarbonate)膜等热可塑性树脂多孔膜，或氧化铝(alumina)多孔膜、铝(Al)之阳极氧化膜等，贯通孔的直径在15～500nm较佳。此外，前述金属薄膜，可利用溅镀(sputter)形成，由白金－钯(Pd)合金所构成较佳。

公开(公告)号：TW593775B

公开(公告)日：2004-06-21

申请号：TW091118997

申请日：2002-08-22

申请人： 光學成形股份有限公司 OPTICAL FORMING CORPORATION ,  稻生股份有限公司 INOU CO., LTD.

发明人： 小田德治 TOKUJI ODA ,  市川裕 YUTAKA ITIKAWA

IPC分类号： C25D

CPC分类号： C25D1/02 ,  B23Q3/108 ,  B23Q11/005 ,  F15B15/262 ,  Y02P70/171 ,  Y10T428/13

摘要： 一種能夠提供高精確度之電鑄的電鑄裝置及電鑄方法。容納於外槽2內之電鑄槽1可持續從控制槽5供應電解液3，並且可於形成於電鑄槽1上方之電解液3之溢流層10內進行電鑄。在電鑄過程中，以模板固定器30固定之匯流排25藉由模板輸送裝置20沿著溢流層10攜帶。從外槽2收集溢流出電鑄槽1之電解液3至控制槽5，並且經過濾之後再次供應至電鑄槽1。

简体摘要： 一种能够提供高精确度之电铸的电铸设备及电铸方法。容纳于外槽2内之电铸槽1可持续从控制槽5供应电解液3，并且可于形成于电铸槽1上方之电解液3之溢流层10内进行电铸。在电铸过程中，以模板固定器30固定之总线25借由模板输送设备20沿着溢流层10携带。从外槽2收集溢流出电铸槽1之电解液3至控制槽5，并且经过滤之后再次供应至电铸槽1。

公开(公告)号：TW201441426A

公开(公告)日：2014-11-01

申请号：TW103112896

申请日：2014-04-08

申请人： 周大福珠寶金行有限公司 ,  CHOW TAI FOOK JEWELLERY COMPANY LTD.

发明人： 黃桂騰 ,  WONG, KWAI-TANG ,  陳柏年 ,  CHAN, PAK-LIN ,  何冠寰 ,  HO, KOON-WAN

IPC分类号： C25D1/02

CPC分类号： B44C5/00 ,  C25D1/02 ,  C25D3/48

摘要： 一種具有傳統足金精緻美觀表面的特質而又具有非足金高硬度和剛度特質的全足金擺設件。具體而言，本發明藉通過以電鑄工藝打造成的一個全足金硬質殼體以提供軟質全足金外表層所需的支撐。由於軟質足金可以較易通過表面處理而達到具有多樣化的表面紋理，本發明的全足金擺設件可以具有精緻美觀及質感強的優勢，更是作為藝術鑑賞品或收藏品。

简体摘要： 一种具有传统足金精致美观表面的特质而又具有非足金高硬度和刚度特质的全足金摆设件。具体而言，本发明藉通过以电铸工艺打造成的一个全足金硬质壳体以提供软质全足金外表层所需的支撑。由于软质足金可以较易通过表面处理而达到具有多样化的表面纹理，本发明的全足金摆设件可以具有精致美观及质感强的优势，更是作为艺术鉴赏品或收藏品。

公开(公告)号：TWI302953B

公开(公告)日：2008-11-11

申请号：TW093131591

申请日：2004-10-18

申请人： 國立大學法人京都大學 KYOTO UNIVERSITY

发明人： 福中康博 YASUHIRO FUKUNAKA ,  小西陽子 YOKO KONISHI ,  本山宗主 MUNEKAZU MOTOYAMA ,  石井隆次 RYUJI ISHII

