公开(公告)号：US06041099A

公开(公告)日：2000-03-21

申请号：US26385

申请日：1998-02-19

申请人： George Gutman ,  Licai Jiang ,  Boris Verman

发明人： George Gutman ,  Licai Jiang ,  Boris Verman

IPC分类号： G02B17/00 ,  G21K1/06

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G21K1/06 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/064

摘要： An x-ray reflecting system comprising a Kirkpatrick-Baez side-by-side optic in a single corner configuration having multi-layer Bragg x-ray reflective surfaces.

摘要翻译： 包括具有多层布拉格x射线反射表面的单角配置的Kirkpatrick-Baez并排光学器件的x射线反射系统。

公开(公告)号：US08488743B2

公开(公告)日：2013-07-16

申请号：US13491705

申请日：2012-06-08

申请人： Boris Verman

发明人： Boris Verman

IPC分类号： G21K1/00

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/061

摘要： A nanotube based device for guiding a beam of x-rays, photons, or neutrons, includes a beam source and at least one nanotube. Each nanotube has an optical entrance positioned in a manner that a projection of the direction of the central axis at the optical entrance intersects with the beam source. Each nanotube may have an interior diameter that varies along the length of the nanotube. to point the entrances of a bundle of nanotubes toward a point-shaped beam source, the bundle can be grown as an array of multilayer nanotubes from a spherical growth plate. The clear aperture of the bundle is enhanced by providing a smaller number of wall layers of each nanotube near the growth plate than at a distance from the growth plate.

摘要翻译： 用于引导X射线，光子或中子束的基于纳米管的装置包括束源和至少一个纳米管。 每个纳米管具有以使得在光学入口处的中心轴的方向的投影与光束源相交的方式定位的光学入口。 每个纳米管可具有沿纳米管长度变化的内径。 为了将一束纳米管的入口指向点状束源，该束可以从球形生长板作为多层纳米管的阵列生长。 通过在生长板附近提供比与生长板相距一定距离的每个纳米管的较小数量的壁层来增强束的透明孔。

公开(公告)号：US20120051518A1

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：US13266842

申请日：2010-04-14

申请人： Kazuhiko Omote ,  Boris Verman ,  Licai Jiang

发明人： Kazuhiko Omote ,  Boris Verman ,  Licai Jiang

IPC分类号： G01N23/201

CPC分类号： G21K1/06 ,  G01N23/201

摘要： A X-ray scattering measurement device and measurement method can measure, with high resolution, the intensity of X-rays which have undergone small-angle scattering and diffraction with reflection geometry and can easily and accurately measure a microstructure on the surface of a sample. The X-ray scattering measurement device is suitable for microstructural measurement on the surface of a sample includes an X-ray source that generates an X-ray; a first mirror and a second mirror that continuously reflect the generated X-ray; a sample stage that supports the sample; and a two-dimensional detector that detects the X-ray scattered on the surface of the sample. The first mirror focuses the generated X-ray onto the two-dimensional detector within a plane parallel to the surface of the sample, and the second mirror focuses the X-ray reflected by the first mirror onto the surface of the sample within a plane perpendicular to the surface of the sample.

摘要翻译： X射线散射测量装置和测量方法可以以高分辨率测量已经经历小角度散射和具有反射几何形状的衍射的X射线的强度，并且可以容易且精确地测量样品表面上的微结构。 X射线散射测量装置适用于样品表面的微结构测量，包括产生X射线的X射线源; 连续地反映所产生的X射线的第一镜和第二镜; 支持样品的样品台; 以及检测在样品表面上散射的X射线的二维检测器。 第一个镜子将生成的X射线聚焦到平行于样品表面的平面内的二维检测器上，而第二反射镜将由第一反射镜反射的X射线在垂直的平面内的样品表面上聚焦 到样品表面。

公开(公告)号：US20110317814A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：US12823503

申请日：2010-06-25

申请人： BORIS VERMAN

发明人： BORIS VERMAN

IPC分类号： G21K1/06

CPC分类号： G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K1/04 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

摘要： An x-ray optical system includes a multiple corner optic assembly including an adjustable aperture assembly located in close proximity to the optic assembly. The adjustable aperture assembly enables a user to easily and effectively adjust the convergence of an incident beam of x-rays or the optic focal spot size. The adjustable aperture assembly may further enable a user to condition x-rays of one wavelength and block x-rays of another wavelength and thereby reduce the amount of background radiation exhibited from x-rays of more than one wavelength.

摘要翻译： X射线光学系统包括多角度光学组件，其包括位于光学组件附近的可调节光圈组件。 可调孔径组件使得用户能够容易且有效地调整入射光束的X射线或光焦点尺寸的会聚。 可调整孔径组件还可以使用户能够调节一个波长的x射线并阻挡另一个波长的X射线，从而减少从多于一个波长的X射线显示的背景辐射的量。

公开(公告)号：US20110280530A1

公开(公告)日：2011-11-17

申请号：US13051708

申请日：2011-03-18

申请人： Boris Verman ,  Licai Jiang

发明人： Boris Verman ,  Licai Jiang

IPC分类号： G02B6/04 ,  B82Y20/00

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061

摘要： An x-ray generating system includes a source of x-ray radiation, a waveguide bundle optic for collimating the x-ray radiation produced by the source, a focusing optic for focusing the collimated x-ray radiation to a focal point.

