公开(公告)号：US09111982B2

公开(公告)日：2015-08-18

申请号：US13539243

申请日：2012-06-29

申请人： I-Hsiung Huang ,  Heng-Hsin Liu ,  Heng-Jen Lee ,  Chin-Hsiang Lin

发明人： I-Hsiung Huang ,  Heng-Hsin Liu ,  Heng-Jen Lee ,  Chin-Hsiang Lin

IPC分类号： H01L21/683

CPC分类号： H01L21/0201 ,  H01L21/6835 ,  H01L2221/6834 ,  H01L2221/68381

摘要： A wafer assembly includes a process wafer and a carrier wafer. Integrated circuits are formed on the process wafer. The carrier wafer is bonded to the process wafer. The carrier wafer has at least one alignment mark.

摘要翻译： 晶片组件包括处理晶片和载体晶片。 集成电路形成在处理晶片上。 载体晶片结合到工艺晶片。 载体晶片具有至少一个对准标记。

公开(公告)号：US08906599B2

公开(公告)日：2014-12-09

申请号：US13473695

申请日：2012-05-17

申请人： Yu-Mei Liu ,  Chin-Hsiang Lin ,  Heng-Hsin Liu ,  Heng-Jen Lee ,  I-Hsiung Huang ,  Chih-Wei Lin

发明人： Yu-Mei Liu ,  Chin-Hsiang Lin ,  Heng-Hsin Liu ,  Heng-Jen Lee ,  I-Hsiung Huang ,  Chih-Wei Lin

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70358

摘要： A method and system to improve scanner throughput is provided. An image from a reticle is projected onto a substrate using a continuous linear scanning procedure in which an entire column of die or cells of die is scanned continuously, i.e. without stepping to a different location. Each scan includes translating a substrate with respect to a fixed beam. While the substrate is translated, the reticle is also translated. When a first die or cell of die is projected onto the substrate, the reticle translates along a direction opposite the scan direction and as the scan continues along the same direction, the reticle then translates in the opposite direction of the substrate thereby forming an inverted pattern on the next die or cell. The time associated with exposing the substrate is minimized as the stepping operation only occurs after a complete column of cells is scanned.

摘要翻译： 提供了一种提高扫描仪吞吐量的方法和系统。 使用连续线性扫描程序将来自掩模版的图像投影到基板上，其中连续扫描整列管芯或裸片的单元，即不进入不同的位置。 每个扫描包括相对于固定光束平移衬底。 当底物被翻译时，掩模版也被翻译。 当模具的第一裸片或裸片投影到衬底上时，标线沿着与扫描方向相反的方向平移，并且随着扫描沿着相同的方向继续，标线片然后沿着衬底的相反方向平移，从而形成倒置图案 在下一个死亡或细胞。 与曝光底物相关的时间最小化，因为步进操作仅在扫描完整的单元格列之后才发生。

公开(公告)号：US20120187571A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：US13437575

申请日：2012-04-02

申请人： Ling-Chieh Lin ,  Chien-Fu Lee ,  I-Hsiung Huang

发明人： Ling-Chieh Lin ,  Chien-Fu Lee ,  I-Hsiung Huang

IPC分类号： H01L23/522

CPC分类号： G03F1/36

摘要： A method of manufacturing a photomask is described. The graphic data of the photomask are provided, and than an optical proximity correction is performed to the graphic data. A process rule check is then performed to the graphic data with the optical proximity correction. When at least one failed pattern not passing the process rule check is found in the graphic data, a repair procedure is performed only to the failed pattern so that the failed pattern can pass the process rule check. The patterns of the photomask are then formed according to the corrected and repaired graphic data.

摘要翻译： 描述制造光掩模的方法。 提供光掩模的图形数据，并且对图形数据进行光学邻近校正。 然后使用光学邻近校正对图形数据执行处理规则检查。 当在图形数据中找到至少一个未通过过程规则检查的故障模式时，仅对故障模式执行修复过程，以使故障模式能够通过进程规则检查。 然后根据校正和修复的图形数据形成光掩模的图案。

公开(公告)号：US08101530B2

公开(公告)日：2012-01-24

申请号：US12566853

申请日：2009-09-25

申请人： I-Hsiung Huang ,  Chin-Hsiang Lin ,  Heng-Jen Lee ,  Heng-Hsin Liu

发明人： I-Hsiung Huang ,  Chin-Hsiang Lin ,  Heng-Jen Lee ,  Heng-Hsin Liu

IPC分类号： H01L21/31 ,  H01L21/469

CPC分类号： H01L21/823871 ,  G03F7/091 ,  G03F7/093 ,  G03F7/11 ,  Y10S438/942

摘要： A method for fabricating an integrated circuit device is disclosed. The method is a lithography patterning method that can include providing a substrate; forming a protective layer over the substrate; forming a conductive layer over the protective layer; forming a resist layer over the conductive layer; and exposing and developing the resist layer.

