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    CHEMICAL AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITIONS
    71.
    发明申请
    CHEMICAL AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITIONS 失效
    化学放大光电组合物

    公开(公告)号：US20030232270A1

    公开(公告)日：2003-12-18

    申请号：US10154826

    申请日：2002-05-28

    申请人： Everlight USA, Inc.

    发明人： Chi-Sheng Chen ,  Yen-Cheng Li ,  Meng-Hsum Cheng

    IPC分类号： G03F007/039 ,  G03F007/30

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/111

    摘要： The present invention discloses a chemical amplified photoresist composition including a polymer having a repeated unit of the formula (II), 1 wherein R1 is H, haloalkyl group or C1-C4 alkyl group; R2 is hydroxyl group, C1-C8 alkoxy group or C1-C8 thioalkyl group; G is (CH2)n, O or S, wherein n is 0, 1, 2, 3 or 4; Rc is a lactone group; and m is 1, 2 or 3. The chemical amplified photoresist composition of the present invention can be applied to general lithography processes, and particularly to the lithography of ArF, KrF or the like light sources, and exhibit excellent resolution, figures and photosensitivity.

    摘要翻译： 本发明公开了一种化学放大光致抗蚀剂组合物，其包含具有式（II）重复单元的聚合物，其中R 1为H，卤代烷基或C 1 -C 4烷基; R 2是羟基，C 1 -C 8烷氧基或C 1 -C 8硫代烷基; G是（CH 2）n，O或S，其中n是0,1,2,3或4; Rc是一个内酯基团; 并且m为1,2或3.本发明的化学放大光致抗蚀剂组合物可以应用于一般光刻工艺，特别适用于ArF，KrF等光刻的光刻，并且表现出优异的分辨率，图形和光敏性。

    Monomer for chemical amplified photoresist compositions
    72.
    发明申请
    Monomer for chemical amplified photoresist compositions 失效
    用于化学放大光致抗蚀剂组合物的单体

    公开(公告)号：US20030229234A1

    公开(公告)日：2003-12-11

    申请号：US10154797

    申请日：2002-05-28

    申请人： Everlight USA, Inc.

    发明人： Chi-Sheng Chen ,  Yen-Cheng Li ,  Meng-Hsum Cheng

    IPC分类号： C07D333/76 ,  C07D37/93 ,  C07C069/52

    CPC分类号： C07D493/14 ,  C07D307/77 ,  C07D307/88

    摘要： The present invention discloses a compound having the following formula (I), 1 wherein R1 is H, haloalkyl group or C1-C4 alkyl group; R2 is hydroxyl group, C1-C8 alkoxy group or C1-C8 thioalkyl group; G is (CH2)n, O or S, wherein n is 0, 1, 2, 3 or 4; Rc is a lactone group; and m is 1, 2 or 3. This compound is a monomer and suitable for synthesis to form polymers with good hydrophilicity, adhesion and dry-etch resistance. Particularly, this compound can form photosensitive polymers or copolymers by reacting with suitable photosensitive monomers.

    摘要翻译： 本发明公开了具有下式（I）的化合物，其中R 1是H，卤代烷基或C 1 -C 4烷基; R 2是羟基，C 1 -C 8烷氧基或C 1 -C 8硫代烷基; G是（CH 2）n，O或S，其中n是0,1,2,3或4; Rc是一个内酯基团; 并且m为1,2或3.该化合物为单体，适用于合成以形成具有良好亲水性，粘附性和耐干蚀刻性的聚合物。 特别地，该化合物可以通过与合适的感光单体反应形成光敏聚合物或共聚物。

    Black photosensitive resin composition and light-blocking layer using the same
    73.
    发明授权
    Black photosensitive resin composition and light-blocking layer using the same 有权
    黑色感光性树脂组合物及使用其的遮光层

    公开(公告)号：US09085696B2

    公开(公告)日：2015-07-21

    申请号：US13859875

    申请日：2013-04-10

    申请人： Everlight USA, Inc.

