公开(公告)号：US08249220B2

公开(公告)日：2012-08-21

申请号：US12578667

申请日：2009-10-14

申请人： Boris Verman ,  Yuriy Platonov ,  Licai Jiang

发明人： Boris Verman ,  Yuriy Platonov ,  Licai Jiang

IPC分类号： G21K1/02

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

摘要： An x-ray optical system includes an x-ray source which emits x-rays, a first optical element which conditions the x-rays to form two beams and at least a second optical element which further conditions at least one of the two beams from the first optical element.

摘要翻译： X射线光学系统包括发射x射线的X射线源，调节X射线以形成两个光束的第一光学元件和至少另外将来自两个光束中的至少一个的条件的第二光学元件 第一光学元件。

公开(公告)号：US09336917B2

公开(公告)日：2016-05-10

申请号：US13142787

申请日：2010-06-30

申请人： Tetsuya Ozawa ,  Ryuji Matsuo ,  Licai Jiang ,  Boris Verman ,  Kazuhiko Omote

发明人： Tetsuya Ozawa ,  Ryuji Matsuo ,  Licai Jiang ,  Boris Verman ,  Kazuhiko Omote

IPC分类号： G21K1/06 ,  G01J3/12 ,  B82Y10/00

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G01J3/12 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/064 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/1516

摘要： An X-ray apparatus that creates a virtual source having a narrow energy bandwidth and enables a high-resolution X-ray diffraction measurement; a method of using the same; and an X-ray irradiation method are provided. An X-ray apparatus 100 includes a monochromator 105 that focuses a divergent X-ray beam while dispersing it and a selection part 107 that is installed in a condensing position of the condensed X-ray beam for selecting an X-ray beam having a wavelength in a specific range, allowing it to pass through, and creating a virtual source. With this arrangement, it is possible to create a virtual source having a narrow energy bandwidth at a focal point 110 and by means of the virtual source a high-resolution X-ray diffraction measurement is available. By using the X-ray apparatus 100, it is possible to sufficiently separate an X-ray beam having such an extremely narrow energy bandwidth as, for example, Kα1 ray from Kα2 ray. In addition, it is also possible to cut out part of continuous X-ray beams to create a virtual source.

摘要翻译： 一种X射线装置，其产生具有窄能带宽的虚拟光源，并能进行高分辨率X射线衍射测量; 使用该方法的方法; 并提供X射线照射方法。 X射线装置100包括：单色器105，其分散发散的X射线束;以及选择部107，其安装在聚光的X射线束的聚光位置，用于选择具有波长的X射线 在一个特定的范围内，允许它通过，并创建一个虚拟源。 利用这种布置，可以在焦点110处创建具有窄能带宽的虚拟源，并且借助于虚拟源，可以获得高分辨率X射线衍射测量。 通过使用X射线装置100，能够从Kα2射线充分地分离具有例如Kα1射线的极窄能量带宽的X射线束。 此外，还可以切出部分连续X射线束以创建虚拟源。

公开(公告)号：US20110085644A1

公开(公告)日：2011-04-14

申请号：US12578667

申请日：2009-10-14

申请人： Boris Verman ,  Yuriy Platonov ,  Licai Jiang

发明人： Boris Verman ,  Yuriy Platonov ,  Licai Jiang

IPC分类号： G21K1/02

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

摘要： An x-ray optical system includes an x-ray source which emits x-rays, a first optical element which conditions the x-rays to form two beams and at least a second optical element which further conditions at least one of the two beams from the first optical element.

