公开(公告)号：US20150168833A1

公开(公告)日：2015-06-18

申请号：US14446282

申请日：2014-07-29

Applicant: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

Inventor： Ki-Beom Lee ,  Sang-Hyun Yun ,  Hi-Kuk Lee ,  Jae-Hyuk Chang ,  Chang-Hoon Kim ,  Jung-In Park

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/40

CPC classification number: G03F7/0388 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/301 ,  C08F2220/303 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/40

Abstract: A photosensitive resin composition includes an acid-labile resin of about 5 wt % to about 25 wt %, a monomer of about 5 wt % to about 10 wt %, a photoacid generator of about 5 wt % to about 10 wt %, a photoreaction accelerator of about 1 wt % to about 5 wt %, and a solvent of about 50 wt % to about 84 wt %, wherein the acid-labile resin comprises a repeating unit containing an acid group, and a protecting group configured to protect the repeating unit.

Abstract translation: 光敏树脂组合物包括约5重量％至约25重量％的酸不稳定树脂，约5重量％至约10重量％的单体，约5重量％至约10重量％的光酸产生剂，光反应 约1重量％至约5重量％的促进剂和约50重量％至约84重量％的溶剂，其中酸不稳定树脂包含含有酸基的重复单元和被保护重复的保护基 单元。