公开(公告)号：US5989759A

公开(公告)日：1999-11-23

申请号：US30886

申请日：1998-02-26

申请人： Atsushi Ando ,  Kazuyoshi Sugihara ,  Katsuya Okumura ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Atsushi Ando ,  Kazuyoshi Sugihara ,  Katsuya Okumura ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01J37/304 ,  H01J37/317 ,  H01L21/027 ,  G03F9/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/7045 ,  G03F7/70675 ,  H01J37/3045 ,  H01J37/3174 ,  Y10S430/143

摘要： To achieve down-sizing and improvements of throughputs, light exposure and charge beam exposure are sometimes used together. In case of performing exposure of a desired pattern in a plurality of stages, a positional displacement of each of exposure patterns in the stages leads to a decrease in exposure accuracy. According to the present invention, in case of forming a fine pattern by exposure after exposure of a rough pattern, the exposure position of the rough pattern is adjusted, based on a latent image of the rough pattern which has been subjected to exposure. As a result, a positional displacement between rough and fine patterns is reduced so that a desired pattern can be formed with high accuracy.

摘要翻译： 为了实现规模缩小和吞吐量的提高，有时一起使用曝光和电荷束曝光。 在多级中进行期望图案的曝光的情况下，各级的曝光图案的位置偏移导致曝光精度降低。 根据本发明，在粗糙图案曝光后通过曝光形成精细图案的情况下，基于经受曝光的粗糙图案的潜像，调整粗糙图案的曝光位置。 结果，粗图案和精细图案之间的位置偏移减小，从而可以高精度地形成期望的图案。

公开(公告)号：US08973494B2

公开(公告)日：2015-03-10

申请号：US13023225

申请日：2011-02-08

申请人： Masayuki Hatano ,  Ikuo Yoneda ,  Tetsuro Nakasugi ,  Kenji Ooki

发明人： Masayuki Hatano ,  Ikuo Yoneda ,  Tetsuro Nakasugi ,  Kenji Ooki

IPC分类号： G03F7/00 ,  B82Y10/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： According to one embodiment, an imprint method is disclosed. The method can include forming a liquid droplet of a transfer material with a volume greater than a predetermined reference volume by dropping the transfer material onto a major surface of a processing substrate. The method can include reducing the volume of the liquid droplet to be less than the reference volume by volatilizing the liquid droplet. In addition, the method can include filling the transfer material into a recess provided in a transfer surface of a template by bringing the liquid droplet having the volume reduced to be less than the reference volume into contact with the transfer surface of the template.

摘要翻译： 根据一个实施例，公开了压印方法。 该方法可以包括通过将转印材料落到处理衬底的主表面上来形成体积大于预定参考体积的转印材料的液滴。 该方法可以包括通过挥发液滴来将液滴的体积减小到小于参考体积。 此外，该方法可以包括通过使体积减小到小于参考体积的液滴与模板的转印表面接触来将转印材料填充到设置在模板的转印表面中的凹部中。

公开(公告)号：US08202463B2

公开(公告)日：2012-06-19

申请号：US12426527

申请日：2009-04-20

申请人： Ikuo Yoneda ,  Tetsuro Nakasugi ,  Shinji Mikami

发明人： Ikuo Yoneda ,  Tetsuro Nakasugi ,  Shinji Mikami

IPC分类号： B29C59/00

CPC分类号： B29C37/006 ,  B29C35/0888 ,  B29C37/0053 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： An imprint method includes contacting a template on a first substrate. The template includes a pattern to be transferred on the first substrate. The first substrate includes a first semiconductor substrate, and a first light curable resin coated on the first semiconductor substrate. The method further includes separating the template from the first substrate, and removing particles adhered on the template. The particle removal includes: pressing the template on an adhesive member which is distinct from the first substrate. The adhesive member includes a dummy substrate, a particle removing film formed on the dummy substrate and configured to remove the particles, and a second light curable resin coated on the particle removing film. The second light curable resin is thicker than the first light curable resin.

摘要翻译： 压印方法包括在第一衬底上接触模板。 模板包括要在第一基板上转印的图案。 第一基板包括第一半导体基板和涂覆在第一半导体基板上的第一光固化树脂。 该方法还包括从第一基底分离模板，以及除去附着在模板上的颗粒。 颗粒去除包括：将模板压在与第一基板不同的粘合剂构件上。 所述粘合部件包括虚拟基板，形成在所述虚设基板上并构成为除去所述粒子的除粒膜，以及涂覆在所述除粒膜上的第二光固化树脂。 第二光固化树脂比第一光固化树脂厚。

公开(公告)号：US20100075443A1

公开(公告)日：2010-03-25

申请号：US12553906

申请日：2009-09-03

申请人： Ikuo YONEDA ,  Tetsuro Nakasugi ,  Masamitsu Itoh ,  Ryoichi Inanami

发明人： Ikuo YONEDA ,  Tetsuro Nakasugi ,  Masamitsu Itoh ,  Ryoichi Inanami

IPC分类号： H01L21/66 ,  G06K9/00

CPC分类号： G01N21/956 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： A template inspection method for performing defect inspection of a template, by bringing a pattern formation surface of a template used to form a pattern close to a first fluid coated on a flat substrate, filling the first fluid into a pattern of the template, and by performing optical observation of the template in a state that the first fluid is sandwiched between the template and the substrate, wherein a difference between an optical constant of the first fluid and an optical constant of the template is larger than a difference between an optical constant of air and the optical constant of the template.