摘要翻译： X射线产生系统包括X射线辐射源，用于准直由源产生的x射线辐射的波导束光学器件，用于将准直X射线辐射聚焦到焦点的聚焦光学器件。

公开(公告)号：US20110188636A1

公开(公告)日：2011-08-04

申请号：US12699493

申请日：2010-02-03

申请人： Boris Verman ,  Michael Young ,  Licai Jiang

发明人： Boris Verman ,  Michael Young ,  Licai Jiang

IPC分类号： H01J35/04 ,  G21K1/00 ,  H01J35/30 ,  G21K1/02

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

摘要： A multi-beam x-ray system includes an x-ray source which emits x-rays and a housing with a first part and a second part. The second part is moveable relative to the first part and includes a plurality of optics of different performance characteristics. Each optic, through the movement of the second part relative to the first part, is positioned to a working position so that the optic receives the x-rays from the x-ray source and directs the x-rays with the desired performance attributes to a desired location.

摘要翻译： 多光束X射线系统包括发射x射线的X射线源和具有第一部分和第二部分的壳体。 第二部分可相对于第一部分移动，并且包括具有不同性能特征的多个光学元件。 每个光学元件通过第二部分相对于第一部分的移动被定位到工作位置，使得光学器件接收来自x射线源的x射线，并将具有所需性能属性的x射线引导到 理想位置。

公开(公告)号：US20090279670A1

公开(公告)日：2009-11-12

申请号：US12421907

申请日：2009-04-10

申请人： Boris Verman ,  Licai Jiang

发明人： Boris Verman ,  Licai Jiang

IPC分类号： G21K1/00

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061

摘要： An x-ray generating system includes a source of x-ray radiation, a waveguide bundle optic for collimating the x-ray radiation produced by the source, a focusing optic for focusing the collimated x-ray radiation to a focal point.

摘要翻译： X射线产生系统包括X射线辐射源，用于准直由源产生的x射线辐射的波导束光学器件，用于将准直X射线辐射聚焦到焦点的聚焦光学器件。

公开(公告)号：US07280634B2

公开(公告)日：2007-10-09

申请号：US11449208

申请日：2006-06-08

申请人： Boris Verman ,  Jimpei Harada

发明人： Boris Verman ,  Jimpei Harada

IPC分类号： G21K1/06

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

摘要： An x-ray beam conditioning system with a first diffractive element and a second diffractive element. The two diffractive elements are arranged in a sequential configuration, and one of the diffractive elements is a crystal. The other diffractive element may be a multilayer optic.

摘要翻译： 一种具有第一衍射元件和第二衍射元件的X射线束调节系统。 两个衍射元件按顺序配置，其中一个衍射元件是晶体。 另一个衍射元件可以是多层光学元件。

公开(公告)号：US06643353B2

公开(公告)日：2003-11-04

申请号：US10043817

申请日：2002-01-10

申请人： Boris Verman ,  Karsten Joensen ,  Yuriy Platonov ,  Srivatsan Seshardi

发明人： Boris Verman ,  Karsten Joensen ,  Yuriy Platonov ,  Srivatsan Seshardi

IPC分类号： G21K106

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G21K1/062

摘要： An optical element for diffracting x-rays that includes a substrate, a diffraction structure applied to the substrate, the diffraction structure including an exterior surface facing away from the substrate and the diffraction structure capable of diffracting x-rays and a protective layer applied to the exterior surface.

摘要翻译： 一种用于衍射X射线的光学元件，包括衬底，施加到衬底的衍射结构，衍射结构包括背离衬底的外表面和能够衍射X射线的衍射结构和施加到衬底的保护层 外表面。

公开(公告)号：US06389100B1

公开(公告)日：2002-05-14

申请号：US09289493

申请日：1999-04-09

申请人： Boris Verman ,  Licai Jiang ,  Bonglea Kim ,  Karsten Dan Joensen

发明人： Boris Verman ,  Licai Jiang ,  Bonglea Kim ,  Karsten Dan Joensen

IPC分类号： G21K106

CPC分类号： G21K1/06 ,  A61N2005/1091 ,  A61N2005/1095

摘要： A modular x-ray lens system for use in directing x-rays comprising a radiation source which generates x-rays and a lens system which directs the x-rays, wherein the x-ray lens system may be configured to focus x-rays to a focal point and vary the intensity of said focal point.

摘要翻译： 一种用于引导x射线的模块化X射线透镜系统，包括产生x射线的辐射源和引导x射线的透镜系统，其中x射线透镜系统可被配置为将x射线聚焦到 焦点并改变所述焦点的强度。