公开(公告)号：US09897145B2

公开(公告)日：2018-02-20

申请号：US14890525

申请日：2014-04-23

申请人： Schaeffler Technologies AG & Co. KG

发明人： Bertram Haag ,  Yashar Musayev ,  Walter Holweger ,  Toni Blass ,  Tim Matthias Hosenfeldt ,  Arbogast Grunau

IPC分类号： C23C14/16 ,  F16C33/62 ,  C23C14/58 ,  F16C33/64

CPC分类号： F16C33/62 ,  C23C14/165 ,  C23C14/5806 ,  C23C14/5853 ,  C23C14/586 ,  F16C33/64 ,  F16C2202/04 ,  F16C2223/60 ,  F16C2240/60 ,  F16C2360/31

摘要： A coated component, in particular to a rolling bearing part, made from a metallic substrate (2), and a PVD coating (3), which is applied to the substrate (2), formed of chromium and having a thickness of less than 2 μm, wherein the PVD coating (3) forms the surface of the component, and a compound of chromium and at least one further element is formed on the component surface.

公开(公告)号：US20170186518A1

公开(公告)日：2017-06-29

申请号：US15129439

申请日：2015-03-26

申请人： REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MINNESOTA ,  UT-BATTELLE, LLC ,  UNIVERSITY OF TENNESSEE RESEARCH FOUNDATION

发明人： Jian-Ping Wang ,  Yanfeng Jiang ,  Craig A. Bridges ,  Michael Brady ,  Orlando Rios ,  Roberta A. Meisner ,  Lawrence F. Allard ,  Edgar Lara-Curzio ,  Shihai He

IPC分类号： H01F1/047 ,  H01F1/06 ,  C23C14/16 ,  C23C14/34 ,  C23C14/56 ,  C23C14/06 ,  H01F1/00 ,  C23C14/00

CPC分类号： H01F1/047 ,  B22F1/0018 ,  C22C38/001 ,  C22C38/002 ,  C22C2202/02 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/165 ,  C23C14/185 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/566 ,  C23C14/568 ,  C23C14/5806 ,  C23C14/586 ,  H01F1/0054 ,  H01F1/065 ,  H01F41/0253

摘要： The disclosure describes techniques for forming nanoparticles including Fe16N2 phase. In some examples, the nanoparticles may be formed by first forming nanoparticles including iron, nitrogen, and at least one of carbon or boron. The carbon or boron may be incorporated into the nanoparticles such that the iron, nitrogen, and at least one of carbon or boron are mixed. Alternatively, the at least one of carbon or boron may be coated on a surface of a nanoparticle including iron and nitrogen. The nano particle including iron, nitrogen, and at least one of carbon or boron then may be annealed to form at least one phase domain including at least one of Fe16N2, Fe16(NB)2, Fe16(NC)2, or Fe16(NCB)2.

公开(公告)号：US20170009331A1

公开(公告)日：2017-01-12

申请号：US15174230

申请日：2016-06-06

申请人： Hyundai Motor Company ,  Hyundai Steel Company

发明人： In Woong Lyo ,  Woong Pyo Hong ,  Kwang Hoon Choi ,  Hyuk Kang ,  Sang Jin Park ,  Yoon Suk Oh

IPC分类号： C23C14/02 ,  C23C14/54 ,  C23C14/14 ,  C23C14/34 ,  C23C14/50 ,  C23C14/06 ,  C23C14/32 ,  C23F15/00

CPC分类号： C23C14/025 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/14 ,  C23C14/32 ,  C23C14/325 ,  C23C14/345 ,  C23C14/505 ,  C23C14/54 ,  C23C14/586 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/42 ,  C23F15/00

摘要： Disclosed is a method and apparatus for forming a coating layer using a physical vapor deposition apparatus equipped with a sputtering apparatus and an arc ion plating apparatus, comprising: a first coating step of forming a Mo coating layer on a base material using a the sputtering apparatus and a Mo target and Ar gas; a nitrating step of forming a nitride film forming condition using an arc ion plating apparatus and Ar gas and N2 gas; a second coating step of forming a nano composite coating layer of Cr—Mo—N using the Mo target and Ar gas of the sputtering apparatus and the Ar gas, N2 gas and a Cr source of the arc ion plating apparatus at the same time; and a multi-coating step of forming a multi-layer having alternating Cr—Mo—N nano composite coating layers and Mo coating layers by revolving the base material around a central pivot.