IPC分类号： C30B ,  B82B

CPC分类号： C25D1/10 ,  B82Y30/00 ,  C25D1/02

摘要： 本發明在於提供一種由鎳(Ni)或鐵(Fe)、鈷(Co)
等所構成之便宜且高品質的金屬奈米管。在具有貫通孔的
膜之一方的表面,形成厚度10-80nm之金屬薄膜做成陰
極,以電解液充滿陽極與陰極之間並施加電壓。使電解液
中的金屬離子在貫通孔壁面電化學地析出,形成金屬奈米
管。作為膜,可以採用聚碳酸酯(polycarbonate)膜等熱
可塑性樹脂多孔膜,或氧化鋁(alumina)多孔膜、鋁(Al)
之陽極氧化膜等,貫通孔的直徑在15-500nm較佳。此外,
前述金屬薄膜,可利用濺鍍(sputter)形成,由白金-鈀
(Pd)合金所構成較佳。

简体摘要： 本发明在于提供一种由镍(Ni)或铁(Fe)、钴(Co) 等所构成之便宜且高品质的金属奈米管。在具有贯通孔的 膜之一方的表面,形成厚度10-80nm之金属薄膜做成阴 极,以电解液充满阳极与阴极之间并施加电压。使电解液 中的金属离子在贯通孔壁面电化学地析出,形成金属奈米 管。作为膜,可以采用聚碳酸酯(polycarbonate)膜等热 可塑性树脂多孔膜,或氧化铝(alumina)多孔膜、铝(Al) 之阳极氧化膜等,贯通孔的直径在15-500nm较佳。此外, 前述金属薄膜,可利用溅镀(sputter)形成,由白金-钯 (Pd)合金所构成较佳。

公开(公告)号：TWI298647B

公开(公告)日：2008-07-11

申请号：TW095105816

申请日：2006-02-21

申请人： 陸士康股份有限公司 LUZCOM INC.

发明人： 市川裕 ICHIKAWA, YUTAKA ,  小島袈裟雄 KOJIMA, KESAO

IPC分类号： B05B ,  C25D

CPC分类号： C25D1/02 ,  B05B1/00

摘要： 本發明要提供一種超精細噴嘴及其製造方法,藉由將噴嘴前端內徑作細至30 ��� m以下,且將噴嘴的厚度作薄,能順暢地排出液體,能適用於醫療用或工業用的多樣的機器。
在芯線(43)實施特殊的電鑄處理(第一次的電鑄處理),使芯線(43)的一部分露出,形成了安裝著該芯線(43)的錐狀的電鑄管(41),並且,實施第二次的電鑄處理形成了第二電鑄管(44),然後,將芯線(43)與第一電鑄管(41)進行抽拉,製造出,使用內、外徑不同的電鑄管的一體型的超精細噴嘴,也可將該噴嘴的前端部進行錐狀加工,也可將內外鍍上金、銀、鈀等的金屬。

简体摘要： 本发明要提供一种超精细喷嘴及其制造方法,借由将喷嘴前端内径作细至30 ��� m以下,且将喷嘴的厚度作薄,能顺畅地排出液体,能适用于医疗用或工业用的多样的机器。 在芯线(43)实施特殊的电铸处理(第一次的电铸处理),使芯线(43)的一部分露出,形成了安装着该芯线(43)的锥状的电铸管(41),并且,实施第二次的电铸处理形成了第二电铸管(44),然后,将芯线(43)与第一电铸管(41)进行抽拉,制造出,使用内、外径不同的电铸管的一体型的超精细喷嘴,也可将该喷嘴的前端部进行锥状加工,也可将内外镀上金、银、钯等的金属。

