公开(公告)号：US08310651B2

公开(公告)日：2012-11-13

申请号：US12363144

申请日：2009-01-30

申请人： Peter Paul Hempenius ,  Johan Hendrik Geerke ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Nicolaas Bernardus Roozen ,  Erwin Antonius Henricus Fransiscus Van Den Boogaert ,  Alexander Cornelis Geerlings

发明人： Peter Paul Hempenius ,  Johan Hendrik Geerke ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Nicolaas Bernardus Roozen ,  Erwin Antonius Henricus Fransiscus Van Den Boogaert ,  Alexander Cornelis Geerlings

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833

摘要： In an embodiment, a lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, and a passive noise damper configured to dampen gas borne noise caused by movement of a movable part of the lithographic apparatus.

摘要翻译： 在一个实施例中，光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 构造成支撑图案形成装置的支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束; 构造成保持基板的基板台; 被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统以及被配置为抑制由光刻设备的可移动部分的移动引起的气体传播噪声的被动噪声阻尼器。

公开(公告)号：US20090195763A1

公开(公告)日：2009-08-06

申请号：US12331870

申请日：2008-12-10

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Peter Paul Hempenius ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Nicolaas Bernardus Roozen ,  Erwin Antonius Henricus Fransiscus Van Den Boogaert ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Peter Paul Hempenius ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Nicolaas Bernardus Roozen ,  Erwin Antonius Henricus Fransiscus Van Den Boogaert ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G10K11/178 ,  G03B27/42 ,  G03F7/709 ,  G10K2210/129

摘要： A lithographic apparatus is arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate. The lithographic apparatus includes an acoustical sensor to measure a first acoustic vibration in a sensor measurement area in the lithographic apparatus. An actuator is provided to generate a second acoustic vibration in at least an area of the lithographic apparatus. Further, a control device is provided having a sensor input to receive a sensor signal of the acoustical sensor and an actuator output to provide an actuator drive signal to the actuator. The control device is arranged to drive the actuator so as to let the second acoustic vibration at least partly compensate in the area the first acoustic vibration.

摘要翻译： 光刻设备被布置成将图案从图案形成装置转印到基底上。 光刻设备包括用于测量光刻设备中传感器测量区域中的第一声振动的声学传感器。 提供致动器以在光刻设备的至少一个区域中产生第二声振动。 此外，提供了具有传感器输入以接收声学传感器的传感器信号和致动器输出以向致动器提供致动器驱动信号的控制装置。 控制装置被布置成驱动致动器，以使得第二声振动在该区域中至少部分地补偿第一声振动。

公开(公告)号：US09378722B2

公开(公告)日：2016-06-28

申请号：US12331870

申请日：2008-12-10

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Peter Paul Hempenius ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Nicolaas Bernardus Roozen ,  Erwin Antonius Henricus Fransiscus Van den Boogaert ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Peter Paul Hempenius ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Nicolaas Bernardus Roozen ,  Erwin Antonius Henricus Fransiscus Van den Boogaert ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

IPC分类号： G10K11/178 ,  G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G10K11/178 ,  G03B27/42 ,  G03F7/709 ,  G10K2210/129

摘要： A lithographic apparatus is arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate. The lithographic apparatus includes an acoustical sensor to measure a first acoustic vibration in a sensor measurement area in the lithographic apparatus. An actuator is provided to generate a second acoustic vibration in at least an area of the lithographic apparatus. Further, a control device is provided having a sensor input to receive a sensor signal of the acoustical sensor and an actuator output to provide an actuator drive signal to the actuator. The control device is arranged to drive the actuator so as to let the second acoustic vibration at least partly compensate in the area the first acoustic vibration.

摘要翻译： 光刻设备被布置成将图案从图案形成装置转印到基底上。 光刻设备包括用于测量光刻设备中传感器测量区域中的第一声振动的声学传感器。 提供致动器以在光刻设备的至少一个区域中产生第二声振动。 此外，提供了具有传感器输入以接收声学传感器的传感器信号和致动器输出以向致动器提供致动器驱动信号的控制装置。 控制装置被布置成驱动致动器，以使得第二声振动在该区域中至少部分地补偿第一声振动。