摘要翻译： 公开了一种使用具有溅射装置和电弧离子镀装置的物理气相沉积装置形成涂层的方法和装置，包括：第一涂覆步骤，使用溅射装置在基材上形成Mo涂层 和Mo靶和Ar气; 使用电弧离子镀装置和Ar气体和N 2气体形成氮化物成膜条件的硝化步骤; 使用溅射装置的Mo靶和Ar气体以及电弧离子电镀装置的Ar气体，N 2气体和Cr源同时形成Cr-Mo-N的纳米复合涂层的第二涂覆步骤; 以及通过使基材围绕中心枢轴旋转而形成具有交替的Cr-Mo-N纳米复合涂层和Mo涂层的多层的多涂层步骤。

公开(公告)号：US09437702B2

公开(公告)日：2016-09-06

申请号：US14327985

申请日：2014-07-10

申请人： CANON ANELVA CORPORATION

发明人： Akira Matsuo ,  Yohsuke Shibuya ,  Naomu Kitano ,  Eitaroh Morimoto ,  Koji Yamazaki ,  Yu Sato ,  Takuya Seino

IPC分类号： H01L29/41 ,  H01L21/28 ,  H01L21/321 ,  H01L21/3205 ,  H01L29/49 ,  C23C14/35 ,  H01L21/8238 ,  C23C14/04 ,  C23C14/34 ,  C23C14/58 ,  H01J37/34 ,  H01L29/66 ,  H01L21/285 ,  H01L21/768

CPC分类号： H01L29/4966 ,  C23C14/046 ,  C23C14/345 ,  C23C14/35 ,  C23C14/5826 ,  C23C14/586 ,  H01J37/3402 ,  H01J37/3447 ,  H01J37/3452 ,  H01L21/28088 ,  H01L21/2855 ,  H01L21/32051 ,  H01L21/321 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76856 ,  H01L21/823842 ,  H01L29/66545

摘要： It is an object of the present invention to provide an electronic component manufacturing method, capable of suppressing reduction in a trench opening and suppressing diffusion of a metal film embedded in a trench. An embodiment of the present invention is an electronic component manufacturing method, including the steps of: forming a first electrode constituting layer (e.g., a TiAl film) in a recess (e.g., a trench) formed in a workpiece; forming an ultrathin barrier layer (e.g., a TiAlN film) by forming a nitride layer by plasma-nitriding a surface of the first electrode constituting layer; and forming a second electrode constituting layer (e.g., an Al wiring layer) on the ultrathin barrier layer.

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种电子部件制造方法，能够抑制沟槽开口的减少和抑制嵌入在沟槽中的金属膜的扩散。 本发明的一个实施例是一种电子部件制造方法，包括以下步骤：在形成在工件中的凹部（例如沟槽）中形成第一电极构成层（例如TiAl膜）; 通过等离子体氮化第一电极构成层的表面形成氮化物层来形成超薄势垒层（例如，TiAlN膜）; 以及在所述超薄阻挡层上形成第二电极构成层（例如Al布线层）。

公开(公告)号：US20160115997A1

公开(公告)日：2016-04-28

申请号：US14890525

申请日：2014-04-23

申请人： SCHAEFFLER TECHNOLOGIES AG & CO. KG

发明人： Bertram Haag ,  Yashar Musayev ,  Walter Holweger ,  Toni Blass ,  Tim Matthias Hosenfeldt ,  Arbogast Grunau

IPC分类号： F16C33/62 ,  C23C14/58 ,  F16C33/64 ,  C23C14/16

CPC分类号： F16C33/62 ,  C23C14/165 ,  C23C14/5806 ,  C23C14/5853 ,  C23C14/586 ,  F16C33/64 ,  F16C2202/04 ,  F16C2223/60 ,  F16C2240/60 ,  F16C2360/31

摘要： A coated component, in particular to a rolling bearing part, made from a metallic substrate (2), and a PVD coating (3), which is applied to the substrate (2), formed of chromium and having a thickness of less than 2 μm, wherein the PVD coating (3) forms the surface of the component, and a compound of chromium and at least one further element is formed on the component surface.

摘要翻译： 特别是由金属基材（2）制成的涂覆部件，特别是滚动轴承部件，以及施加到基材（2）上的PVD涂层（3），其由铬形成并具有小于2的厚度 μm，其中所述PVD涂层（3）形成所述部件的表面，并且在所述部件表面上形成铬化合物和至少一个另外的元件。

公开(公告)号：US20150129087A1

公开(公告)日：2015-05-14

申请号：US14078638

申请日：2013-11-13

申请人： Medtronic, Inc.