摘要翻译： 公开了一种用于制造集成电路器件的方法。 该方法是可以包括提供衬底的光刻图案化方法; 在衬底上形成保护层; 在保护层上形成导电层; 在导电层上形成抗蚀剂层; 并且曝光和显影抗蚀剂层。

公开(公告)号：US07617475B2

公开(公告)日：2009-11-10

申请号：US11559107

申请日：2006-11-13

申请人： Ling-Chieh Lin ,  Chien-Fu Lee ,  I-Hsiung Huang

发明人： Ling-Chieh Lin ,  Chien-Fu Lee ,  I-Hsiung Huang

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/36

摘要： A method of manufacturing a photomask is described. The graphic data of the photomask are provided, and than an optical proximity correction is performed to the graphic data. A process rule check is then performed to the graphic data with the optical proximity correction. When at least one failed pattern not passing the process rule check is found in the graphic data, a repair procedure is performed only to the failed pattern so that the failed pattern can pass the process rule check. The patterns of the photomask are then formed according to the corrected and repaired graphic data.

摘要翻译： 描述制造光掩模的方法。 提供光掩模的图形数据，并且对图形数据进行光学邻近校正。 然后使用光学邻近校正对图形数据执行处理规则检查。 当在图形数据中找到至少一个未通过过程规则检查的故障模式时，仅对故障模式执行修复过程，以使故障模式能够通过进程规则检查。 然后根据校正和修复的图形数据形成光掩模的图案。

公开(公告)号：US20080178140A1

公开(公告)日：2008-07-24

申请号：US11624544

申请日：2007-01-18

申请人： Ling-Chieh Lin ,  Chuen-Huei Yang ,  Chien-Fu Lee ,  I-Hsiung Huang

发明人： Ling-Chieh Lin ,  Chuen-Huei Yang ,  Chien-Fu Lee ,  I-Hsiung Huang

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/36

摘要： A method for correcting a photomask pattern is disclosed. The correction method determines a layout condition according to the space and line width of a layout pattern. The layout condition is used to determine the type of optical proximity correction to be used for a layout pattern in order to generate a correction pattern, and the correction pattern is compared with a predetermined specification. Furthermore, a modified-rule optical proximity correction table is employed to correct the special layout pattern. Therefore, the fidelity correction may be easily implemented.

摘要翻译： 公开了一种用于校正光掩模图案的方法。 校正方法根据布局图案的空间和线宽确定布局条件。 布局条件用于确定要用于布局图案的光学邻近校正的类型，以便生成校正图案，并且将校正图案与预定规格进行比较。 此外，采用修改规则光学邻近校正表来校正特殊布局图案。 因此，可以容易地实现保真度校正。

公开(公告)号：US09128320B2

公开(公告)日：2015-09-08

申请号：US12546711

申请日：2009-08-25

申请人： Wen-Lung Chen ,  Chih-Jen Hu ,  Yue-Shih Jeng ,  I-Hsiung Huang ,  Po-Wei Wu ,  Yu-June Wu ,  Chih-Wen Chen ,  Meng-Chieh Tsai

发明人： Wen-Lung Chen ,  Chih-Jen Hu ,  Yue-Shih Jeng ,  I-Hsiung Huang ,  Po-Wei Wu ,  Yu-June Wu ,  Chih-Wen Chen ,  Meng-Chieh Tsai

IPC分类号： G02F1/1335 ,  G02B27/22

CPC分类号： G02F1/133526 ,  G02B27/2214

摘要： A three-dimensional display including a display and a micro-lens is provided. The display has a plurality of pixel units thereon, and each pixel unit has a pixel pitch i. The micro-lens is disposed at a side of the display, the micro-lens has a plurality of lens units thereon, and each lens unit has a lens pitch l. A right eye viewing zone and a left eye viewing zone are formed if an image displayed from the display passes though the micro-lens, wherein a distance between the center of the right eye viewing zone and the center of the left eye viewing zone is wz, and lens pitch l satisfies: 2 ⁢ i > l ≥ 2 ⁢ i × w z w z + i , wz is between 70 and 500 mm and i is between 0.1 and 500 μm.