摘要翻译： X射线光学系统包括发射x射线的X射线源，调节X射线以形成两个光束的第一光学元件和至少另外将来自两个光束中的至少一个的条件的第二光学元件 第一光学元件。

公开(公告)号：US20050025281A1

公开(公告)日：2005-02-03

申请号：US10866057

申请日：2004-06-10

申请人： Boris Verman ,  Jimpei Harada

发明人： Boris Verman ,  Jimpei Harada

IPC分类号： G02B26/08 ,  G21K1/06

CPC分类号： G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

摘要： The present invention provides an x-ray beam conditioning system with a Kirkpatrick-Baez diffractive optic including two optical elements, of which one of the optical elements is a crystal. The elements are arranged in a side-by-side configuration. The crystal can be a perfect crystal. One or both diffractive elements can be mosaic crystals. One element can be a multilayer optic. For example, the multilayer optic can be an elliptical mirror or a parabolic mirror with graded d-spacing. The graded d-spacing can be either lateral grading or depth grading, or both.

摘要翻译： 本发明提供一种具有Kirkpatrick-Baez衍射光学元件的X射线束调节系统，其包括两个光学元件，其中一个光学元件是晶体。 这些元件并排配置。 水晶可以是一个完美的水晶。 一个或两个衍射元件可以是镶嵌晶体。 一个元件可以是多层光学元件。 例如，多层光学器件可以是具有梯度d间距的椭圆镜或抛物面镜。 分级d间距可以是横向分级或深度分级，或两者。

公开(公告)号：US08767918B2

公开(公告)日：2014-07-01

申请号：US13266842

申请日：2010-04-14

申请人： Kazuhiko Omote ,  Boris Verman ,  Licai Jiang

发明人： Kazuhiko Omote ,  Boris Verman ,  Licai Jiang

IPC分类号： G21K1/06 ,  G01N23/201

CPC分类号： G21K1/06 ,  G01N23/201

摘要： A X-ray scattering measurement device and measurement method can measure, with high resolution, the intensity of X-rays which have undergone small-angle scattering and diffraction with reflection geometry and can easily and accurately measure a microstructure on the surface of a sample. The X-ray scattering measurement device is suitable for microstructural measurement on the surface of a sample includes an X-ray source that generates an X-ray; a first mirror and a second mirror that continuously reflect the generated X-ray; a sample stage that supports the sample; and a two-dimensional detector that detects the X-ray scattered on the surface of the sample. The first mirror focuses the generated X-ray onto the two-dimensional detector within a plane parallel to the surface of the sample, and the second mirror focuses the X-ray reflected by the first mirror onto the surface of the sample within a plane perpendicular to the surface of the sample.

摘要翻译： X射线散射测量装置和测量方法可以以高分辨率测量已经经历小角度散射和具有反射几何形状的衍射的X射线的强度，并且可以容易且精确地测量样品表面上的微结构。 X射线散射测量装置适用于样品表面的微结构测量，包括产生X射线的X射线源; 连续地反映所产生的X射线的第一镜和第二镜; 支持样品的样品台; 以及检测在样品表面上散射的X射线的二维检测器。 第一个镜子将生成的X射线聚焦到平行于样品表面的平面内的二维检测器上，而第二反射镜将由第一反射镜反射的X射线在垂直的平面内的样品表面上聚焦 到样品表面。

公开(公告)号：US08406374B2

公开(公告)日：2013-03-26

申请号：US12823503

申请日：2010-06-25

申请人： Boris Verman

发明人： Boris Verman

IPC分类号： G21K1/06

CPC分类号： G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K1/04 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

摘要： An x-ray optical system includes a multiple corner optic assembly including an adjustable aperture assembly located in close proximity to the optic assembly. The adjustable aperture assembly enables a user to easily and effectively adjust the convergence of an incident beam of x-rays or the optic focal spot size. The adjustable aperture assembly may further enable a user to condition x-rays of one wavelength and block x-rays of another wavelength and thereby reduce the amount of background radiation exhibited from x-rays of more than one wavelength.

