公开(公告)号：US20090283411A1

公开(公告)日：2009-11-19

申请号：US12121687

申请日：2008-05-15

申请人： Serdar Aksu ,  Yongbong Han ,  Bulent M. Basol

发明人： Serdar Aksu ,  Yongbong Han ,  Bulent M. Basol

IPC分类号： C25D15/00

CPC分类号： C25D3/54 ,  C25D9/08

摘要： An electroplating solution to electroplate a selenium containing film on a conductive surface is provided. The electroplating solution includes a solvent, a selenium source material that dissolves in the solvent; an anti-coagulation agent that inhibits Se particle growth and promotes Se particle dispersal. The pH value of the electroplating solution is in the range of 2-10.

摘要翻译： 提供了一种在导电表面上电镀含硒膜的电镀溶液。 电镀溶液包括溶剂，溶解在溶剂中的硒源材料; 一种抑制Se颗粒生长并促进Se颗粒分散的抗凝剂。 电镀液的pH值在2-10的范围内。

公开(公告)号：US07507321B2

公开(公告)日：2009-03-24

申请号：US11535927

申请日：2006-09-27

申请人： Serdar Aksu ,  Jiaxiong Wang ,  Bulent M. Basol

发明人： Serdar Aksu ,  Jiaxiong Wang ,  Bulent M. Basol

IPC分类号： C25D3/00 ,  C25D3/56 ,  B22F7/00

CPC分类号： C25D3/54 ,  C25D3/56 ,  H01L31/0322 ,  H01L31/0749 ,  Y02E10/541

摘要： The present invention relates to gallium (Ga) electroplating methods and chemistries to deposit uniform, defect free and smooth Ga films with high plating efficiency and repeatability. Such layers may be used in fabrication of electronic devices such as thin film solar cells. In one embodiment, the present invention provides a solution for application on a conductor that includes a Ga salt, a complexing agent, a solvent, and a Ga-film having submicron thickness is facilitated upon electrodeposition of the solution on the conductor. The solution may further include one or both of a Cu salt and an In salt.

摘要翻译： 本发明涉及镓（Ga）电镀方法和化学镀以均匀，无缺陷和光滑的Ga膜，具有高电镀效率和重复性。 这样的层可以用于制造诸如薄膜太阳能电池的电子器件。 在一个实施方案中，本发明提供了一种用于在导体上施加的解决方案，该解决方案在将溶液电沉积在导体上时有助于包括Ga盐，络合剂，溶剂和具有亚微米厚度的Ga膜。 该溶液还可包括Cu盐和In盐中的一种或两种。