发明人： Michael B. Hintz

IPC分类号： C23C8/24 ,  C23C28/00 ,  C23C8/36

CPC分类号： C23C8/24 ,  C23C8/36 ,  C23C14/16 ,  C23C14/225 ,  C23C14/586 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34

摘要： The disclosure describes a method of making porous nitrogenized titanium coated substrates. The process includes depositing titanium on a substrate using a glancing angle deposition (GLAD) process and then nitrogenizing the deposited titanium using a thermal or plasma-assisted thermal gaseous nitrogenizing process.

摘要翻译： 本公开描述了制造多孔氮化钛涂覆的基材的方法。 该方法包括使用扫塌角沉积（GLAD）工艺在基底上沉积钛，然后使用热或等离子体辅助的热气化氮化工艺使沉积的钛氮化。

公开(公告)号：US20150079481A1

公开(公告)日：2015-03-19

申请号：US14146446

申请日：2014-01-02

申请人： APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： Lizhong SUN ,  Chong JIANG ,  Byung-Sung Leo KWAK ,  Joseph G. GORDON, II

IPC分类号： C23C14/34 ,  H01M6/40

CPC分类号： H01M6/40 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/08 ,  C23C14/5826 ,  C23C14/586

摘要： A method of fabricating an electrochemical device comprising a lithium metal electrode, may comprise: providing a substrate with a lithium metal electrode on the surface thereof; depositing a first layer of dielectric material on the lithium metal electrode, the depositing the first layer being sputtering Li3PO4 in an argon ambient; after the depositing the first layer, inducing and maintaining a nitrogen plasma over the first layer of dielectric material to provide ion bombardment of the first layer for incorporation of nitrogen therein; and after the depositing, the inducing and the maintaining, depositing a second layer of dielectric material on the ion bombarded first layer of dielectric material, the depositing the second layer being sputtering Li3PO4 in a nitrogen-containing ambient. Electrochemical devices may comprise a barrier layer between the lithium metal electrode and the LiPON electrolyte. Tools configured for fabricating the electrochemical devices comprising lithium metal electrodes are also described.

摘要翻译： 制造包含锂金属电极的电化学装置的方法可以包括：在其表面上提供具有锂金属电极的基板; 在锂金属电极上沉积第一层电介质材料，沉积第一层是在氩气环境中溅射Li 3 PO 4; 在沉积第一层之后，在第一层电介质材料上诱导和维持氮等离子体以提供用于在其中引入氮的第一层的离子轰击; 并且在沉积之后，引入和维持沉积第二层电介质材料在离子轰击的第一介电材料层上，沉积第二层是在含氮环境中溅射Li 3 PO 4。 电化学装置可以包括在锂金属电极和LiPON电解质之间的阻挡层。 还描述了构造用于制造包括锂金属电极的电化学装置的工具。

公开(公告)号：US20120318664A1

公开(公告)日：2012-12-20

申请号：US13523790

申请日：2012-06-14

申请人： Chong Jiang ,  Byung-Sung Leo Kwak

发明人： Chong Jiang ,  Byung-Sung Leo Kwak

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/0676 ,  C23C14/08 ,  C23C14/5826 ,  C23C14/586

摘要： A method of depositing a dielectric thin film may include: depositing a thin layer of dielectric; stopping deposition of the dielectric layer, and modifying the gas in the chamber if desired; inducing and maintaining a plasma in the vicinity of the substrate to provide ion bombardment of the deposited layer of dielectric; and repeating the depositing, stopping and inducing and maintaining steps until a desired thickness of dielectric is deposited. A variation on this method may include, in place of the repeating step: depositing a thick layer of lower quality dielectric; depositing a thin layer of high quality dielectric; stopping deposition of the dielectric layer, and modifying the gas in the chamber if desired; and inducing and maintaining a plasma in the vicinity of the substrate to provide ion bombardment of the deposited layer of dielectric. The thick layer of dielectric may be deposited more rapidly than the thin layers.