摘要翻译： X射线光学系统包括多角度光学组件，其包括位于光学组件附近的可调节光圈组件。 可调孔径组件使得用户能够容易且有效地调整入射光束的X射线或光焦点尺寸的会聚。 可调整孔径组件还可以使用户能够调节一个波长的x射线并阻挡另一个波长的X射线，从而减少从多于一个波长的X射线显示的背景辐射的量。

公开(公告)号：US20110268252A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：US13142787

申请日：2010-06-30

申请人： Tetsuya Ozawa ,  Ryuji Matsuo ,  Licai Jiang ,  Boris Verman ,  Kazuhiko Omote

发明人： Tetsuya Ozawa ,  Ryuji Matsuo ,  Licai Jiang ,  Boris Verman ,  Kazuhiko Omote

IPC分类号： G01T1/36

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G01J3/12 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/064 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/1516

摘要： An X-ray apparatus that creates a virtual source having a narrow energy bandwidth and enables a high-resolution X-ray diffraction measurement; a method of using the same; and an X-ray irradiation method are provided.An X-ray apparatus 100 includes a spectrometer 105 that focuses a divergent X-ray beam while dispersing it and a selection part 107 that is installed in a condensing position of the condensed X-ray beam for selecting an X-ray beam having a wavelength in a specific range, allowing it to pass through, and creating a virtual source. With this arrangement, it is possible to create a virtual source having a narrow energy bandwidth at a focal point 110 and by means of the virtual source a high-resolution X-ray diffraction measurement is available. By using the X-ray apparatus 100, it is possible to sufficiently separate an X-ray beam having such an extremely narrow energy bandwidth as, for example, Kα1 ray from Kα2 ray. In addition, it is also possible to cut out part of continuous X-ray beams to create a virtual source.

摘要翻译： 一种X射线装置，其产生具有窄能带宽的虚拟光源，并能进行高分辨率X射线衍射测量; 使用该方法的方法; 并提供X射线照射方法。 X射线装置100包括分光器105，其分散发散的X射线束;以及选择部107，其安装在聚光X射线束的聚光位置，用于选择具有波长的X射线束 在一个特定的范围内，允许它通过，并创建一个虚拟源。 利用这种布置，可以在焦点110处创建具有窄能带宽的虚拟源，并且借助于虚拟源，可以获得高分辨率X射线衍射测量。 通过使用X射线装置100，能够从Kα2射线充分地分离具有例如Kα1射线的极窄能量带宽的X射线束。 此外，还可以切出部分连续X射线束以创建虚拟源。

公开(公告)号：US07933383B2

公开(公告)日：2011-04-26

申请号：US12421907

申请日：2009-04-10

申请人： Boris Verman ,  Licai Jiang

发明人： Boris Verman ,  Licai Jiang

IPC分类号： G21K1/00

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061

摘要： An x-ray generating system includes a source of x-ray radiation, a waveguide bundle optic for collimating the x-ray radiation produced by the source, a focusing optic for focusing the collimated x-ray radiation to a focal point.

摘要翻译： X射线产生系统包括X射线辐射源，用于准直由源产生的x射线辐射的波导束光学器件，用于将准直X射线辐射聚焦到焦点的聚焦光学器件。

公开(公告)号：US20060239405A1

公开(公告)日：2006-10-26

申请号：US11449208

申请日：2006-06-08

申请人： Boris Verman ,  Jimpei Harada

发明人： Boris Verman ,  Jimpei Harada

IPC分类号： G21K1/06

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

摘要： An x-ray beam conditioning system with a first diffractive element and a second diffractive element. The two diffractive elements are arranged in a sequential configuration, and one of the diffractive elements is a crystal. The other diffractive element may be a multilayer optic.

摘要翻译： 一种具有第一衍射元件和第二衍射元件的X射线束调节系统。 两个衍射元件按顺序配置，其中一个衍射元件是晶体。 另一个衍射元件可以是多层光学元件。

公开(公告)号：US06421417B1

公开(公告)日：2002-07-16

申请号：US09366028

申请日：1999-08-02

申请人： Licai Jiang ,  Boris Verman

发明人： Licai Jiang ,  Boris Verman

IPC分类号： G21K106

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067

摘要： An electromagnetic reflector having a multilayer structure where the electromagnetic reflector is configured to reflect multiple electromagnetic frequencies.

摘要翻译： 具有多层结构的电磁反射器，其中电磁反射器被配置为反射多个电磁频率。