    发明人： Fan-Sen Lin ,  Hui-Huan Hsu ,  Bo-Nan Lin ,  Chih-Yi Chang

    IPC分类号： C08L83/04

    CPC分类号： C08L83/04 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C08K3/04 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/105 ,  C08L83/06

    摘要： The present invention provides a novel black photosensitive resin composition, which includes: a polysiloxane, a black pigment, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a solvent. Accordingly, the black photosensitive resin composition of the present invention can meet the requirements for optical density and resistance under high temperature and is advantageous to the application in a touch panel. In addition, the present invention further provides a light-blocking layer that is manufactured from the black photosensitive resin composition.

    摘要翻译： 本发明提供一种新型的黑色感光性树脂组合物，其包含：聚硅氧烷，黑色颜料，碱溶性树脂，光聚合性化合物，光聚合引发剂和溶剂。 因此，本发明的黑色感光性树脂组合物可以满足高温下的光密度和电阻的要求，并且有利于在触摸面板中的应用。 另外，本发明还提供由黑色感光性树脂组合物制造的遮光层。

    BLACK PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND LIGHT-BLOCKING LAYER USING THE SAME
    74.
    发明申请
    BLACK PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND LIGHT-BLOCKING LAYER USING THE SAME 有权
    黑色光敏树脂组合物和使用其的遮光层

    公开(公告)号：US20140100301A1

    公开(公告)日：2014-04-10

    申请号：US13859875

    申请日：2013-04-10

    申请人： EVERLIGHT USA, INC.

    发明人： Fan-Sen LIN ,  Hui-Huan HSU ,  Bo-Nan LIN ,  Chih-Yi CHANG

    IPC分类号： C08L83/04

    CPC分类号： C08L83/04 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C08K3/04 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/105 ,  C08L83/06

    摘要： The present invention provides a novel black photosensitive resin composition, which includes: a polysiloxane, a black pigment, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a solvent. Accordingly, the black photosensitive resin composition of the present invention can meet the requirements for optical density and resistance under high temperature and is advantageous to the application in a touch panel. In addition, the present invention further provides a light-blocking layer that is manufactured from the black photosensitive resin composition.

    摘要翻译： 本发明提供一种新型的黑色感光性树脂组合物，其包含：聚硅氧烷，黑色颜料，碱溶性树脂，光聚合性化合物，光聚合引发剂和溶剂。 因此，本发明的黑色感光性树脂组合物可以满足高温下的光密度和电阻的要求，并且有利于在触摸面板中的应用。 另外，本发明还提供由黑色感光性树脂组合物制造的遮光层。

    Electrolyte composition and dye-sensitized solar cell using the same
    77.
    发明申请
    Electrolyte composition and dye-sensitized solar cell using the same 审中-公开
    电解质组合物和使用其的染料敏化太阳能电池

    公开(公告)号：US20110100464A1

    公开(公告)日：2011-05-05

    申请号：US12654999

    申请日：2010-01-13

    申请人： Kuan-Wei Lee ,  Hsin-Yi Chen

    发明人： Kuan-Wei Lee ,  Hsin-Yi Chen

    IPC分类号： H01G9/028 ,  H01L31/0256

    CPC分类号： H01G9/2004 ,  Y02E10/542

    摘要： The present invention relates to an electrolyte composition, including: (a) an organic amine hydroiodide, a metal iodide, an imidazolium salt or a combination thereof; (b) iodine; (c) guanidine thiocyanate; (d) a benzimidazole derivative, a pyridine derivative or a combination thereof; and (e) polyethylene glycol and propylene carbonate. Accordingly, the electrolyte composition provided by the present invention exhibits excellent photoelectric conversion efficiency and long-term stability, and is suitable for a dye-sensitized solar cell. The present invention further provides a dye-sensitized solar cell using the above-mentioned electrolyte composition.