公开(公告)号：TWI265215B

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：TW092101657

申请日：2003-01-27

申请人： 雪魯工業股份有限公司 SHERUKOGYO KABUSHIKI KAISHA

发明人： 荻中良雄 YOSHIO OGINAKA ,  庄司富士雄 FUJIO SHOJI

IPC分类号： C25D

CPC分类号： C25D1/02

摘要： 提供一種製造用來使複印精確度優異之表面粗糙度優異、耐腐蝕性亦高、一方面活用在利用鎳合金之電鑄加工中原有之特長，而且長足地提高硬度、耐摩耗性亦優異之澆口襯套之方法。
在利用電鑄加工之澆口襯套製造方法中，其特徵包括在具有與成形品之內面同一外型之陰模電極表面上，電解沈積由鎳合金層構成之第一電解沈積層，其次，從該第一電解沈積層表面析出由無電解鎳-磷合金層構成之第二無電解層，再者，從該第二無電解鎳-磷合金層之表面電解沈積由鎳合金構成之第三電解沈積層，從第一電解沈積層至第三電解沈積層之各層所電解沈積、析出之成形品剝離該陰模電極、淬火之後，加工成既定形狀尺寸之步驟。

简体摘要： 提供一种制造用来使复印精确度优异之表面粗糙度优异、耐腐蚀性亦高、一方面活用在利用镍合金之电铸加工中原有之特长，而且长足地提高硬度、耐摩耗性亦优异之浇口衬套之方法。 在利用电铸加工之浇口衬套制造方法中，其特征包括在具有与成形品之内面同一外型之阴模电极表面上，电解沉积由镍合金层构成之第一电解沉积层，其次，从该第一电解沉积层表面析出由无电解镍-磷合金层构成之第二无电解层，再者，从该第二无电解镍-磷合金层之表面电解沉积由镍合金构成之第三电解沉积层，从第一电解沉积层至第三电解沉积层之各层所电解沉积、析出之成形品剥离该阴模电极、淬火之后，加工成既定形状尺寸之步骤。

公开(公告)号：TWI341338B

公开(公告)日：2011-05-01

申请号：TW093107793

申请日：2004-03-23

申请人： 陸士康股份有限公司

发明人： 小田德治 ,  市川裕

IPC分类号： C25D

CPC分类号： C25D1/02 ,  C25D1/20 ,  Y10T428/13

摘要： 本發明提供一種具有細微內徑之電鑄管的製造方法及電鑄管。
上述電鑄管的製造方法，是利用電鑄在細線材(30)的外周形成電解沉澱物，並從電解沉澱物去除細線材(30)的電鑄管製造方法，其中上述的細線材(30)，是藉由對電解沉澱物加熱使其膨脹，或藉由冷卻細線材(30)使其收縮，而在細線材(30)與電解沉澱物之間形成間隙後，握持住細線材(30)並採用拉出、吸引、物理性推壓、及噴出液體或氣體加以推壓之其中任何一種方法予以去除。

简体摘要： 本发明提供一种具有细微内径之电铸管的制造方法及电铸管。 上述电铸管的制造方法，是利用电铸在细线材(30)的外周形成电解沉淀物，并从电解沉淀物去除细线材(30)的电铸管制造方法，其中上述的细线材(30)，是借由对电解沉淀物加热使其膨胀，或借由冷却细线材(30)使其收缩，而在细线材(30)与电解沉淀物之间形成间隙后，握持住细线材(30)并采用拉出、吸引、物理性推压、及喷出液体或气体加以推压之其中任何一种方法予以去除。

公开(公告)号：TW200641820A

公开(公告)日：2006-12-01

申请号：TW095102431

申请日：2006-01-23

申请人： 微連續公司 MICROCONTINUUM, INC.

发明人： 史丹尼 SLAFER, W. DENNIS

IPC分类号： G11B

CPC分类号： G11B7/263 ,  B29C33/3857 ,  B29C59/04 ,  B29L2031/757 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C25D1/02 ,  C25D1/10 ,  C25D3/04 ,  C25D3/12 ,  C25D3/46 ,  C25D3/48 ,  C25D5/02 ,  C25D5/022 ,  C25D7/04 ,  C25D17/02 ,  C25D17/04 ,  C25D17/06 ,  C25D17/12 ,  C25D21/02 ,  C25D21/06 ,  C25D21/10 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/24 ,  G11B7/26 ,  G11B7/261

