公开(公告)号：US07001582B2

公开(公告)日：2006-02-21

申请号：US10823555

申请日：2004-04-14

申请人： Ferdinand Hardinghaus ,  Tanja Engels ,  Jai-Won Park ,  Karl Koehler ,  Hans Gabel ,  Joerg Glas

发明人： Ferdinand Hardinghaus ,  Tanja Engels ,  Jai-Won Park ,  Karl Koehler ,  Hans Gabel ,  Joerg Glas

IPC分类号： C01F11/46

CPC分类号： A61Q19/00 ,  A61K8/23 ,  A61K2800/412 ,  A61Q17/04 ,  B82Y30/00 ,  C01F11/462 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C08K3/30 ,  C09C1/027 ,  C08L21/00

摘要： Micronized barium sulfate (BaSO4) and methods for the production and use thereof. The micronized barium sulfate of the invention is particularly suitable for use as an additive or filler for adhesives, colorants, rubber articles and/or cosmetics.

摘要翻译： 微粉化硫酸钡（BaSO 4 S）及其制备和使用方法。 本发明的微粉化硫酸钡特别适合用作粘合剂，着色剂，橡胶制品和/或化妆品的添加剂或填料。

公开(公告)号：US07108586B2

公开(公告)日：2006-09-19

申请号：US10870423

申请日：2004-06-18

申请人： Karl Koehler ,  Ferdinand Hardinghaus ,  Jai-Won Park

发明人： Karl Koehler ,  Ferdinand Hardinghaus ,  Jai-Won Park

IPC分类号： B24B1/00

CPC分类号： C09G1/02

摘要： Particles of strontium carbonate, barium carbonate, strontium sulfate and/or barium sulfate having a sufficient degree of fineness, especially when produced synthetically, are suitable as abrasive agents in chemical mechanical polishing (CMP polishing) of components, e.g., microelectronic components such as silicon wafers. The alkaline earth metal salt compounds are used as slurries in water and/or organic liquids and optionally may contain a dispersing agent, and preferably have a pH value of at least 8.

摘要翻译： 具有足够细度的碳酸锶，碳酸钡，硫酸锶和/或硫酸钡的颗粒，特别是合成生产时，适合作为组分的化学机械抛光（CMP抛光）中的研磨剂，例如微电子组件如硅 晶圆 碱土金属盐化合物用作水和/或有机液体中的浆料，并且任选地可以含有分散剂，并且优选具有至少8的pH值。

公开(公告)号：US20050048877A1

公开(公告)日：2005-03-03

申请号：US10870423

申请日：2004-06-18

申请人： Karl Koehler ,  Ferdinand Hardinghaus ,  Jai-Won Park

发明人： Karl Koehler ,  Ferdinand Hardinghaus ,  Jai-Won Park

IPC分类号： B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  B24B1/00

CPC分类号： C09G1/02

摘要： Particles of strontium carbonate, barium carbonate, strontium sulfate and/or barium sulfate having a sufficient degree of fineness, especially when produced synthetically, are suitable as abrasive agents in chemical mechanical polishing (CMP polishing) of components, e.g., microelectronic components such as silicon wafers. The alkaline earth metal salt compounds are used as slurries in water and/or organic liquids and optionally may contain a dispersing agent, and preferably have a pH value of at least 8.

摘要翻译： 具有足够细度的碳酸锶，碳酸钡，硫酸锶和/或硫酸钡的颗粒，特别是合成生产时，适合作为组分的化学机械抛光（CMP抛光）中的研磨剂，例如微电子组件如硅 晶圆 碱土金属盐化合物用作水和/或有机液体中的浆料，并且任选地可以含有分散剂，并且优选具有至少8的pH值。