摘要翻译： 一种用于对模板进行缺陷检查的模板检查方法，通过将用于形成图案的模板的图案形成表面靠近涂覆在平坦基板上的第一流体，将第一流体填充到模板的图案中，以及通过 在第一流体夹在模板和基板之间的状态下进行模板的光学观察，其中第一流体的光学常数与模板的光学常数之间的差异大于模板的光学常数之间的差异 空气和模板的光学常数。

公开(公告)号：US20090267267A1

公开(公告)日：2009-10-29

申请号：US12426527

申请日：2009-04-20

申请人： Ikuo Yoneda ,  Tetsuro Nakasugi ,  Shinji Mikami

发明人： Ikuo Yoneda ,  Tetsuro Nakasugi ,  Shinji Mikami

IPC分类号： B29C59/00

CPC分类号： B29C37/006 ,  B29C35/0888 ,  B29C37/0053 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： An imprint method includes contacting a template on a substrate, the template including a pattern to be transferred on the substrate, separating the template from the substrate, and removing particle adhered on the template before contacting the template on the substrate, the removing the particle including pressing the template on an adhesive member and separating the pressed template from the adhesive member, wherein adhesiveness of the adhesive member to the template is higher than adhesiveness of the adhesive member to the substrate.

摘要翻译： 压印方法包括使基板上的模板接触，所述模板包括要在基板上转印的图案，将模板与基板分离，以及在与基板之间的模板接触之前除去附着在模板上的颗粒，除去包括 将模板压在粘合剂构件上并将压制模板与粘合构件分离，其中粘合剂与模板的粘合性高于粘合剂与基材的粘合性。

公开(公告)号：US20090095711A1

公开(公告)日：2009-04-16

申请号：US12237806

申请日：2008-09-25

申请人： Takeshi Koshiba ,  Yumi Nakajima ,  Tetsuro Nakasugi ,  Kazuo Tawarayama ,  Ikuo Yoneda ,  Hiroyuki Mizuno

发明人： Takeshi Koshiba ,  Yumi Nakajima ,  Tetsuro Nakasugi ,  Kazuo Tawarayama ,  Ikuo Yoneda ,  Hiroyuki Mizuno

IPC分类号： B44C1/22 ,  B29C43/02

CPC分类号： B29C43/021 ,  B29C33/303 ,  B29C43/003 ,  B29C43/58 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/142 ,  B29C2043/525 ,  B29C2043/5833 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7088

摘要： A microfabrication apparatus for pressing an original plate including a pattern down on a substrate to transfer the pattern on the substrate includes a first measurement unit for measuring relative positional displacement between the substrate and the plate above the substrate, a position correction unit for correcting relative position between the substrate and the plate such that the pattern is to be transferred on a first predetermined position of the substrate based on the relative positional displacement measured by the first measurement unit, a pressing unit for pressing the plate above the substrate down on the substrate to transfer the pattern on the substrate in a state that the relative positional displacement between the substrate and the plate is corrected by the position correction unit, and a second measurement unit for measuring relative positional relationship between the pattern transferred on the substrate and a pattern previously formed on the substrate.

摘要翻译： 一种用于将包括图案的原稿板压在基板上以将图案转印到基板上的微加工装置包括：第一测量单元，用于测量基板和基板上方的板之间的相对位置偏移;位置校正单元，用于校正相对位置 在基板和板之间，基于由第一测量单元测量的相对位置位移，将图案转印到基板的第一预定位置上;按压单元，用于将基板上方的基板向下压在基板上， 在通过位置校正单元校正基板和板之间的相对位置偏移的状态下，在基板上转印图案;以及第二测量单元，用于测量在基板上传送的图案与先前形成的图案之间的相对位置关系 在基板上。

公开(公告)号：US20080001077A1

公开(公告)日：2008-01-03

申请号：US11808070

申请日：2007-06-06

申请人： Tetsuro Nakasugi ,  Takeshi Koshiba

发明人： Tetsuro Nakasugi ,  Takeshi Koshiba

IPC分类号： G01D18/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： A charged particle beam drawing apparatus is disclosed, which includes a drawing section which draws a pattern on a resist film applied to a substrate to be processed on which a under-layer mark is formed, by a charged particle beam, a position computing section which computes a position of the under-layer mark and a position of a displacement measuring pattern drawn by the drawing section on the resist film using a correction coefficient, by scanning the under-layer mark and the displacement measuring pattern by a charged particle beam, a displacement amount computing section which computes an amount of displacement from the positions of the under-layer mark and the displacement measuring pattern, and a correcting section which corrects the correction coefficient according to the amount of displacement.

