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1.发明授权Manufacturing method of reflective polarizer plate and display device including the same 有权反射偏振板的制造方法及包括其的显示装置公开(公告)号：US09400346B2
公开(公告)日：2016-07-26
申请号：US14572937
申请日：2014-12-17
Applicant: Samsung Display Co., Ltd.
Inventor： Tae-Woo Kim , Cheol-Kyu Kim , Min Kang , Min-Hyuck Kang , Bong-Yeon Kim , Seung-Won Park , Moon-Gyu Lee
CPC classification number: G02B5/3058 , B82Y20/00 , G02B5/3041 , Y10S977/762
Abstract: A display device includes a reflective polarizer plate including a first substrate defining an opening area and a non-opening area, and a wire grid polarizer which is disposed on a surface of the first substrate and includes a polarizing part including a plurality of nano wire patterns which is arranged in the opening area to be spaced apart from each other, and a reflecting part including a metal film provided in the non-opening area.
Abstract translation: 一种显示装置，包括：反射偏振板，包括限定开口区域和非开口区域的第一基板;以及线栅偏振器，其设置在所述第一基板的表面上，并且包括偏振部件，所述偏振部件包括多个纳米线图案 其布置在彼此间隔开的开口区域中，以及反射部分，其包括设置在非开口区域中的金属膜。
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2.发明申请IMPRINT LITHOGRAPHY METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MASTER TEMPLATE USING THE METHOD, AND MASTER TEMPLATE MANUFACTURED BY THE METHOD 审中-公开显影方法，使用该方法制造主模板的方法，以及通过该方法制造的主模板公开(公告)号：US20160288373A1
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：US14881909
申请日：2015-10-13
Applicant: Samsung Display Co., Ltd.
Inventor： Tae-Woo Kim , Jung-Gun Nam , Min-Hyuck Kang , Dae-Young Lee , Gug-Rae Jo
CPC classification number: B29C33/3842 , B29K2995/0027 , G03F7/0002
Abstract: An imprint lithography method includes providing a substrate, forming a first imprint pattern, forming a first resist pattern, etching an object, removing the first resist pattern, forming a second imprint pattern, forming a second resist pattern, etching the object and removing the second resist pattern. The substrate includes a first area, a second area, a third area, and a fourth area. The first imprint pattern is formed on the base substrate in the first and third area. The first resist pattern is formed configured to cover the second area on the base substrate on which the first imprint pattern is formed. The second imprint pattern is formed on the base substrate in the second and fourth areas. The second resist pattern is formed configured to cover the first area on the base substrate on which the second imprint pattern.
Abstract translation: 压印光刻方法包括提供基板，形成第一印记图案，形成第一抗蚀剂图案，蚀刻物体，去除第一抗蚀剂图案，形成第二印记图案，形成第二抗蚀剂图案，蚀刻物体， 抗蚀图案 基板包括第一区域，第二区域，第三区域和第四区域。 第一印记图案形成在第一和第三区域的基底基板上。 第一抗蚀剂图案被形成为覆盖形成有第一印记图案的基底基板上的第二区域。 第二印记图案形成在第二和第四区域的基底基板上。 第二抗蚀剂图案被形成为覆盖在其上具有第二印记图案的基底基板上的第一区域。
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3.发明授权Method of manufacturing nanostructure and method of forming pattern using the same 有权制造纳米结构的方法和使用其形成图案的方法公开(公告)号：US09074055B2
公开(公告)日：2015-07-07
申请号：US13870473
申请日：2013-04-25
Inventor： Eun-Ae Kwak , Min-Hyuck Kang , Su Mi Lee , Jun Han Lee , Moon Gyu Lee , Joona Bang , Hyun Jung Jung
CPC classification number: C08J7/04 , G03F7/0002 , G03F7/26
Abstract: An approach is provided for manufacturing a nanostructure. A first thin film including a first block copolymer is formed on a substrate. A guide pattern is formed on the first thin film. A second thin film including a second block copolymer is formed between portions of the guide pattern. The second thin film is cured. The first block copolymer is a cylinder-type and the second block copolymer is a lamella-type.
Abstract translation: 提供了制造纳米结构的方法。 在基板上形成包含第一嵌段共聚物的第一薄膜。 在第一薄膜上形成引导图案。 在引导图案的各部分之间形成包括第二嵌段共聚物的第二薄膜。 第二薄膜固化。 第一嵌段共聚物是圆筒型，第二嵌段共聚物是薄片型。
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4.发明申请METHOD OF MANUFACTURING NANOSTRUCTURE AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME 有权制造纳米结构的方法及其形成图案的方法公开(公告)号：US20140158664A1
公开(公告)日：2014-06-12
申请号：US13870473
申请日：2013-04-25
Inventor： Eun-Ae Kwak , Min-Hyuck Kang , Su Mi Lee , Jun Han Lee , Moon Gyu Lee , Joona Bang , Hyun Jung Jung
IPC: C08J7/04
CPC classification number: C08J7/04 , G03F7/0002 , G03F7/26
Abstract: An approach is provided for manufacturing a nanostructure. A first thin film including a first block copolymer is formed on a substrate. A guide pattern is formed on the first thin film. A second thin film including a second block copolymer is formed between portions of the guide pattern. The second thin film is cured. The first block copolymer is a cylinder-type and the second block copolymer is a lamella-type.
Abstract translation: 提供了制造纳米结构的方法。 在基板上形成包含第一嵌段共聚物的第一薄膜。 在第一薄膜上形成引导图案。 在引导图案的各部分之间形成包括第二嵌段共聚物的第二薄膜。 第二薄膜固化。 第一嵌段共聚物是圆筒型，第二嵌段共聚物是薄片型。
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