公开(公告)号：US20090279063A1

公开(公告)日：2009-11-12

申请号：US12437466

申请日：2009-05-07

申请人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Arnold Jan Van Putten

发明人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Arnold Jan Van Putten

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916

摘要： An immersion lithographic apparatus is described in which a liquid removal device is arranged to remove liquid from the substrate, e.g. during exposures, through a plurality of elongate slots arranged along a line and angled to that line. The liquid removal device may act as a meniscus pinning device in an immersion hood or may be used in a drying device to remove a droplet from the substrate.

摘要翻译： 描述了一种浸没式光刻设备，其中液体去除装置被布置成从基板除去液体，例如， 在曝光期间，通过沿着一条线布置并与该线成角度的多个细长槽。 液体移除装置可以用作浸没罩中的弯月面钉扎装置，或者可以用于干燥装置中以从基底去除液滴。

公开(公告)号：US08345218B2

公开(公告)日：2013-01-01

申请号：US12437466

申请日：2009-05-07

申请人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Arnold Jan Van Putten

发明人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Arnold Jan Van Putten

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916

摘要： An immersion lithographic apparatus is described in which a liquid removal device is arranged to remove liquid from the substrate, e.g. during exposures, through a plurality of elongate slots arranged along a line and angled to that line. The liquid removal device may act as a meniscus pinning device in an immersion hood or may be used in a drying device to remove a droplet from the substrate.

摘要翻译： 描述了一种浸没式光刻设备，其中液体去除装置被布置成从基板除去液体，例如， 在曝光期间，通过沿着一条线布置并与该线成角度的多个细长槽。 液体移除装置可以用作浸没罩中的弯月面钉扎装置，或者可以用于干燥装置中以从基底去除液滴。

公开(公告)号：US08421993B2

公开(公告)日：2013-04-16

申请号：US12437433

申请日：2009-05-07

申请人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Clemens Johannes Gerardus Van Den Dungen ,  Maikel Adrianus Cornelis Schepers ,  Paul Petrus Joannes Berkvens ,  Koen Steffens ,  Arnold Jan Van Putten

发明人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Clemens Johannes Gerardus Van Den Dungen ,  Maikel Adrianus Cornelis Schepers ,  Paul Petrus Joannes Berkvens ,  Koen Steffens ,  Arnold Jan Van Putten

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341

摘要： A fluid handling structure is disclosed in which the size and arrangement of the fluid extraction openings is specified in order to reduce the vibrations which are transmitted to the fluid handling structure as a result of two-phase extraction. The area of each fluid extraction opening and/or the total area of all of the fluid extraction openings and/or the space in between neighboring fluid extraction openings may be controlled. The reduction in vibrations increases the accuracy of the exposure.

摘要翻译： 公开了一种流体处理结构，其中指定了流体提取开口的尺寸和布置，以便减少由于两相抽取而被传送到流体处理结构的振动。 可以控制每个流体提取开口的面积和/或所有流体提取开口的总面积和/或相邻流体提取开口之间的空间。 振动的减少增加了曝光的准确性。

公开(公告)号：US08351018B2

公开(公告)日：2013-01-08

申请号：US12436626

申请日：2009-05-06

申请人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Clemens Johannes Gerardus Van Den Dungen ,  Koen Steffens ,  Arnold Jan Van Putten

发明人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Clemens Johannes Gerardus Van Den Dungen ,  Koen Steffens ,  Arnold Jan Van Putten

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  Y10T29/49401 ,  Y10T137/8593

摘要： A fluid handling structure is disclosed in which measures are taken to increase the speed at which meniscus breakdown occurs. Measures include the shape of a plurality of fluid extraction openings and the shape and density of a plurality of fluid supply openings in the fluid handling structure.

摘要翻译： 公开了一种流体处理结构，其中采取措施来提高发生弯月面破裂的速度。 措施包括多个流体提取开口的形状以及流体处理结构中的多个流体供应开口的形状和密度。