公开(公告)号：US06410928B1

公开(公告)日：2002-06-25

申请号：US09460938

申请日：1999-12-14

申请人： Jan Verhoeven ,  Boris Lastdrager ,  Adriaan Tip ,  Dirk K. G. De Boer

发明人： Jan Verhoeven ,  Boris Lastdrager ,  Adriaan Tip ,  Dirk K. G. De Boer

IPC分类号： A61N500

CPC分类号： G03F7/70008 ,  G03F7/70058

摘要： An EUV illumination system comprises an EUV radiation source unit (1) and at least one EUV radiation-reflecting mirror (10), which mirror comprises a multilayer structure of first layers (12) of a first material alternating with second layers (13) of a second material, and which radiation source unit comprises an electron source (2) for supplying an electron beam (EB) and a medium (3) which converts the electron beam into a beam of photons (IB). As the medium (3) comprises at least one material that is equal to one of the materials of the mirror multilayer structure, the photon beam (IB) has a relatively large intensity.

摘要翻译： EUV照明系统包括EUV辐射源单元（1）和至少一个EUV辐射反射镜（10），该反射镜包括与第二层（13）交替的第一材料的第一层（12）的多层结构 第二材料，并且哪个辐射源单元包括用于提供电子束（EB）的电子源（2）和将电子束转换成光子束（IB）的介质（3）。 由于介质（3）包括至少一种等于反射镜多层结构材料之一的材料，所以光子束（IB）具有相对较大的强度。

公开(公告)号：US20110242837A1

公开(公告)日：2011-10-06

申请号：US13139548

申请日：2009-12-08

申请人： Hugo J. Cornelissen ,  Dirk K. G. De Boer

发明人： Hugo J. Cornelissen ,  Dirk K. G. De Boer

IPC分类号： H01L33/02 ,  G02B6/00

CPC分类号： G02B6/002 ,  G02B6/0035 ,  G02B6/0038 ,  G02B6/0068 ,  G02B6/0076

摘要： The present invention relates to a device for mixing light. More specifically, the invention relates to a device for mixing light 100 comprising at least two light sources wherein a first light source 101 emit light of a first wavelength and a second light source 102 emit light of a second wavelength, and further comprising at least one light guide 103 which has a diffraction grating 104 for outcoupling of light and a facet for each of the at least two light sources for incoupling of light, whereby a first facet 105 is adapted to couple light of the first wavelength into the at least one light guide 103, and a second facet 106 is adapted to couple light of the second wavelength into the at least one light guide 103.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于混合光的装置。 更具体地，本发明涉及一种用于混合光100的装置，其包括至少两个光源，其中第一光源101发射第一波长的光，而第二光源102发射第二波长的光，并且还包括至少一个 光导103具有用于光耦合的衍射光栅104和用于至少两个光源中的每一个用于光耦合的小面，由此第一刻面105适于将第一波长的光耦合到至少一个光 引导件103和第二刻面106适于将第二波长的光耦合到至少一个光导103中。

公开(公告)号：US5622525A

公开(公告)日：1997-04-22

申请号：US213768

申请日：1994-03-16

申请人： Jan Haisma ,  Peter W. De Haas ,  Dirk K. G. De Boer ,  Waltherus W. Van den Hoogenhof ,  Lambertus Postma

发明人： Jan Haisma ,  Peter W. De Haas ,  Dirk K. G. De Boer ,  Waltherus W. Van den Hoogenhof ,  Lambertus Postma

IPC分类号： B24B1/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  G11B5/127 ,  G11B5/187 ,  G11B5/31

CPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  G11B5/3163

摘要： Method of polishing a surface (5a) of copper or an alloy comprising mainly copper, in which a polishing means is moved across the surface while exerting a polishing pressure of approximately 500 g/cm.sup.2 for obtaining a plane and smooth polished surface without any defects. A composition of a polishing component comprising a colloidal suspension of SiO.sub.2 particles having an average particle size of between 20 and 50 nm in an alkali solution, demineralized water and a chemical activator is used as a polishing means.

摘要翻译： 抛光铜或主要是铜的合金的表面（5a）的方法，其中抛光装置在表面上移动，同时施加约500g / cm 2的抛光压力，以获得平面和光滑的抛光表面而没有任何缺陷。 作为研磨装置，使用在碱溶液，软化水和化学活化剂中含有平均粒径为20〜50nm的SiO 2颗粒的胶体悬浮液的组合物。