    摘要翻译： 本发明涉及电解质组合物，其包括：（a）有机胺氢碘酸盐，金属碘化物，咪唑鎓盐或其组合; （二）碘; （c）硫氰酸胍; （d）苯并咪唑衍生物，吡啶衍生物或其组合; 和（e）聚乙二醇和碳酸亚丙酯。 因此，本发明提供的电解质组合物具有优异的光电转换效率和长期的稳定性，适用于染料敏化太阳能电池。 本发明还提供了使用上述电解质组合物的染料敏化太阳能电池。

    Dye-sensitized solar cell and photoanode thereof
    78.
    发明申请
    Dye-sensitized solar cell and photoanode thereof 审中-公开
    染料敏化太阳能电池及其光电阳极

    公开(公告)号：US20110100462A1

    公开(公告)日：2011-05-05

    申请号：US12654998

    申请日：2010-01-13

    申请人： Wei-Cheng Tang ,  Ming-Si Wu ,  Kuan-Wei Lee ,  Hsin-Yi Chen

    发明人： Wei-Cheng Tang ,  Ming-Si Wu ,  Kuan-Wei Lee ,  Hsin-Yi Chen

    IPC分类号： H01L51/46 ,  H01L51/48

    CPC分类号： H01M14/005 ,  C09B23/105 ,  C09B57/00 ,  Y02E10/542 ,  Y02P70/521

    摘要： A dye-sensitized solar cell, a photoanode thereof, and a method for manufacturing the same are disclosed. The photoanode of the dye-sensitized solar cell of the present invention is prepared by a porous semiconductor layer absorbing two kinds of organic sensitized dyes, and one organic sensitized dye is represented by the following formula (I): wherein, D1, D2, R1, R2, R3, R4, B, and n are defined the same as the specification.These two kinds of the organic sensitized dyes have comparative absorption peaks, so the photoanode of the present invention can absorb solar spectrum with larger wavelength range. Hence, the dye-sensitized solar cell using the photoanode of the present invention has excellent photoelectric conversion efficiency.

    摘要翻译： 公开了染料敏化太阳能电池及其光电阳极及其制造方法。 本发明的染料敏化太阳能电池的光电阳极通过吸收两种有机增感染料的多孔半导体层制备，一种有机增感染料由下式（I）表示：其中，D1，D2，R1 R2，R3，R4，B和n定义与说明书相同。 这两种有机敏化染料具有比较的吸收峰，因此本发明的光电阳极可以吸收更大波长范围的太阳光谱。 因此，使用本发明的光电阳极的染料敏化太阳能电池具有优异的光电转换效率。

    Silicone containing encapsulant
    80.
    发明申请
    Silicone containing encapsulant 失效
    含硅胶囊

    公开(公告)号：US20110054076A1

    公开(公告)日：2011-03-03

    申请号：US12591860

    申请日：2009-12-03

    申请人： Tsung-Yi Chao ,  Wen-Jeng Lee ,  Der-Gun Chou ,  Yen-Cheng Li ,  Meng-Huang Yan

    发明人： Tsung-Yi Chao ,  Wen-Jeng Lee ,  Der-Gun Chou ,  Yen-Cheng Li ,  Meng-Huang Yan

    IPC分类号： C08L63/00

    CPC分类号： C08L63/00 ,  C08G59/4215 ,  C08G77/14 ,  C08K5/3475 ,  C08K5/3492 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

    摘要： The present invention relates to a silicone containing encapsulant composition. One embodiment of the encapsulant composition comprises (a) 30˜60 weight % of an epoxy resin; (b) 30˜60 weight % of an acid anhydride curing agent; (c) 0.1˜30 weight % of a Carbinol function silicone resin which can form a homogeneous mixture with (a) and (b) described above; and (d) 0.1˜5 weight % of a reactive UV absorber or HALS; and reactive anti-oxidant and/or phosphor containing flame retardant. The encapsulant composition can be used for a solid state light emitting device to achieve low internal stress and better-anti-yellowing performance.

    摘要翻译： 本发明涉及含硅氧烷的密封剂组合物。 密封剂组合物的一个实施方案包括（a）30〜60重量％的环氧树脂; （b）30〜60重量％的酸酐固化剂; （c）0.1〜30重量％的可与上述（a）和（b）形成均匀混合物的甲醇官能硅氧烷树脂; 和（d）0.1〜5重量％的反应性紫外线吸收剂或HALS; 和反应性抗氧化剂和/或含阻燃剂的磷光体。 密封剂组合物可用于固态发光器件以实现低内应力和更好的抗黄变性能。