公开(公告)号：US07666555B2

公开(公告)日：2010-02-23

申请号：US11618487

申请日：2006-12-29

申请人： Michael Goldstein ,  Yashesh Shroff ,  Daniel Tanzil

发明人： Michael Goldstein ,  Yashesh Shroff ,  Daniel Tanzil

IPC分类号： G03F1/00 ,  A47G1/12

CPC分类号： G03F1/62 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24

摘要： Embodiments of a pellicle, methods of fabrication and methods of use in extreme ultraviolet (EUV) photolithography are disclosed. The pellicle may include a wire mesh with a square or hexagonal geometric configuration. A thin film of a material with a high Young's modulus may be coated on at least one surface of the wire mesh. A method of fabrication may include forming at least one sacrificial layer on a surface of the wire mesh, forming a thin film on another surface of the wire mesh, and removing the sacrificial layer to form a pellicle. A method of use may include positioning a pellicle relative to a photomask to protect the photomask from particulate accumulation during an EUV photolithography process.

摘要翻译： 公开了一种防护薄膜组件，制造方法和在极紫外（EUV）光刻技术中的使用方法。 防护薄膜组件可以包括具有正方形或六边形几何构型的丝网。 具有高杨氏模量的材料的薄膜可以涂覆在金属丝网的至少一个表面上。 制造方法可以包括在金属丝网的表面上形成至少一个牺牲层，在金属丝网的另一个表面上形成薄膜，以及去除牺牲层以形成防护薄膜组件。 使用的方法可以包括相对于光掩模定位防护薄膜以保护光掩模免于在EUV光刻工艺期间的颗粒聚集。

公开(公告)号：US07522335B2

公开(公告)日：2009-04-21

申请号：US10811607

申请日：2004-03-29

申请人： Sang Hun Lee ,  Michael Goldstein

发明人： Sang Hun Lee ,  Michael Goldstein

IPC分类号： F21V9/04 ,  G21K1/06

CPC分类号： G03F7/70233 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

摘要： According to one embodiment a broad-angle multilayer (ML) mirror system is disclosed. The ML mirror includes a multiple layer structure configured to provide uniform reflectivity over a wide range of angles with small phase shifts.

摘要翻译： 根据一个实施例，公开了一种广角多层（ML）镜系统。 ML镜包括多层结构，其被配置为在具有小的相移的宽范围的角度上提供均匀的反射率。

公开(公告)号：US07501641B2

公开(公告)日：2009-03-10

申请号：US11411971

申请日：2006-04-25

申请人： Peter J. Silverman ,  Michael Goldstein

发明人： Peter J. Silverman ,  Michael Goldstein

IPC分类号： G02B5/08

CPC分类号： G03F7/70175

摘要： A system and method for collecting radiation, which may be used in a lithography illumination system. The system comprises a first surface shaped to reflect radiation in a first hemisphere of a source to illuminate in a second hemisphere of the source; and a second surface shaped to reflect radiation in the second hemisphere of the source to an output plane.

摘要翻译： 用于收集辐射的系统和方法，其可以用在光刻照明系统中。 该系统包括成形为反射源的第一半球中的辐射以在源的第二半球中照亮的第一表面; 以及第二表面，其被成形为将源的第二半球中的辐射反射到输出平面。

公开(公告)号：US20080158535A1

公开(公告)日：2008-07-03

申请号：US11618487

申请日：2006-12-29

申请人： Michael Goldstein ,  Yashesh Shroff ,  Daniel Tanzil

发明人： Michael Goldstein ,  Yashesh Shroff ,  Daniel Tanzil

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F1/62 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24

摘要： Embodiments of a pellicle, methods of fabrication and methods of use in extreme ultraviolet (EUV) photolithography are disclosed. The pellicle may include a wire mesh with a square or hexagonal geometric configuration. A thin film of a material with a high Young's modulus may be coated on at least one surface of the wire mesh. A method of fabrication may include forming at least one sacrificial layer on a surface of the wire mesh, forming a thin film on another surface of the wire mesh, and removing the sacrificial layer to form a pellicle. A method of use may include positioning a pellicle relative to a photomask to protect the photomask from particulate accumulation during an EUV photolithography process.

摘要翻译： 公开了一种防护薄膜组件，制造方法和在极紫外（EUV）光刻技术中的使用方法。 防护薄膜组件可以包括具有正方形或六边形几何构型的丝网。 具有高杨氏模量的材料的薄膜可以涂覆在金属丝网的至少一个表面上。 制造方法可以包括在金属丝网的表面上形成至少一个牺牲层，在金属丝网的另一个表面上形成薄膜，以及去除牺牲层以形成防护薄膜组件。 使用的方法可以包括相对于光掩模定位防护薄膜以保护光掩模免于在EUV光刻工艺期间的颗粒聚集。

公开(公告)号：US20080122042A1

公开(公告)日：2008-05-29

申请号：US11563626

申请日：2006-11-27

申请人： Michael Goldstein ,  Irwin Yablok

发明人： Michael Goldstein ,  Irwin Yablok

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L21/84

CPC分类号： H01L21/187 ,  H01L21/302 ,  H01L21/823437

摘要： A wafer comprising polycrystalline silicon is used in various applications, including as a handling wafer, a test wafer, a dummy wafer, or as a substrate in a bonded die. Use of polycrystalline material instead of single-crystal may lower expenses.

