公开(公告)号：US20090279063A1

公开(公告)日：2009-11-12

申请号：US12437466

申请日：2009-05-07

申请人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Arnold Jan Van Putten

发明人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Arnold Jan Van Putten

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916

摘要： An immersion lithographic apparatus is described in which a liquid removal device is arranged to remove liquid from the substrate, e.g. during exposures, through a plurality of elongate slots arranged along a line and angled to that line. The liquid removal device may act as a meniscus pinning device in an immersion hood or may be used in a drying device to remove a droplet from the substrate.

摘要翻译： 描述了一种浸没式光刻设备，其中液体去除装置被布置成从基板除去液体，例如， 在曝光期间，通过沿着一条线布置并与该线成角度的多个细长槽。 液体移除装置可以用作浸没罩中的弯月面钉扎装置，或者可以用于干燥装置中以从基底去除液滴。

公开(公告)号：US08345218B2

公开(公告)日：2013-01-01

申请号：US12437466

申请日：2009-05-07

申请人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Arnold Jan Van Putten

发明人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Arnold Jan Van Putten

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916

摘要： An immersion lithographic apparatus is described in which a liquid removal device is arranged to remove liquid from the substrate, e.g. during exposures, through a plurality of elongate slots arranged along a line and angled to that line. The liquid removal device may act as a meniscus pinning device in an immersion hood or may be used in a drying device to remove a droplet from the substrate.

摘要翻译： 描述了一种浸没式光刻设备，其中液体去除装置被布置成从基板除去液体，例如， 在曝光期间，通过沿着一条线布置并与该线成角度的多个细长槽。 液体移除装置可以用作浸没罩中的弯月面钉扎装置，或者可以用于干燥装置中以从基底去除液滴。

公开(公告)号：US09383654B2

公开(公告)日：2016-07-05

申请号：US12506565

申请日：2009-07-21

申请人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Michel Riepen ,  Clemens Johannes Gerardus Van Den Dungen ,  Adrianes Johannes Baeten ,  Fabrizio Evangelista

发明人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Michel Riepen ,  Clemens Johannes Gerardus Van Den Dungen ,  Adrianes Johannes Baeten ,  Fabrizio Evangelista

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70991

摘要： A fluid handling structure for a lithographic apparatus is disclosed. The fluid handling structure has a plurality of openings arranged in plan, in a line. The fluid handling structure is configured such that the openings are directed, in use, towards a facing surface, the facing surface being a substrate and/or a substrate table. The substrate table is configured to support the substrate. Outward of the line of openings is a damper. The damper may have a width that varies along the line of openings. The damper width is defined between the line of openings and an opposing damper edge.

摘要翻译： 公开了一种用于光刻设备的流体处理结构。 流体处理结构具有以平面方式排成一行的多个开口。 流体处理结构被配置为使得开口在使用中朝向相对表面定向，面对表面是基底和/或基底台。 衬底台被配置为支撑衬底。 开口线的外侧是阻尼器。 阻尼器可以具有沿着开口线变化的宽度。 阻尼器宽度限定在开口线和相对的阻尼器边缘之间。

公开(公告)号：US20100085545A1

公开(公告)日：2010-04-08

申请号：US12506565

申请日：2009-07-21

申请人： Daniel Jozef Maria DIRECKS ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Michel Riepen ,  Clemens Johannes Gerardus Van Den Dungen ,  Adrianes Johannes Baeten ,  Fabrizio Evangelista

发明人： Daniel Jozef Maria DIRECKS ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Michel Riepen ,  Clemens Johannes Gerardus Van Den Dungen ,  Adrianes Johannes Baeten ,  Fabrizio Evangelista

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70991

摘要： A fluid handling structure for a lithographic apparatus is disclosed. The fluid handling structure has a plurality of openings arranged in plan, in a line. The fluid handling structure is configured such that the openings are directed, in use, towards a facing surface, the facing surface being a substrate and/or a substrate table. The substrate table is configured to support the substrate. Outward of the line of openings is a damper. The damper may have a width that varies along the line of openings. The damper width is defined between the line of openings and an opposing damper edge.

摘要翻译： 公开了一种用于光刻设备的流体处理结构。 流体处理结构具有以平面方式排成一行的多个开口。 流体处理结构被配置为使得开口在使用中朝向相对表面定向，面对表面是基底和/或基底台。 衬底台被配置为支撑衬底。 开口线的外侧是阻尼器。 阻尼器可以具有沿着开口线变化的宽度。 阻尼器宽度限定在开口线和相对的阻尼器边缘之间。

公开(公告)号：US20090237632A1

公开(公告)日：2009-09-24

申请号：US12408392

申请日：2009-03-20

申请人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Ronald Van Der Ham ,  Wilhelmus Franciscus Johannes Simons ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens ,  Han Henricus Aldegonda Lempens ,  Marcus Johannes Van Der Zanden ,  Pieter Mulder

发明人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Ronald Van Der Ham ,  Wilhelmus Franciscus Johannes Simons ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens ,  Han Henricus Aldegonda Lempens ,  Marcus Johannes Van Der Zanden ,  Pieter Mulder

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341

摘要： An immersion lithographic apparatus is described in which a droplet removal device removes droplets from the substrate, e.g. during exposures, using an angled flow of gas from a gas knife.

