公开(公告)号：US07625687B2

公开(公告)日：2009-12-01

申请号：US10555594

申请日：2004-06-30

申请人： Sanlin Hu ,  Eric Scott Moyer ,  Sheng Wang ,  David Lee Wyman

发明人： Sanlin Hu ,  Eric Scott Moyer ,  Sheng Wang ,  David Lee Wyman

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38 ,  C08G77/12

CPC分类号： G03F7/0757 ,  C08G77/04 ,  C08G77/12 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

摘要： This invention pertains to a silsesquioxane resin with improved lithographic properties (such as etch-resistance, transparency, resolution, sensitivity, focus latitude, line edge roughness, and adhesion) suitable as a photoresist; a method for in-corporating the fluorinated or non-fluorinated functional groups onto silsesquioxane backbone. The silsesquioxane resins of this invention has the general structure (HSiO3/2)a(RSiO3/2)b wherein; R is an acid dissociable group, a has a value of 0.2 to 0.9 and b has a value of 0.1 to 0.8 and 0.9≦a+b≦1.0.

摘要翻译： 本发明涉及适合作为光致抗蚀剂的具有改进的光刻性质（例如耐蚀刻性，透明度，分辨率，灵敏度，聚焦宽度，线边缘粗糙度和粘合）的倍半硅氧烷树脂; 将氟化或非氟化官能团合并在倍半硅氧烷骨架上的方法。 本发明的倍半硅氧烷树脂具有通式（HSiO 3/2）a（RSiO 3/2）b，其中： R为酸解离基，a为0.2〜0.9，b为0.1〜0.8，0.9 <= a + b <= 1.0。