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    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    1.
    发明授权
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    平版印刷设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US07733463B2

    公开(公告)日：2010-06-08

    申请号：US11418452

    申请日：2006-05-05

    申请人： Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Arjan Martin Van Der Wel

    发明人： Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Arjan Martin Van Der Wel

    IPC分类号： G03B27/62 ,  G03B27/64 ,  G03F1/00

    CPC分类号： G03F7/707

    摘要： A support constructed to support a patterning object, the patterning object being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, is disclosed, wherein the support comprises a plurality of structures having a plurality of local contact areas, respectively, on which the patterning object is disposed, in use, and a clamp configured to clamp the patterning object to the plurality of contact areas, wherein each structure is configured so that a local shear stiffness of each local contact area is substantially balanced with a local friction limit at each local contact area, respectively.

    摘要翻译： 公开了一种构造成支撑图案化物体的支撑件，所述图案形成物体能够将辐射束在其横截面中赋予图案以形成图案化的辐射束，其中所述支撑件包括多个具有多个局部 在使用中分别设置有图案形成对象的接触区域和被构造成将图案形成对象夹持到多个接触区域的夹具，其中每个结构被构造成使得每个局部接触区域的局部剪切刚度基本上 在每个局部接触区域分别与局部摩擦极限平衡。

    Lithographic apparatus and stage apparatus
    2.
    发明授权
    Lithographic apparatus and stage apparatus 失效
    平版印刷设备和舞台设备

    公开(公告)号：US07667822B2

    公开(公告)日：2010-02-23

    申请号：US11353249

    申请日：2006-02-14

    申请人： Fransicus Mathijs Jacobs ,  Erik Roelof Loopstra ,  Harmen Klaas Van der Schoot ,  Arjan Franklin Bakker ,  Arjan Martin Van der Wel ,  Krijn Frederik Bustraan ,  Marcel Koenraad Marie Baggen

    发明人： Fransicus Mathijs Jacobs ,  Erik Roelof Loopstra ,  Harmen Klaas Van der Schoot ,  Arjan Franklin Bakker ,  Arjan Martin Van der Wel ,  Krijn Frederik Bustraan ,  Marcel Koenraad Marie Baggen

    IPC分类号： G03B27/62

    CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/707

    摘要： A lithographic apparatus includes a support constructed to support a patterning device. The patterning device is capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The support includes a force actuator device to exert a force onto the patterning device in a direction of movement of the support. The force actuator device includes a movable part which is pivotably about a pivot axis and thereby connected to the support. The movable part is in the direction of movement of the support substantially balanced with respect to the pivot axis. The force actuator device further includes an actuator to exert via the movable part the force onto the patterning device, to at least partly compensate for the information or a risk of slippage due to acceleration of the support in the direction of movement.

    摘要翻译： 光刻设备包括构造成支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置能够在其横截面中赋予具有图案的辐射束以形成图案化的辐射束。 该支撑件包括一个力促动器装置，以在支撑件的移动方向上向图案形成装置施加力。 力致动器装置包括可枢转地围绕枢转轴线并由此连接到支撑件的可移动部件。 可移动部分在支撑件的运动方向上相对于枢转轴线基本平衡。 力致动器装置还包括致动器，其经由可移动部件施加力到图案形成装置上，以至少部分地补偿由于支撑件沿着移动方向的加速而导致的信息或滑动的风险。