利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

6 条记录 (耗时 0.012 秒)

    OPTICAL ARTICLES AND METHODS OF MAKING SAME
    1.
    发明申请
    OPTICAL ARTICLES AND METHODS OF MAKING SAME 有权
    光学文章及其制作方法

    公开(公告)号：US20130084441A1

    公开(公告)日：2013-04-04

    申请号：US13248687

    申请日：2011-09-29

    申请人： Xiaoyue Huang ,  Lijuan Zou ,  Yongjun Zhao ,  Michael Kautzky

    发明人： Xiaoyue Huang ,  Lijuan Zou ,  Yongjun Zhao ,  Michael Kautzky

    IPC分类号： B32B7/02 ,  C23F1/00

    CPC分类号： G02B6/136 ,  G02B6/138 ,  G11B5/3163 ,  G11B2005/0021 ,  Y10T428/24942

    摘要： Disclosed herein is a method for fabricating an optical device that includes depositing an etch stop material to form an etch stop layer, wherein the etch stop material has a refractive index in the infrared wavelength range, n1; depositing a core material to form a core layer, wherein the core material has a refractive index in the infrared wavelength range, n2; and etching the core layer using a halide based etch process, wherein the etch stop material has an etch rate in the halide based etch process and the core material has an etch rate in the halide based etch process, wherein the etch rate of the core material is at least about five times higher than the etch rate of the etch stop material, and wherein n1 is not greater than n2.

    摘要翻译： 本文公开了一种制造光学器件的方法，其包括沉积蚀刻停止材料以形成蚀刻停止层，其中所述蚀刻停止材料具有红外波长范围内的折射率n1; 沉积芯材以形成芯层，其中所述芯材料具有红外波长范围内的折射率n2; 以及使用基于卤化物的蚀刻工艺蚀刻所述芯层，其中所述蚀刻停止材料在所述基于卤化物的蚀刻工艺中具有蚀刻速率，并且所述芯材料在所述基于卤化物的蚀刻工艺中具有蚀刻速率，其中所述芯材料的蚀刻速率 比蚀刻停止材料的蚀刻速率高至少约五倍，其中n1不大于n2。

    Write pole trailing edge partial side shield
    3.
    发明授权
    Write pole trailing edge partial side shield 有权
    写极后缘部分侧屏蔽

    公开(公告)号：US08339741B2

    公开(公告)日：2012-12-25

    申请号：US12489287

    申请日：2009-06-22

    申请人： Yifan Zhang ,  Mark T. Kief ,  Dion Song ,  Lijuan Zou ,  Charles E. Hawkinson

    发明人： Yifan Zhang ,  Mark T. Kief ,  Dion Song ,  Lijuan Zou ,  Charles E. Hawkinson

    IPC分类号： G11B5/33

    CPC分类号： G11B5/3116 ,  G11B5/1278

    摘要： A magnetic writer has at least a write pole with a first partial side shield and a second partial side shield. The write pole has a leading edge and a trailing edge along an air bearing surface (ABS) and a first side and a second side along an axis orthogonal to the ABS. The first partial side shield is separated from the first side of the write pole and extends from adjacent the write pole from the trailing edge to a location intermediate that trailing edge and the leading edge.

    摘要翻译： 磁性写入器至少具有带有第一部分侧面屏蔽和第二部分侧面屏蔽的写入极。 写入极具有沿着空气轴承表面（ABS）的前缘和后缘，以及沿着与ABS垂直的轴线的第一侧和第二侧。 第一部分侧面屏蔽与写入极的第一侧分离，并且从相邻的写入极从后缘延伸到中间到后缘和前沿的位置。

    SELF-ALIGNED, TRAILING EDGE PARTIAL SIDE SHIELD AND METHOD OF MAKING
    4.
    发明申请
    SELF-ALIGNED, TRAILING EDGE PARTIAL SIDE SHIELD AND METHOD OF MAKING 有权
    自对准，跟踪边缘部分边框和制作方法

    公开(公告)号：US20100321835A1

    公开(公告)日：2010-12-23

    申请号：US12489287

    申请日：2009-06-22

    申请人： Yifan Zhang ,  Mark T. Kief ,  Dion Song ,  Lijuan Zou ,  Charles E. Hawkinson

    发明人： Yifan Zhang ,  Mark T. Kief ,  Dion Song ,  Lijuan Zou ,  Charles E. Hawkinson

    IPC分类号： G11B5/33 ,  B44C1/22

    CPC分类号： G11B5/3116 ,  G11B5/1278

    摘要： A magnetic writer includes a write pole, a first partial shield and a second partial shield. The write pole has a leading edge, a trailing edge, a first side and a second side. The first partial side shield is located on the first side of the write pole, and the second partial side shield is located on the second side of the write pole. The first partial side shield and the second partial side shield extend along side of the write pole from the trailing edge to a location intermediate that trailing edge and the leading edge so that the first partial side shield and the second partial side shield do not shield the leading edge.

    摘要翻译： 磁性写入器包括写入极，第一部分屏蔽和第二部分屏蔽。 写极具有前缘，后缘，第一侧和第二侧。 第一部分侧面屏蔽位于写入极的第一侧上，第二部分侧面屏蔽位于写入极的第二侧。 第一部分侧面屏蔽和第二部分侧面屏蔽沿写入磁极的一侧从后缘延伸到中间到后缘和前缘的位置，使得第一部分侧屏蔽和第二部分侧屏蔽不屏蔽 前沿。

    Optical articles and methods of making same
    5.
    发明授权
    Optical articles and methods of making same 有权
    光学制品及其制作方法

    公开(公告)号：US09297959B2

    公开(公告)日：2016-03-29

    申请号：US13248687

    申请日：2011-09-29

    申请人： Xiaoyue Huang ,  Lijuan Zou ,  Yongjun Zhao ,  Michael Kautzky

    发明人： Xiaoyue Huang ,  Lijuan Zou ,  Yongjun Zhao ,  Michael Kautzky

    IPC分类号： G02B6/136 ,  G02B6/138 ,  G11B5/31 ,  G11B5/00

    CPC分类号： G02B6/136 ,  G02B6/138 ,  G11B5/3163 ,  G11B2005/0021 ,  Y10T428/24942

    摘要： Disclosed herein is a method for fabricating an optical device that includes depositing an etch stop material to form an etch stop layer, wherein the etch stop material has a refractive index in the infrared wavelength range, n1; depositing a core material to form a core layer, wherein the core material has a refractive index in the infrared wavelength range, n2; and etching the core layer using a halide based etch process, wherein the etch stop material has an etch rate in the halide based etch process and the core material has an etch rate in the halide based etch process, wherein the etch rate of the core material is at least about five times higher than the etch rate of the etch stop material, and wherein n1 is not greater than n2.

    摘要翻译： 本文公开了一种制造光学器件的方法，其包括沉积蚀刻停止材料以形成蚀刻停止层，其中所述蚀刻停止材料具有红外波长范围内的折射率n1; 沉积芯材以形成芯层，其中所述芯材料具有红外波长范围内的折射率n2; 以及使用基于卤化物的蚀刻工艺蚀刻所述芯层，其中所述蚀刻停止材料在所述基于卤化物的蚀刻工艺中具有蚀刻速率，并且所述芯材料在所述基于卤化物的蚀刻工艺中具有蚀刻速率，其中所述芯材料的蚀刻速率 比蚀刻停止材料的蚀刻速率高至少约五倍，其中n1不大于n2。