摘要翻译： 公开了一种带电粒子束描绘装置，其包括：绘制部分，其通过带电粒子束在施加到其上形成底层标记的待处理基板上的抗蚀剂膜上绘制图案;位置计算部分， 使用校正系数，通过用带电粒子束扫描下层标记和位移测量图案，计算下层标记的位置和由图形部分在抗蚀剂膜上绘制的位移测量图案的位置， 位移量计算部，其从所述下层标记和所述位移测量图案的位置计算位移量;以及校正部，其根据所述位移量来校正所述校正系数。

公开(公告)号：US06941008B2

公开(公告)日：2005-09-06

申请号：US10407126

申请日：2003-04-07

申请人： Atsushi Ando ,  Kazuyoshi Sugihara ,  Katsuya Okumura ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Atsushi Ando ,  Kazuyoshi Sugihara ,  Katsuya Okumura ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01J37/304 ,  H01J37/317 ,  H01L21/027 ,  G06K9/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/7045 ,  G03F7/70675 ,  H01J37/3045 ,  H01J37/3174 ,  Y10S430/143

摘要： To achieve down-sizing and improvements of throughputs, light exposure and charge beam exposure are sometimes used together. In case of performing exposure of a desired pattern in a plurality of stages, a positional displacement of each of exposure patterns in the stages leads to a decrease in exposure accuracy. According to the present invention, in case of forming a fine pattern by exposure after exposure of a rough pattern, the exposure position of the rough pattern is adjusted, based on a latent image of the rough pattern which has been subjected to exposure. As a result, a positional-displacement between rough and fine patterns is reduced so that a desired pattern can be formed with high accuracy.

摘要翻译： 为了实现规模缩小和吞吐量的提高，有时一起使用曝光和电荷束曝光。 在多级中进行期望图案的曝光的情况下，各级的曝光图案的位置偏移导致曝光精度降低。 根据本发明，在粗糙图案曝光后通过曝光形成精细图案的情况下，基于经受曝光的粗糙图案的潜像，调整粗糙图案的曝光位置。 结果，粗略和精细图案之间的位置偏移减小，从而可以高精度地形成期望的图案。

公开(公告)号：US06897454B2

公开(公告)日：2005-05-24

申请号：US10443856

申请日：2003-05-23

申请人： Noriaki Sasaki ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Noriaki Sasaki ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： G03F1/20 ,  G03F1/68 ,  G03F7/20 ,  H01J37/317 ,  H01L21/027 ,  A61N5/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/70475 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/31761 ,  H01J2237/31776

摘要： An exposure method using an energy beam exposure apparatus capable of controlling magnitude relation between blurs of energy beam in first and second directions for exposing a pattern on a sample in the apparatus in a state in which the blur of energy beam in one direction of the first and second directions is set smaller than the blur of energy beam in the other direction comprises adjusting the magnitude relation of the blurs of energy beam in the first and second directions, adjusting the direction of the sample in the apparatus on the basis of the pattern and the magnitude relation of the blurs of energy beam in the first and second directions, and projecting the pattern onto the sample by exposing the sample to the energy beam and using shape correction of the pattern needed to compensate blurs of energy beam in the first and second directions.

摘要翻译： 一种使用能量束曝光装置的曝光方法，能量束曝光装置能够控制能量束在第一和第二方向上的模糊之间的大小关系，用于在第一和第二方向上的能量束的一个方向上的能量束的模糊的状态下暴露在装置中的样品上的图案 并且将第二方向设定为小于在另一方向上的能量束的模糊包括调整能量束在第一和第二方向上的模糊的大小关系，基于图案调整装置中的样本的方向，以及 能量束在第一和第二方向上的模糊的大小关系，以及通过将样本暴露于能量束并且使用形状校正来补偿第一和第二方向上的能量束的模糊所需的图案，将图案投影到样本上 方向。

公开(公告)号：US20050048413A1

公开(公告)日：2005-03-03

申请号：US10893947

申请日：2004-07-20

申请人： Tetsuro Nakasugi

发明人： Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  H01L21/3213

CPC分类号： H01L21/32139 ,  G03F7/093 ,  G03F7/11 ,  H01L21/0275

摘要： There is disclosed a pattern forming method comprising providing a first film having conductivity above a substrate to be processed, providing a second film having an acid diffusion preventing function above the first film, providing a third film having photosensitivity on the second film, and exposing a predetermined pattern on the third film by applying an energy beam onto the third film.

摘要翻译： 公开了一种图案形成方法，包括提供在待加工基材上方具有导电性的第一膜，在第一膜上方提供具有酸扩散防止功能的第二膜，在第二膜上提供具有光敏性的第三膜， 通过将能量束施加到第三膜上而在第三膜上的预定图案。