公开(公告)号：US20150241774A1

公开(公告)日：2015-08-27

申请号：US14525684

申请日：2014-10-28

Applicant: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

Inventor： Jeong-Won KIM ,  Jin-Ho JU ,  Dong-Min KIM ,  Seung-Ki KIM ,  Kwang-Woo PARK ,  Sun-Mi HAHM

IPC: G03F7/038 ,  H01L29/66 ,  H01L27/12 ,  H01L21/467

CPC classification number: H01L27/127 ,  G03F7/0236 ,  H01L27/1225 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/66969 ,  H01L29/7869

Abstract: A photoresist composition may include a novolak resin, a diazide-based photo-sensitizer, and a solvent. The novolak resin may be prepared by a condensation reaction of a monomer mixture including a cresol mixture, xylenol, and salicylaldehyde. Methods of manufacturing a display substrate using the photoresist composition are also provided.

Abstract translation: 光致抗蚀剂组合物可以包括酚醛清漆树脂，二叠氮基光敏剂和溶剂。 酚醛清漆树脂可以通过包括甲酚混合物，二甲苯酚和水杨醛的单体混合物的缩合反应来制备。 还提供了使用光致抗蚀剂组合物制造显示基板的方法。