公开(公告)号：US09329503B2

公开(公告)日：2016-05-03

申请号：US13698171

申请日：2011-04-06

申请人： Vadim Iourievich Timoshkov ,  Jan Bernard Plechelmus van Schoot ,  Antonius Theodorus Wilhelmus Kempen ,  Andrei Mikhailovich Yakunin ,  Edgar Alberto Osorio Oliveros

发明人： Vadim Iourievich Timoshkov ,  Jan Bernard Plechelmus van Schoot ,  Antonius Theodorus Wilhelmus Kempen ,  Andrei Mikhailovich Yakunin ,  Edgar Alberto Osorio Oliveros

IPC分类号： G03B27/70 ,  G03F7/20 ,  B82Y10/00 ,  C23C14/48 ,  C23C14/58 ,  G21K1/06

CPC分类号： G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  C23C14/48 ,  C23C14/586 ,  G21K1/062

摘要： There is provided a multilayer mirror (80) comprising a layer of a first material (84) and a layer of silicon (82). The layer of the first material and the layer of silicon form a stack of layers. An exposed region of the layer of silicon comprises a modification that is arranged to improve the robustness of the exposed region of silicon.

摘要翻译： 提供了包括第一材料（84）和硅层（82）的层的多层反射镜（80）。 第一材料层和硅层形成一叠层。 硅层的暴露区域包括被设置为改善暴露的硅区域的鲁棒性的修改。

公开(公告)号：US20130057840A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：US13698171

申请日：2011-04-06

申请人： Vadim Iourievich Timoshkov ,  Jan Bernard Plechelmus Van Schoot ,  Antonius Theodorus Wilhelmu Kempen ,  Andrei Mikhailovich Yakunin ,  Edgar Alberto Osorio Oliveros

发明人： Vadim Iourievich Timoshkov ,  Jan Bernard Plechelmus Van Schoot ,  Antonius Theodorus Wilhelmu Kempen ,  Andrei Mikhailovich Yakunin ,  Edgar Alberto Osorio Oliveros

IPC分类号： G02B1/10 ,  C23C14/14 ,  G03B27/70

CPC分类号： G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  C23C14/48 ,  C23C14/586 ,  G21K1/062

摘要： There is provided a multilayer mirror (80) comprising a layer of a first material (84) and a layer of silicon (82). The layer of the first material and the layer of silicon form a stack of layers. An exposed region of the layer of silicon comprises a modification that is arranged to improve the robustness of the exposed region of silicon.

摘要翻译： 提供了包括第一材料（84）和硅层（82）的层的多层反射镜（80）。 第一材料层和硅层形成一叠层。 硅层的暴露区域包括被设置为改善暴露的硅区域的鲁棒性的修改。