公开(公告)号：US06111104A

公开(公告)日：2000-08-29

申请号：US362710

申请日：1999-07-29

申请人： Hisao Ikeda ,  Yasuhiro Gunji ,  Toshinari Koda ,  Motohiko Hidaka ,  Atsumi Aoki

发明人： Hisao Ikeda ,  Yasuhiro Gunji ,  Toshinari Koda ,  Motohiko Hidaka ,  Atsumi Aoki

IPC分类号： B01D1/00 ,  C07D405/14 ,  C07D251/30

CPC分类号： C07D405/14

摘要： A method for reducing an organic solvent remaining in tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate crystals, which comprises pulverizing crystal particles of tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate while evaporating a volatile component from the surface of the particles.

摘要翻译： 一种减少残留在三（2,3-环氧丙基） - 异氰脲酸酯晶体中的有机溶剂的方法，其包括在从颗粒表面蒸发挥发性组分的同时粉碎三 - （2,3-环氧丙基） - 异氰脲酸酯的结晶颗粒 。

公开(公告)号：US5892065A

公开(公告)日：1999-04-06

申请号：US892198

申请日：1997-07-14

申请人： Suketoshi Tsukamoto ,  Takami Ono ,  Hisao Ikeda ,  Motohiko Hidaka

发明人： Suketoshi Tsukamoto ,  Takami Ono ,  Hisao Ikeda ,  Motohiko Hidaka

IPC分类号： C07D301/27 ,  C07D301/32 ,  C07D303/16 ,  C07D301/02 ,  C07D405/12

CPC分类号： C07D303/16 ,  C07D301/32 ,  C08G59/025

摘要： A 2,3-epoxypropyl derivative or a 2-methyl-2,3-epoxypropyl derivative of a compound having carboxyl groups or amido groups is produced as a purified product having an epoxide equivalent of 1.0 to 1.1 times the theoretical epoxide equivalent of the derivative, an ionic halogen content of 10 ppm or less, transparency when molten and a stability against increase in the epoxide equivalent when stored at 150.degree. C. for 24 hours, by a process comprising steps (A) reacting 1.2 to 60 mol of an epihalohydrin or a 2-methyl-epihalohydrin with 1 mol of active hydrogen atoms of the carboxyl or amido group of the compound in the presence of a particular catalyst, thereby forming a reaction product containing a 2-hydroxy-3-halopropyl derivative or a 2-hydroxy-2-methyl-3-halopropyl derivative, (B) dehydrohalogenating the derivative by adding to the reaction product a sufficient amount of an alkali metal hydroxide thereby forming a final slurry containing the 2,3-epoxypropyl derivative of the 2-methyl-2,3-epoxypropyl derivative and the alkali metal halide, (C) washing the final slurry or a liquid product formed by removing the alkali metal halide from the final slurry thereby forming a refined liquid containing the derivative, and (D) removing by evaporation the epihalohydrin or the 2-methyl-epihalohidrin from the refined liquid, thereby forming the 2,3-epoxypropyl derivative or the 2-methyl-2,3-epoxypropyl derivative as the purified product.

摘要翻译： 制备具有羧基或酰胺基的化合物的2,3-环氧丙基衍生物或2-甲基-2,3-环氧丙基衍生物作为纯化产物，其环氧当量为衍生物的理论环氧当量的1.0-1.1倍 ，离子卤素含量为10ppm以下，当熔融时的透明度和在150℃下储存24小时时的环氧当量增加的稳定性，通过包括以下步骤的方法：（A）使1.2至60摩尔的表卤代醇 或具有1摩尔化合物的羧基或酰胺基的活性氢原子的2-甲基 - 表卤代醇在特定催化剂的存在下反应，从而形成含有2-羟基-3-卤代丙基衍生物或2-羟基-3-卤代丙基衍生物的反应产物， 羟基-2-甲基-3-卤代丙基衍生物，（B）通过向反应产物中加入足够量的碱金属氢氧化物脱卤化氢，从而形成含有2-甲基-3-氯丙基衍生物的2,3-环氧丙基衍生物的最终浆液， 2,3-环氧丙基衍生物和碱金属卤化物，（C）洗涤最终浆料或通过从最终浆料中除去碱金属卤化物形成的液体产物，从而形成含有该衍生物的精制液体，（D）通过蒸发除去 来自精制液体的表卤代醇或2-甲基 - 表卤代醇，由此形成2,3-环氧丙基衍生物或2-甲基-2,3-环氧丙基衍生物作为纯化产物。