摘要翻译： 描述了一种浸没式光刻设备，其中液滴去除装置从基板去除液滴。 在曝光期间，使用来自气刀的倾斜流动的气体。

公开(公告)号：US08368868B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。

公开(公告)号：US20100159399A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。

公开(公告)号：US08259283B2

公开(公告)日：2012-09-04

申请号：US12408392

申请日：2009-03-20

申请人： Daniël Jozef Maria Direcks ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Ronald Van Der Ham ,  Wilhelmus Franciscus Johannes Simons ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens ,  Han Henricus Aldegonda Lempens ,  Marcus Johannes Van Der Zanden ,  Pieter Mulder

发明人： Daniël Jozef Maria Direcks ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Ronald Van Der Ham ,  Wilhelmus Franciscus Johannes Simons ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens ,  Han Henricus Aldegonda Lempens ,  Marcus Johannes Van Der Zanden ,  Pieter Mulder

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341

摘要： An immersion lithographic apparatus is described in which a droplet removal device removes droplets from the substrate, e.g. during exposures, using an angled flow of gas from a gas knife.

摘要翻译： 描述了一种浸没式光刻设备，其中液滴去除装置从基板去除液滴。 在曝光期间，使用来自气刀的倾斜流动的气体。

公开(公告)号：US09176393B2

公开(公告)日：2015-11-03

申请号：US12472099

申请日：2009-05-26

申请人： Christian Gerardus Norbertus Hendricus Marie Cloin ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Marco Koert Stavenga ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Michel Riepen ,  Olga Vladimirovna Elisseeva ,  Tijmen Wilfred Mathijs Gunther ,  Michaël Christiaan Van Der Wekken

发明人： Christian Gerardus Norbertus Hendricus Marie Cloin ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Marco Koert Stavenga ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Michel Riepen ,  Olga Vladimirovna Elisseeva ,  Tijmen Wilfred Mathijs Gunther ,  Michaël Christiaan Van Der Wekken

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed that includes a table, a shutter member, a fluid handling structure, and a fluid extraction system. The fluid handling structure may be configured to supply and confine liquid between a projection system and (i) a substrate, or (ii) the table, or (iii) a surface of the shutter member, or (iv) a combination selected from (i)-(iii). The surface of the shutter member may adjoin and be co-planar with a surface of the table. The surfaces of the shutter member and the table may be spaced apart by a gap. The fluid extraction system may be configured to remove liquid from the gap.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置，其包括工作台，活门构件，流体处理结构和流体抽出系统。 流体处理结构可以被配置为在投影系统和（i）基板之间供应和限制液体，或者（ii）工作台，或（iii）活门构件的表面，或者（iv）选自（ i） - （iii）。 活门构件的表面可以与桌子的表面邻接并且共面。 活门构件和桌子的表面可以间隔开间隙。 流体提取系统可以构造成从间隙去除液体。

公开(公告)号：US08654309B2

公开(公告)日：2014-02-18

申请号：US12634242

申请日：2009-12-09

申请人： Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robertus Nicodemus Jacobus Van Ballegoij ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Michel Riepen ,  Martinus Wilhelmus Van Den Heuvel ,  Paul Petrus Joannes Berkvens ,  Christophe De Metsenaere ,  Jimmy Matheus Wilhelmus Van De Winkel ,  Cornelius Maria Rops

发明人： Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robertus Nicodemus Jacobus Van Ballegoij ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Michel Riepen ,  Martinus Wilhelmus Van Den Heuvel ,  Paul Petrus Joannes Berkvens ,  Christophe De Metsenaere ,  Jimmy Matheus Wilhelmus Van De Winkel ,  Cornelius Maria Rops

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/32 ,  G03F7/20 ,  F01N1/02

CPC分类号： G03F7/70341 ,  F01N1/023 ,  G03F7/709

摘要： An immersion lithographic apparatus typically includes a fluid handling system. The fluid handling system generally has a two-phase fluid extraction system configured to remove a mixture of gas and liquid from a given location. Because the extraction fluid comprises two phases, the pressure in the extraction system can vary. This pressure variation can be passed through the immersion liquid and cause inaccuracy in the exposure. To reduce the pressure fluctuation in the extraction system, a buffer chamber may be used. This buffer chamber may be connected to the fluid extraction system in order to provide a volume of gas which reduces pressure fluctuation. Alternatively or additionally, a flexible wall may be provided somewhere in the fluid extraction system. The flexible wall may change shape in response to a pressure change in the fluid extraction system. By changing shape, the flexible wall can help to reduce, or eliminate, the pressure fluctuation.

摘要翻译： 浸没式光刻设备通常包括流体处理系统。 流体处理系统通常具有配置成从给定位置去除气体和液体的混合物的两相流体萃取系统。 因为提取液包含两相，所以提取系统中的压力可以变化。 该压力变化可以通过浸没液体并导致曝光不准确。 为了减少提取系统中的压力波动，可以使用缓冲室。 该缓冲室可以连接到流体提取系统，以便提供减小压力波动的一定体积的气体。 或者或另外，柔性壁可以设置在流体提取系统的某处。 响应于流体提取系统中的压力变化，柔性壁可以改变形状。 通过改变形状，柔性壁可以帮助减少或消除压力波动。