摘要翻译： 提供了包括显示器和微透镜的三维显示器。 显示器上具有多个像素单元，并且每个像素单元具有像素间距i。 微透镜设置在显示器的一侧，微透镜在其上具有多个透镜单元，并且每个透镜单元具有透镜间距l。 如果从显示器显示的图像通过微透镜，则形成右眼观察区域和左眼观察区域，其中右眼观察区域的中心与左眼观察区域的中心之间的距离为wz ，透镜间距l满足：2i>l≥2i×wzwz + i，wz为70〜500mm，i为0.1〜500μm。

公开(公告)号：US08237132B2

公开(公告)日：2012-08-07

申请号：US12486565

申请日：2009-06-17

申请人： Jui-Chun Peng ,  Heng-Jen Lee ,  Tung-Li Wu ,  I-Hsiung Huang

发明人： Jui-Chun Peng ,  Heng-Jen Lee ,  Tung-Li Wu ,  I-Hsiung Huang

IPC分类号： G21K5/00

CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

摘要： An apparatus includes a radiation source that emits a radiation beam that causes substantially all of a quantity of material to evaporate; and structure having first and second surface portions, a first operational mode wherein a greater quantity of a byproduct of the evaporation impinges on the first surface portion, and a second operational mode wherein a greater quantity of the byproduct impinges on the second surface portion. A different aspect involves emitting a radiation beam toward a quantity of material, the radiation beam causing substantially all of the quantity of material to evaporate; operating a structure having first and second surface portions in a first operational mode wherein a greater quantity of a byproduct of the evaporation impinges on the first surface portion; and thereafter operating the structure in a second operational mode wherein a greater quantity of the byproduct impinges on the second surface portion.

摘要翻译： 一种装置包括辐射源，辐射源发射基本上所有的一定量物质蒸发的辐射束; 以及具有第一和第二表面部分的结构，第一操作模式，其中更大量的蒸发副产物撞击在第一表面部分上，以及第二操作模式，其中较大量的副产物撞击在第二表面部分上。 不同的方面涉及朝向一定数量的材料发射辐射束，所述辐射束导致基本上所有量的材料蒸发; 在第一操作模式中操作具有第一和第二表面部分的结构，其中更大量的蒸发副产物撞击在第一表面部分上; 然后以第二操作模式操作该结构，其中较大量的副产物撞击在第二表面部分上。

公开(公告)号：US20110076843A1

公开(公告)日：2011-03-31

申请号：US12566853

申请日：2009-09-25

申请人： I-Hsiung Huang ,  Chin-Hsiang Lin ,  Heng-Jen Lee ,  Heng-Hsin Liu

发明人： I-Hsiung Huang ,  Chin-Hsiang Lin ,  Heng-Jen Lee ,  Heng-Hsin Liu

IPC分类号： H01L21/28 ,  H01L21/302

CPC分类号： H01L21/823871 ,  G03F7/091 ,  G03F7/093 ,  G03F7/11 ,  Y10S438/942

摘要： A method for fabricating an integrated circuit device is disclosed. The method is a lithography patterning method that can include providing a substrate; forming a protective layer over the substrate; forming a conductive layer over the protective layer; forming a resist layer over the conductive layer; and exposing and developing the resist layer.

摘要翻译： 公开了一种用于制造集成电路器件的方法。 该方法是可以包括提供衬底的光刻图案化方法; 在衬底上形成保护层; 在保护层上形成导电层; 在导电层上形成抗蚀剂层; 并且曝光和显影抗蚀剂层。

公开(公告)号：US20100315566A1

公开(公告)日：2010-12-16

申请号：US12546711

申请日：2009-08-25

申请人： Wen-Lung Chen ,  Chih-Jen Hu ,  Yue-Shih Jeng ,  I-Hsiung Huang ,  Po-Wei Wu ,  Yu-June Wu ,  Chih-Wen Chen ,  Meng-Chieh Tsai

发明人： Wen-Lung Chen ,  Chih-Jen Hu ,  Yue-Shih Jeng ,  I-Hsiung Huang ,  Po-Wei Wu ,  Yu-June Wu ,  Chih-Wen Chen ,  Meng-Chieh Tsai

IPC分类号： G02F1/1335

CPC分类号： G02F1/133526 ,  G02B27/2214

摘要： A three-dimensional display including a display and a micro-lens is provided. The display has a plurality of pixel units thereon, and each pixel unit has a pixel pitch i. The micro-lens is disposed at a side of the display, the micro-lens has a plurality of lens units thereon, and each lens unit has a lens pitch l. A right eye viewing zone and a left eye viewing zone are formed if an image displayed from the display passes though the micro-lens, wherein a distance between the center of the right eye viewing zone and the center of the left eye viewing zone is wz, and lens pitch l satisfies: 2  i > l > 2  i × w z w z + i , wz is between 70 and 500 mm and i is between 0.1 and 500 μm.

摘要翻译： 提供了包括显示器和微透镜的三维显示器。 显示器上具有多个像素单元，并且每个像素单元具有像素间距i。 微透镜设置在显示器的一侧，微透镜在其上具有多个透镜单元，并且每个透镜单元具有透镜间距l。 如果从显示器显示的图像通过微透镜，则形成右眼观察区域和左眼观察区域，其中右眼观察区域的中心与左眼观察区域的中心之间的距离为wz ，并且透镜间距l满足：2≤i≤wzwz+ i，wz在70和500mm之间，i在0.1和500μm之间。