公开(公告)号：US08426111B2

公开(公告)日：2013-04-23

申请号：US11918135

申请日：2006-04-11

申请人： Satoshi Takei ,  Tetsuya Shinjo ,  Motohiko Hidaka

发明人： Satoshi Takei ,  Tetsuya Shinjo ,  Motohiko Hidaka

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/161 ,  H01L21/0271

摘要： There is provided an underlayer coating that is used as an underlayer of photoresists in lithography process of the manufacture of semiconductor devices and that has a high dry etching rate in comparison to the photoresists, does not intermix with the photoresists, and is capable of flattening the surface of a semiconductor substrate having holes of a high aspect ratio; and an underlayer coating forming composition for forming the underlayer coating.The underlayer coating forming composition for forming by light irradiation an underlayer coating used as an underlayer of a photoresist in a lithography process of the manufacture of semiconductor devices, comprises a polymerizable substance and a photopolymerization initiator.

摘要翻译： 提供了在半导体器件的制造的光刻工艺中用作光致抗蚀剂的底层的底层涂层，并且与光致抗蚀剂相比具有高的干蚀刻速率，不与光致抗蚀剂混合，并且能够使 具有高纵横比的孔的半导体衬底的表面; 以及用于形成下层涂层的下层涂层形成组合物。 在制造半导体器件的光刻工艺中，通过光照射形成用于光致抗蚀剂的底层的底层涂层组合物包含可聚合物质和光聚合引发剂。

公开(公告)号：US20090130594A1

公开(公告)日：2009-05-21

申请号：US11918135

申请日：2006-04-11

申请人： Satoshi Takei ,  Tetsuya Shinjo ,  Motohiko Hidaka

发明人： Satoshi Takei ,  Tetsuya Shinjo ,  Motohiko Hidaka

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  B05D3/06 ,  B32B37/02

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/161 ,  H01L21/0271

摘要： There is provided an underlayer coating that is used as an underlayer of photoresists in lithography process of the manufacture of semiconductor devices and that has a high dry etching rate in comparison to the photoresists, does not intermix with the photoresists, and is capable of flattening the surface of a semiconductor substrate having holes of a high aspect ratio; and an underlayer coating forming composition for forming the underlayer coating.The underlayer coating forming composition for forming by light irradiation an underlayer coating used as an underlayer of a photoresist in a lithography process of the manufacture of semiconductor devices, comprises a polymerizable substance and a photopolymerization initiator.

摘要翻译： 提供了在半导体器件的制造的光刻工艺中用作光致抗蚀剂的底层的底层涂层，并且与光致抗蚀剂相比具有高的干蚀刻速率，不与光致抗蚀剂混合，并且能够使 具有高纵横比的孔的半导体衬底的表面; 以及用于形成下层涂层的下层涂层形成组合物。 在制造半导体器件的光刻工艺中，通过光照射形成用于光致抗蚀剂的底层的底层涂层组合物包含可聚合物质和光聚合引发剂。

公开(公告)号：US06903212B2

公开(公告)日：2005-06-07

申请号：US09973766

申请日：2001-10-11

申请人： Hisao Ikeda ,  Yasuhiro Gunji ,  Motohiko Hidaka

发明人： Hisao Ikeda ,  Yasuhiro Gunji ,  Motohiko Hidaka

IPC分类号： C07D405/14 ,  B01D9/02 ,  C07D251/34 ,  C08G59/04 ,  C07D251/30

CPC分类号： C07D251/34

摘要： A process for producing β-form tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate crystals containing from 2 to 15 wt % of α-form tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate in the interior of the crystals, which comprises the following steps (A), (B), (C) and (D): (A) a step of reacting cyanuric acid with epichlorohydrin to form an addition product of cyanuric acid and epichlorohydrin, followed by dehydrochlorination to obtain a reaction solution containing tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate, (B) a step of removing epichlorohydrin from the reaction solution containing tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate obtained in step (A), and dissolving the obtained tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate in a solvent, (C) a step of gradually cooling the liquid obtained in step (B) at a cooling rate within 20° C./hr for crystallization, followed by filtration to obtain crystals, and (D) a step of washing and drying the crystals obtained in step (C).

