公开(公告)号：US07922865B2

公开(公告)日：2011-04-12

申请号：US10362879

申请日：2001-08-28

申请人： Koji Miyata ,  Jun Hirose ,  Akira Kodashima ,  Shigeki Tozawa ,  Kazuhiro Kubota ,  Yuki Chiba

发明人： Koji Miyata ,  Jun Hirose ,  Akira Kodashima ,  Shigeki Tozawa ,  Kazuhiro Kubota ,  Yuki Chiba

IPC分类号： H01L21/306

CPC分类号： H01J37/3266 ,  H01J37/3408

摘要： In a magnetic field generator for magnetron plasma generation which comprises a dipole-ring magnet with a plurality of columnar anisotropic segment magnets arranged in a ring-like manner, or in an etching apparatus and a method both of which utilize the magnetic field generator, the uniformity of plasma treatment over the entire surface of a wafer (workpiece) is improved by controlling the direction of the magnetic field relative to the working surface of the wafer (workpiece) which is subject to plasma treatment such as etching.

摘要翻译： 在用于磁控管等离子体生成的磁场发生器中，其包括具有以环状布置的多个柱状各向异性区段磁体的偶极环磁体，或者在利用磁场发生器的蚀刻装置和方法中， 通过控制相对于进行诸如蚀刻等离子体处理的晶片（工件）的工作表面的磁场方向来改善晶片（工件）整个表面上的等离子体处理的均匀性。

公开(公告)号：US20070131167A1

公开(公告)日：2007-06-14

申请号：US11506773

申请日：2006-08-21

申请人： Akira Kodashima ,  Shinichi Miyano ,  Takehiro Kato

发明人： Akira Kodashima ,  Shinichi Miyano ,  Takehiro Kato

IPC分类号： H01L21/306 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01L21/6719

摘要： A substrate processing apparatus which enables the work efficiency of maintenance to be improved. The substrate processing apparatus comprises a plurality of processing chambers 100 for carrying out plasma processing on a wafer to be processed. Each processing chamber 100 has a chamber lid 200 that can be suspended and supported by a crane unit 500. The crane unit 500 comprises an air cylinder 510 and a linear guide 520. The air cylinder 510 holds the chamber lid 200 movably in a vertical direction thereabove. The linear guide 520 holds the chamber lid 200 movably in a horizontal direction.

摘要翻译： 能够提高维护工作效率的基板处理装置。 基板处理装置包括用于对要处理的晶片执行等离子体处理的多个处理室100。 每个处理室100具有可由起重机单元500悬挂和支撑的室盖200。 起重机单元500包括气缸510和直线导轨520。 气缸510沿着其上方的垂直方向可移动地保持室盖200。 线性引导件520沿水平方向可移动地保持室盖200。

公开(公告)号：US07883579B2

公开(公告)日：2011-02-08

申请号：US11506773

申请日：2006-08-21

申请人： Akira Kodashima ,  Shinichi Miyano ,  Takehiro Kato

发明人： Akira Kodashima ,  Shinichi Miyano ,  Takehiro Kato

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23F1/00 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/6719

摘要： A substrate processing apparatus which enables the work efficiency of maintenance to be improved. The substrate processing apparatus comprises a plurality of processing chambers 100 for carrying out plasma processing on a wafer to be processed. Each processing chamber 100 has a chamber lid 200 that can be suspended and supported by a crane unit 500. The crane unit 500 comprises an air cylinder 510 and a linear guide 520. The air cylinder 510 holds the chamber lid 200 movably in a vertical direction thereabove. The linear guide 520 holds the chamber lid 200 movably in a horizontal direction.

摘要翻译： 能够提高维护工作效率的基板处理装置。 基板处理装置包括用于对要处理的晶片执行等离子体处理的多个处理室100。 每个处理室100具有能够由起重机单元500悬挂和支撑的室盖200.起重机单元500包括气缸510和直线导轨520.气缸510沿垂直方向可移动地保持室盖200 在上面 线性引导件520沿水平方向可移动地保持室盖200。