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    Slightly water-soluble metal salts, a process for the preparation thereof, and the use thereof as gloss additives in the electrolytic deposition of metals
    1.
    发明授权
    Slightly water-soluble metal salts, a process for the preparation thereof, and the use thereof as gloss additives in the electrolytic deposition of metals 有权
    微溶于水的金属盐，其制备方法及其在金属的电解沉积中作为光泽添加剂的用途

    公开(公告)号：US5981793A

    公开(公告)日：1999-11-09

    申请号：US142857

    申请日：1998-10-28

    申请人： Eberhard Knaak ,  Joachim Heyer ,  Marlies Kleinfeld ,  Christel Van Wijngaarden

    发明人： Eberhard Knaak ,  Joachim Heyer ,  Marlies Kleinfeld ,  Christel Van Wijngaarden

    IPC分类号： C07C327/18 ,  C25D3/46 ,  C07C51/305

    CPC分类号： C25D3/46 ,  C07C327/18

    摘要： The slightly water-soluble metal salts having the formula I ##STR1## wherein R.sub.1 and R.sub.2 are the same or different and represent hydrogen or a lower alkyl group of from 1 to 3 carbon atoms, M is the cation of a metal which forms slightly water-soluble sulfides, and n means 1 or 2, and mixtures thereof are prepared by reacting carbon disulfide with ketones having the formula II: ##STR2## optionally with the addition of non-aqueous inert solvents, in the presence of strong alkali, preferably potassium hydroxide, followed by precipitation of the slightly water-soluble metal salts of formula I by the addition of aqueous solutions of metal salts of the metals M. They are used as gloss additives to electrolytic baths.

    摘要翻译： PCT No.PCT / EP97 / 01389第 371日期：1998年9月16日 102（e）日期1998年9月16日PCT 1997年3月20日PCT公布。 第WO97 / 35840号公报 日期1997年10月2日具有式I的轻微水溶性金属盐，其中R 1和R 2相同或不同，表示氢或1至3个碳原子的低级烷基，M是形成金属的阳离子 微水溶性硫化物，n表示1或2，并且其混合物通过二硫化碳与具有式II的酮反应制备：任选地加入非水惰性溶剂，在强碱存在下，优选氢氧化钾 ，然后通过加入金属M的金属盐的水溶液沉淀出微溶于式I的水溶性金属盐。它们用作电解浴的光泽添加剂。

    Process and electrolyte for depositing lead and lead-containing layers
    2.
    发明授权
    Process and electrolyte for depositing lead and lead-containing layers 失效
    用于沉积铅和含铅层的工艺和电解质

    公开(公告)号：US5443714A

    公开(公告)日：1995-08-22

    申请号：US848952

    申请日：1992-05-29

    申请人： Karl-Jurgen Schmidt ,  Eberhard Knaak

    发明人： Karl-Jurgen Schmidt ,  Eberhard Knaak

    IPC分类号： C25D3/36 ,  C25D3/56 ,  C25D3/32 ,  C25D3/38

    CPC分类号： C25D3/56 ,  C25D3/36

    摘要： A process for acidic electrolytical deposition of lead layers and predominantly lead-containing layers onto surfaces using an electrolyte containing lead salts and acids, in particular alkanesulfonic acid, borofluoric acid or silicofluoric acid, with non-ionic surfactants and cationic or amphoteric surfactants being added to the electrolyte. The process can be operated at current densities of from 0.5 to 20 A/dm.sup.2 and at a pH value below 1.

    摘要翻译： PCT No.PCT / EP90 / 01670 Sec。 371日期：1992年5月29日 102（e）日期1992年5月29日PCT 1990年10月5日PCT PCT。 公开号WO91 / 05890 日期1991年3月2日。一种使用含有铅盐和酸，特别是烷基磺酸，硼氟酸或硅氟酸的电解质与非离子表面活性剂的酸性电解沉积铅层和主要含铅层到表面上的方法， 将阳离子或两性表面活性剂加入到电解质中。 该过程可以以0.5至20A / dm 2的电流密度和低于1的pH值操作。