摘要翻译： 沉积电介质薄膜的方法可以包括：沉积介电薄层; 阻止介电层的沉积，如果需要则改变腔中的气体; 在衬底附近诱导和维持等离子体，以提供沉积的电介质层的离子轰击; 并重复沉积，停止和引导和维持步骤，直到沉积所需的电介质厚度。 该方法的变型可以包括：代替重复步骤：沉积较厚质量的电介质层; 沉积一层高质量的电介质; 阻止介电层的沉积，如果需要则改变腔中的气体; 以及在衬底附近诱导和维持等离子体，以提供沉积的电介质层的离子轰击。 电介质的厚层可以比薄层更快地沉积。

公开(公告)号：US20120006785A1

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：US13103871

申请日：2011-05-09

申请人： Vladimir Gorokhovsky ,  Brad B. Heckerman ,  Yuhang Cheng

发明人： Vladimir Gorokhovsky ,  Brad B. Heckerman ,  Yuhang Cheng

IPC分类号： C23F1/00 ,  C23C16/22 ,  C23C16/02 ,  C23C16/56 ,  C23C16/52 ,  C23C16/50 ,  C23C14/48 ,  C23C8/36 ,  C23C8/00 ,  C22F1/00 ,  C23C8/02 ,  C23C8/80 ,  C23C14/02 ,  C23C14/58 ,  C23C16/06

CPC分类号： C23C14/0641 ,  A61B17/1615 ,  A61B2017/1602 ,  A61C3/02 ,  A61C5/42 ,  C21D6/004 ,  C21D6/005 ,  C21D6/008 ,  C22C14/00 ,  C22C19/03 ,  C22C38/001 ,  C22C38/002 ,  C22C38/02 ,  C22C38/04 ,  C22C38/06 ,  C22C38/20 ,  C22C38/22 ,  C22C38/42 ,  C22C38/44 ,  C22C38/50 ,  C22F1/10 ,  C22F1/183 ,  C23C8/02 ,  C23C8/20 ,  C23C8/24 ,  C23C8/36 ,  C23C14/021 ,  C23C14/022 ,  C23C14/024 ,  C23C14/025 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/0611 ,  C23C14/0635 ,  C23C14/067 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/0682 ,  C23C14/14 ,  C23C14/5806 ,  C23C14/5826 ,  C23C14/586 ,  C23C14/588 ,  C23C16/0227 ,  C23C16/0236 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/0281 ,  C23C16/06 ,  C23C16/24 ,  C23C16/26 ,  C23C16/28 ,  C23C16/32 ,  C23C16/34 ,  C23C16/38 ,  C23C16/42 ,  C23C16/56 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/252 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/30

摘要： A low friction top coat over a multilayer metal/ceramic bondcoat provides a conductive substrate, such as a rotary tool, with wear resistance and corrosion resistance. The top coat further provides low friction and anti-stickiness as well as high compressive stress. The high compressive stress provided by the top coat protects against degradation of the tool due to abrasion and torsional and cyclic fatigue. Substrate temperature is strictly controlled during the coating process to preserve the bulk properties of the substrate and the coating. The described coating process is particularly useful when applied to shape memory alloys.

摘要翻译： 在多层金属/陶瓷粘合剂涂层上的低摩擦面涂层提供具有耐磨性和耐腐蚀性的导电基底，例如旋转工具。 顶涂层进一步提供低摩擦和抗粘性以及高压缩应力。 由顶部涂层提供的高压缩应力防止由于磨损和扭转和循环疲劳导致的刀具劣化。 在涂覆过程中严格控制基材温度以保持基材和涂层的本体特性。 当应用于形状记忆合金时，所述的涂覆方法特别有用。

公开(公告)号：US07311975B2

公开(公告)日：2007-12-25

申请号：US10893532

申请日：2004-07-19

申请人： Jochen Butz ,  Vijayen S. Veerasamy ,  Scott V. Thomsen ,  Anton Dietrich

发明人： Jochen Butz ,  Vijayen S. Veerasamy ,  Scott V. Thomsen ,  Anton Dietrich

IPC分类号： B32B17/06

CPC分类号： C03C17/36 ,  B32B17/10036 ,  B32B17/10174 ,  B32B17/10761 ,  C03C17/002 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681 ,  C03C17/3694 ,  C03C2217/78 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/32 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/185 ,  C23C14/3442 ,  C23C14/35 ,  C23C14/5833 ,  C23C14/586

摘要： A coated article is provided that may be used as a vehicle windshield, insulating glass (IG) window unit, or the like. An ion beam is used to treat an infrared (IR) reflecting layer(s) of such a coated article. Advantageously, this has been found to improve sheet resistance (Rs) properties, emittance, solar control properties, and/or durability of the coated article.

摘要翻译： 提供了可用作车辆挡风玻璃，中空玻璃（IG）窗单元等的涂覆制品。 使用离子束来处理这种涂覆制品的红外（IR）反射层。 有利地，已经发现这已经提高了涂层制品的薄层电阻（发射率），发射率，太阳控制性能和/或耐久性。