摘要翻译： 包括多晶硅的晶片用于各种应用中，包括作为处理晶片，测试晶片，虚设晶片或作为接合芯片中的基板。 使用多晶材料代替单晶可能会降低成本。

公开(公告)号：US20080073592A1

公开(公告)日：2008-03-27

申请号：US11490925

申请日：2006-07-21

申请人： Eric M. Panning ,  Michael Goldstein ,  Ranju D. Venables

发明人： Eric M. Panning ,  Michael Goldstein ,  Ranju D. Venables

IPC分类号： G01J1/00

CPC分类号： G03F7/70166 ,  B82Y10/00 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0019 ,  G02B19/0033 ,  G02B19/0095 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/067

摘要： A reflective optical illumination collector is described. In one example, the collector has a ring to collect light from a light source within a range of incident angles and to reflect the light off an inner surface of the ring to a target image of the collector. A plurality of rings concentric to the first ring may also be used. Each ring collects light from the light source within a range of incident angles and reflects the light off an inner surface of the respective ring to the target image of the collector.

摘要翻译： 描述反射式光学照明收集器。 在一个示例中，收集器具有环，用于在入射角范围内收集来自光源的光，并将光从环的内表面反射到收集器的目标图像。 也可以使用与第一环同心的多个环。 每个环在入射角范围内从光源收集光，并将光从相应环的内表面反射到收集器的目标图像。

公开(公告)号：US20080015945A1

公开(公告)日：2008-01-17

申请号：US11456910

申请日：2006-07-12

申请人： Michael Goldstein

发明人： Michael Goldstein

IPC分类号： G06Q30/00

CPC分类号： G06Q30/04 ,  G06Q30/0613 ,  G06Q30/0633

摘要： This relates to a method and system for processing subscriptions and periodically-billed services. It shows different methods by the way of examples. It improves the e-commerce by increasing the traffic and amount of transactions between interested parties. One goal of the current business is to form partnerships with the largest online merchants, to integrate digital content subscriptions into their product offerings. It provides a method to receive these orders electronically from the merchant and pass them to the content provider to activate the customer's subscription.

摘要翻译： 这涉及用于处理订阅和定期收费服务的方法和系统。 它通过示例的方式显示不同的方法。 通过增加有关方面的交易量和交易量，改善电子商务。 目前业务的一个目标是与最大的在线商家建立合作伙伴关系，将数字内容订阅集成到其产品中。 它提供了一种从商家以电子方式接收这些订单的方法，并将其传递给内容提供商以激活客户的订阅。

公开(公告)号：US20080003366A1

公开(公告)日：2008-01-03

申请号：US11479535

申请日：2006-06-30

申请人： Valery M. Dubin ,  Ramanan V. Chebiam ,  Michael Goldstein ,  Toru Imori

发明人： Valery M. Dubin ,  Ramanan V. Chebiam ,  Michael Goldstein ,  Toru Imori

IPC分类号： B05D1/40

CPC分类号： C23C18/1841 ,  C23C18/1653 ,  C23C18/1827 ,  C23C18/38 ,  H01L21/288 ,  H01L21/76873

摘要： A method of processing a substrate is described. A coupling agent and a metal ion solution are applied to the substrate. An activating solution is applied to activate metal ions of the metal ion solution to create a metal film out of the ions. Atoms of the metal film are used to catalyze a metal of a base metal solution to form a metal layer. The metal layer can be used as a seed layer for electroplating purposes.

摘要翻译： 描述了一种处理衬底的方法。 将偶联剂和金属离子溶液施加到基材上。 施加激活溶液以激活金属离子溶液的金属离子，以产生离子之外的金属膜。 金属膜的原子用于催化贱金属溶液的金属以形成金属层。 金属层可以用作用于电镀目的的种子层。

公开(公告)号：US20070296948A1

公开(公告)日：2007-12-27

申请号：US11894791

申请日：2007-08-20

申请人： Michael Goldstein

发明人： Michael Goldstein

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70558

摘要： A dose transfer standard detector measures radiation intensity and dose in a lithography tool. The lithography tool may be an Extreme Ultraviolet lithography (EUVL) tool. The dose transfer standard detector may transmit intensity and dose data to a computer, which analyzes the data. Based on the analyzed data, the lithography tool may be calibrated.

摘要翻译： 剂量转移标准检测器测量光刻工具中的辐射强度和剂量。 光刻工具可以是极紫外光刻（EUVL）工具。 剂量转移标准检测器可将强度和剂量数据传输给计算机，该计算机分析数据。 基于分析的数据，可以校准光刻工具。

公开(公告)号：US07279693B2

公开(公告)日：2007-10-09

申请号：US11196191

申请日：2005-08-02

申请人： Michael Goldstein ,  Peter J. Silverman

发明人： Michael Goldstein ,  Peter J. Silverman

IPC分类号： A61N5/06

CPC分类号： G03F7/7005 ,  G03F7/201

摘要： An illumination system for an extreme ultraviolet (EUV) lithography system may include multiple sources of EUV light. The system may combine the light from the multiple sources when illuminating a mask.