摘要： 揭示用於在所欲媒體(例如光學記錄或資料儲存媒體)上複製無接縫浮雕圖案(seamless relief pattern)的可耐久無接縫複製工具(durable seamless replication tool)。所揭示之製造該可耐久複製工具的方法，包括在支撐圓筒的內表面上製備記錄基片，記錄及產生基片中的浮雕圖案，產生圖案的可耐久負浮雕複圖案，從處理室(processing cell)中取出所產生的可耐久工具套筒，並將工具套筒安裝於架設夾具上。揭示用於製造這類無接縫複製工具的裝置，包括用於在支撐圓筒之內表面上之感光層上記錄所欲浮雕圖案的系統。也揭示用於形成具有所欲浮雕圖案之可耐久工具套筒的電沈積室。複製工具浮雕特徵的臨界尺寸可降至微米及奈米的範圍。

简体摘要： 揭示用于在所欲媒体(例如光学记录或数据存储媒体)上复制无接缝浮雕图案(seamless relief pattern)的可耐久无接缝复制工具(durable seamless replication tool)。所揭示之制造该可耐久复制工具的方法，包括在支撑圆筒的内表面上制备记录基片，记录及产生基片中的浮雕图案，产生图案的可耐久负浮雕复图案，从处理室(processing cell)中取出所产生的可耐久工具套筒，并将工具套筒安装于架设夹具上。揭示用于制造这类无接缝复制工具的设备，包括用于在支撑圆筒之内表面上之感光层上记录所欲浮雕图案的系统。也揭示用于形成具有所欲浮雕图案之可耐久工具套筒的电沉积室。复制工具浮雕特征的临界尺寸可降至微米及奈米的范围。

公开(公告)号：TWI239359B

公开(公告)日：2005-09-11

申请号：TW088120661

申请日：1999-11-26

申请人： 田中鐵男 ,  金屬環股份有限公司 NIPPON FERRULE CO., LTD.

发明人： 田中鐵男 ,  岡本真一 SHINICHI OKAMOTO

IPC分类号： C25D ,  G02B

CPC分类号： G02B6/3833 ,  C25D1/02 ,  G02B6/3807 ,  G02B6/3825 ,  G02B6/3893

摘要： 本發明係關於一種光纖連結具(optics fiber connecter)及使用於該光纖連結具之套環(ferrule)以及該套環之製造方法，其係在電鑄浴50中，以泡浸在電鑄液3中之金屬線材9做為陰極而實行電鑄，以在鋁合金線材9之周圍用電極沉積法堆積鎳。然後，用鹼溶液從鎳電極沉積物溶出鋁合金線材9之結果，可得到形成有對應於線材9之貫穿孔之鎳圓筒。將圓筒切斷成預定之長度，以貫穿孔為基準而切削外周而得到套環。因套環之貫穿孔之內徑精度係以線材9之外徑精度決定的關係，不需要研磨貫穿孔。以簡單而低成本之製程可得到高精度之套環。因套環係以金屬製成的關係，極為容易實行PC接合光纖用之套環之PC研磨作業，可提供高性能之光纖連結具。

简体摘要： 本发明系关于一种光纤链接具(optics fiber connecter)及使用于该光纤链接具之套环(ferrule)以及该套环之制造方法，其系在电铸浴50中，以泡浸在电铸液3中之金属线材9做为阴极而实行电铸，以在铝合金线材9之周围用电极沉积法堆积镍。然后，用碱溶液从镍电极沉积物溶出铝合金线材9之结果，可得到形成有对应于线材9之贯穿孔之镍圆筒。将圆筒切断成预定之长度，以贯穿孔为基准而切削外周而得到套环。因套环之贯穿孔之内径精度系以线材9之外径精度决定的关系，不需要研磨贯穿孔。以简单而低成本之制程可得到高精度之套环。因套环系以金属制成的关系，极为容易实行PC接合光纤用之套环之PC研磨作业，可提供高性能之光纤链接具。