摘要翻译： 在晶体内部生产含有2至15重量％的α-形式的三 - （2,3-环氧丙基） - 异氰脲酸酯的β-型三 - （2,3-环氧丙基） - 异氰脲酸酯晶体的方法，其包括 以下步骤（A），（B），（C）和（D）：（A）使三聚氰酸与表氯醇反应形成氰尿酸和表氯醇的加成产物，然后进行脱氯化氢以获得含 （2,3-环氧丙基） - 异氰脲酸酯，（B）从含有步骤（A）中得到的三（2,3-环氧丙基） - 异氰脲酸酯的反应溶液中除去表氯醇的步骤，并将得到的三 2,3-环氧丙基） - 异氰脲酸酯，（C）将步骤（B）中得到的液体以20℃/小时的冷却速度逐渐冷却以进行结晶，然后过滤得到晶体， （D）洗涤和干燥步骤（C）中获得的晶体的步骤。

公开(公告)号：US06605718B2

公开(公告)日：2003-08-12

申请号：US09790818

申请日：2001-02-23

申请人： Hisao Ikeda ,  Yasuhiro Gunji ,  Motohiko Hidaka

发明人： Hisao Ikeda ,  Yasuhiro Gunji ,  Motohiko Hidaka

IPC分类号： C07D25130

CPC分类号： C07D251/34

摘要： A method for reducing organic solvents remaining in tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate crystals, which comprises pulverizing, as a material, crystal particles of tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate obtained by a recrystallization method, while evaporating a volatile component from the surface of the particles.

摘要翻译： 一种减少残留在三（2,3-环氧丙基） - 异氰脲酸酯晶体中的有机溶剂的方法，其包括以重结晶法获得的三 - （2,3-环氧丙基） - 异氰脲酸酯的结晶颗粒粉碎，同时 从颗粒的表面蒸发挥发性组分。

公开(公告)号：US06605717B2

公开(公告)日：2003-08-12

申请号：US10118260

申请日：2002-04-09

申请人： Hisao Ikeda ,  Motohiko Hidaka ,  Atsumi Aoki

发明人： Hisao Ikeda ,  Motohiko Hidaka ,  Atsumi Aoki

IPC分类号： C07D25110

CPC分类号： C07D405/14

摘要： Optically active &bgr;-type tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate is obtained by a method of reacting isocyanuric acid with an optically active epihalohydrin, or a method of optically resolving a racemic modification of tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate by using an amylose or cellulose derivative. It is a method for producing a high melting point type tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate obtained by mixing two enantiomers of optically active &bgr;-type tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate.

公开(公告)号：US6124381A

公开(公告)日：2000-09-26

申请号：US973982

申请日：1997-12-15

申请人： Satoru Miyake ,  Kenichi Osawa ,  Toshinari Koda ,  Motohiko Hidaka

发明人： Satoru Miyake ,  Kenichi Osawa ,  Toshinari Koda ,  Motohiko Hidaka

IPC分类号： C08G59/42 ,  C08G59/58 ,  C08G59/68 ,  C08K5/18

CPC分类号： C08G59/686 ,  C08G59/42 ,  C08G59/58

摘要： An epoxy/acid anhydride composition characterized by containing, as a curing accelerator, a substituted triazine of the formula [I] ##STR1## (wherein X is an amino group, C.sub.1-18 monoalkylamino group, di C.sub.1-18 alkylamino group, morpholino group, piperidino group, methyl group or phenyl group; R.sup.1 and R.sup.2 independently each represent C.sub.1-12 alkyl group, C.sub.1-12 hydroxyalkyl group, C.sub.4-8 cycloalkyl group, C.sub.5-9 cycloalkylmethyl group or C.sub.5-9 methylcycloalkyl group) in an epoxy/acid anhydride composition in which an epoxy compound and an acid anhydride-curing agent are contained, and an epoxy/acid anhydride resin composition prepared by thermosetting the epoxy/acid anhydride composition.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP96 / 01612 Sec。 371 1997年12月15日第 102（e）日期1997年12月15日PCT提交1996年6月13日PCT公布。 出版物WO97 / 00277 PCT 日本1997年1月3日一种环氧/酸酐组合物，其特征在于含有作为固化促进剂的式[I]的取代三嗪（其中X为氨基，C1-18单烷基氨基，二C1-18烷基氨基， 吗啉代基，哌啶子基，甲基或苯基; R 1和R 2各自独立地表示C 1-12烷基，C 1-12羟基烷基，C 4-8环烷基，C 5-9环烷基甲基或C 5-9甲基环烷基） 包含环氧化合物和酸酐固化剂的环氧/酸酐组合物和通过将环氧/酸酐组合物热固化制备的环氧/酸酐树脂组合物。