公开(公告)号：US6159866A

公开(公告)日：2000-12-12

申请号：US507946

申请日：2000-02-22

申请人： Christian M. Gronet ,  Peter A. Knoot ,  Gary E. Miner ,  Guangcai Xing ,  David R. Lopes ,  Satheesh Kuppurao

发明人： Christian M. Gronet ,  Peter A. Knoot ,  Gary E. Miner ,  Guangcai Xing ,  David R. Lopes ,  Satheesh Kuppurao

IPC分类号： C01B13/32 ,  H01L21/316 ,  H01L21/31

CPC分类号： C01B13/322 ,  H01L21/02238 ,  H01L21/02255 ,  H01L21/3165 ,  H01L21/31662

摘要： A method of forming an oxide on a substrate. According to the method of the present invention a substrate is placed in a chamber. An oxygen containing gas and a hydrogen containing gas are then fed into the chamber. The oxygen containing gas and the hydrogen containing gas are then caused to react with one another to form water vapor in the chamber. The water vapor then oxidizes the substrate.

摘要翻译： 在基板上形成氧化物的方法。 根据本发明的方法，将基板放置在室中。 然后将含氧气体和含氢气体进料到室中。 然后使含氧气体和含氢气体彼此反应以在室中形成水蒸气。 然后水蒸汽氧化底物。